熱反射鍍膜玻璃

熱反射鍍膜玻璃，又稱陽光控制膜玻璃，是在優(yōu)質(zhì)浮法玻璃表面用真空磁控濺射的方法鍍一至多層金屬或化合物薄膜而成。

薄膜的主要功能是按需要的比例控制太陽直接輻射的反射、透過和吸收，并產(chǎn)生需要的反射顏色。熱反射鍍膜玻璃因此而具有以下特點： 有效限制太陽趨勢輻射的入射量，遮陽效果明顯。豐富多彩的抽射色調(diào)和極佳的裝飾效果。對室內(nèi)物體和建筑構件具有良好視線遮蔽功能。較理想的可見光透過比和反射比。減弱紫外光的透過。

熱反射鍍膜玻璃的生產(chǎn)工藝一般分為離線和在線兩大類。離線法生產(chǎn)熱反射鍍膜玻璃的工藝主要有真空熱蒸發(fā)和磁控濺射等。在線生產(chǎn)熱反射鍍膜玻璃的工藝目前主要有浮法在線噴涂法。

真空蒸發(fā)法：真空蒸發(fā)法是PVD技術中發(fā)展最早、成本最低的方法。該法是將合金絲材料裝在鎢螺旋蒸發(fā)器上，在高真空的情況下（真空度達10^-2Pa），通過大電流、短時間的快蒸，使合金絲原子或分子沉積到玻璃表面上，從而形成牢固的合金膜。采用真空蒸發(fā)鍍膜技術生產(chǎn)鍍膜玻璃的工藝流程為：玻璃切片→清洗→蒸發(fā)鍍膜→高溫烘烤斗成品包裝。蒸發(fā)鍍膜過程中，真空室真空度、蒸發(fā)電壓和時間、合金絲材料等對膜層的透光性能、反射性能以及膜層的色澤有重要的影響。真空蒸發(fā)法制備鍍膜玻璃的投資小，成本低，但只能鍍制單層金屬膜，裝飾效果不佳，而且玻璃膜層均勻性、耐酸堿性和抗變色性能都較差。

磁控濺射法：真空磁控濺射鍍膜方法是將成膜材料作為靶子，在陰極上通550 V的負高電壓后，當真空度達到一定程度時，便產(chǎn)生輝光放電等離子體，通人真空室的濺射氣體離解成帶正電的離子和電子，帶正電的氣體離子被陰極表面吸引，并沖擊靶子，使靶子發(fā)射出原子，然后沉積到玻璃表面上，逐漸積累形成膜，磁鐵產(chǎn)生的磁場把從陰極表面發(fā)射的再生電子束縛住，這樣，使電子和氣體原子磁控機會增加，而產(chǎn)生更多的離子，提高了濺射速度。真空磁控濺射鍍膜法按使用電源的不同可分為直流磁控濺射鍍膜法及射頻磁控濺射鍍膜法。按磁控濺射鍍膜玻璃的工藝為：選片、切片→清洗烘干→抽真空→濺射→真空轉換。

真空磁控濺射鍍膜法能根據(jù)不同需要制造出具有多膜層和不同光學特性的鍍膜玻璃。該法的操作參數(shù)易于控制，產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性高。真空磁控濺射鍍膜法所具備的優(yōu)異特性，使其很快發(fā)展為國內(nèi)外生產(chǎn)鍍膜玻璃的最主要方法。目前發(fā)達工業(yè)國家普遍采用該技術生產(chǎn)鍍膜玻璃。但該法也存在占地面積大、設備投資大、生產(chǎn)率低、經(jīng)營成本高等缺點，而且磁控鍍膜玻璃制品多數(shù)不能進行鋼化等深加工處理。

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