模板與掩模分配

定向自組裝與多重成像混合光刻可以滿足更高的分辨率要求，在這種混合光刻中，需要將通孔進行分組（grouping），再將存在沖突的分組（templates）分配到不同的掩模（mask），以減小沖突，這種問題就是混合光刻中的模版與掩模分配。

模板與掩模分配基本信息

中文名 模板與掩模分配 外文名 TMA templates and maskassignment

對于一個通孔層的設(shè)計，隨著通孔間最小間距的不斷減小，傳統(tǒng)光刻單層曝光的分辨率不能實現(xiàn)，需要光刻分辨率增強技術(shù)。

傳統(tǒng)光刻 DP/TP是一種方法，但這樣增加了制造成本。DSA可以將小于光刻分辨距離的兩個通孔分在一個group中，從而節(jié)省一層mask。

但是當group的數(shù)量不斷增加，由于光刻以及DSA本身的限制條件，單層mask結(jié)合DSA已經(jīng)不能滿足分辨率的要求，所以DSA MP混合光刻可以滿足更高的分辨率要求。在這種混合光刻中，需要將通孔進行分組（grouping），再將存在沖突的分組（templates）分配到不同的掩模（mask），以減小沖突，這種問題就是DSA MP混合光刻中的模版與掩模分配（TMA）問題。

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模板與掩模分配造價信息

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材料名稱 規(guī)格/型號 除稅
信息價		 含稅
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編制單位 年度 單位：元 項目 行次 本年實際 上年實際 一、凈利潤 1 加：年初未分配利潤 2 一般風險準備轉(zhuǎn)入 3 其他轉(zhuǎn)入 4 二、可供分配的利潤 7 -￥ -￥ 減：提取一般風險準備 8 提取法定盈余公積 9 提取法定公益金 10 提取職工獎勵及福利基金 * 11 提取儲備基金 * 12 提取企業(yè)發(fā)展基金 * 13 三、可供投資者分配的利潤 16 -￥ -￥ 減：應付優(yōu)先股股利 17 提取任意盈余公積 18 應付普通股股利 19 轉(zhuǎn)作資本（或股本）的普通股股利 20 四、未分配利潤 25 -￥ -￥ 帶“ *”的項目

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評分： 4.6

本文論述了竹膠合板的特點、配模及支撐方案和安裝施工工藝及質(zhì)量要求.

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旦晶圓片空白基板完成后，就必須做好掩模 。一個典型的薄膜掩模制造的附加程序為：一層薄的鉭/金電鍍基底淀積在做好的空白基板上，而且一層厚的模板膠被旋涂覆并烘烤。薄的鉻層被淀積在模板膠上，再涂上光刻膠。

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日本凸版印刷公司將在2018年度內(nèi)開始在中國生產(chǎn)最尖端半導體的掩模板（光掩模，Photomask）。伴隨半導體廠商相繼在中國新建工廠，中國在全球市場上存在感日益增強。凸版印刷計劃通過在中國當?shù)厣a(chǎn)最尖端產(chǎn)品來縮短交貨期，2020年之前把在華市場份額由目前的5成提高到7成。

掩模板是將半導體電路印到硅晶圓上時使用的電路圖案原板。電路線寬越窄，半導體性能越高，但迄今為止凸版印刷在上海生產(chǎn)的掩模板最多只能印上線寬為90納米的電路。

凸版印刷最早將在2018年春季開始生產(chǎn)支持65納米線寬的掩模板，2018年度內(nèi)開始生產(chǎn)支持14納米線寬的產(chǎn)品。不僅將把日本的設(shè)備引入中國，還將進行新的設(shè)備投資。投資額可能會達到數(shù)十億日元。

凸版印刷此前從日本或臺灣的生產(chǎn)基地向大陸出口最新的掩模板。如果在大陸當?shù)厣a(chǎn)，就能省去通關(guān)手續(xù)，可使交貨期縮短3天左右。

包括大型半導體代工企業(yè)中芯國際集成電路制造（SMIC）的新工廠在內(nèi)，中國未來幾年內(nèi)預計將有十余家半導體工廠開工生產(chǎn)。據(jù)國際半導體設(shè)備與材料協(xié)會（SEMI）介紹，2017年中國的掩模板需求占全球的3％。有觀點認為，2020年這一數(shù)字將提高至20％。

在傳統(tǒng)商業(yè)印刷業(yè)務逐漸縮小的背景下，凸版印刷強化了收益良好的掩模板業(yè)務。計劃在中國生產(chǎn)最尖端產(chǎn)品，把中國在掩模板業(yè)務上的銷售占比由目前的1成提高至超過兩成，同時將全球市場份額由3成多提高到4成。

在其他企業(yè)方面，大日本印刷公司也加入掩模板競爭，計劃今后5年內(nèi)向中國市場投資180億日元。將在福建建設(shè)工廠，2019年春季前后開始量產(chǎn)。

來源：日經(jīng)

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在平面晶體管和集成電路的制造過程中，要進行多次光刻。為此，必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形，按照選定的方法，制備出生產(chǎn)上所要求的尺寸和精度的掩模圖案，并以一定的間距和布局，將圖案重復排列于掩模基片上，進而復制批量生產(chǎn)用版，供光刻工藝曝光之用。

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