三溴化硼計算化學數據

1、疏水參數計算參考值（XlogP）：無

2、氫鍵供體數量：0

3、氫鍵受體數量：0

4、可旋轉化學鍵數量：0

5、互變異構體數量：無

6、拓撲分子極性表面積（TPSA）：0

7、重原子數量：4

8、表面電荷：0

9、復雜度：8

10、同位素原子數量：0

11、確定原子立構中心數量：0

12、不確定原子立構中心數量：0

13、確定化學鍵立構中心數量：0

14、不確定化學鍵立構中心數量：0

15、共價鍵單元數量：1

1、摩爾折射率：28.67

2、摩爾體積（m3/mol）：90.0

3、等張比容（90.2K）：225.5

4、表面張力（dyne/cm）：39.3

5、介電常數：無可用的

6、極化率（10-24cm3）：11.36

7、單一同位素質量：247.764296 Da

8、標稱質量：248 Da

9、平均質量：250.523 Da

CAS號：10294-33-4

MDL號：MFCD00011312

EINECS號：233-657-9

RTECS號：ED7400000

R14:Reacts violently with water.;

R26/28:Very toxic by inhalation and if swallowed.;

R35:Causes severe burns.;

S26:In case of contact with eyes, rinse immediately with plenty of water and seek medical advice.;

S28A:After contact with skin, wash immediately with plenty of water.;

S36/37/39:Wear suitable protective clothing, gloves and eye/face protection.;

S45:In case of accident of if you feel unwell, seek medical advice immediately (show the label where possible).;

S9:Keep container in a well-ventilated place.;

1.重要的工業(yè)原料，廣泛用于玻璃、化工、輕工、紡織、漂染、冶金、石油加工、醫(yī)藥、食品等方面。燒堿主要用于人造纖維、造紙、染料、肥皂、塑料、醫(yī)藥、農藥等方面。小蘇打主要用于食品、塑料、橡膠、醫(yī)藥、印染、鞣革、農業(yè)浸種等領域。2.用作半導體的摻雜材料，有機合成的催化劑、中間體和溴化劑。是制造高純硼及其他有機硼化合物的原料。3.是一種用途廣泛的合成試劑，用作有機合成的催化劑和溴化劑，也是制造高純硼及其它有機硼化合物的原料。溴化硼可以參與促進醚鍵、胺鍵、硫醇鍵的斷裂反應，以及丙二烯、炔烴等化合物的加成反應等。它也可以用于醫(yī)藥化學領域[1]，天然產物化學領域[2]及新材料等領域。溴化硼易于和C-O鍵反應生成烷氧基硼化物和溴代烴，水解后得到相應的醇類產物。尤其在芳甲醚的斷裂反應中，溴化硼的活性明顯高于其它試劑。多取代的芳環(huán)醚化合物分別和溴化硼反應可以高收率得到相應酚類物質 (式1[3]，式2[4])。溴化硼在斷裂醚鍵后生成的溴代烴也可以發(fā)生分子內環(huán)合反應形成環(huán)化物。如多取代芳醚化合物和溴化硼反應后生成苯并呋喃類衍生物 (式3)[5]；二茂鈦化合物和溴化硼反應形成鈦雜環(huán)化物 (式4)[6]，該反應實際是首先發(fā)生鹵素交換反應，然后分子內消除反應關環(huán)而成。該反應可用于合成系列天然產物分子中的骨架結構。溴化硼很容易和丙二烯、炔烴等化合物進行加成反應。它和丙二烯反應得到 (2-溴烯丙基)二溴硼烷 (式5)[7]，該化合物再和苯甲醚反應得到取代二苯氧基硼烷。溴化硼和炔烴通常進行順式加成反應得到高度立體選擇性的產物 (式6)[7]。4.用于有機硼化合物和高純硼的制取，也用作半導體的摻雜材料，有機合成的催化劑、溴化劑等。[20]

1.直接合成法 將干燥的元素硼粉裝入管式反應爐的反應管中，為使反應能充分進行，反應管內應放入一定量的填料，填料材質與管壁同。將反應管加熱至850℃，另外將溴素在溴釜中也同時加熱至微沸，然后通人反應管。反應生成的溴化硼液體在脫溴器中與活性炭、鋅粉和鋁屑共同加熱回流至生成的溴化硼為無色為止，再經粗餾、精餾，制得完全無色的溴化硼成品。其反應方程式如下：

圖XIII-10 三氯化硼的制備裝置

圖XIII-11 三氯化硼的合成裝置

2.用三氟化硼制備?？梢允褂脠D所示的裝置。1L圓底燒瓶用一根直徑約30mm、長25cm的玻璃管與500mL蒸餾燒瓶的底熔接在一起。三氟化硼的進料管通過軟木塞插到蒸餾燒瓶之中，并延伸到大燒瓶的中央。500mL燒瓶是為避免大量三氯化鋁與三氯化硼一起升華，起著冷凝器的作用。蒸餾燒瓶上有支管與U形管連接，U形管用干冰甲醇冷卻，在U形管的出口裝有干燥管。在反應燒瓶中裝入67g無水三氯化鋁(0.5mol)。將BF3發(fā)生裝置通過硫酸洗氣瓶與反應燒瓶連接起來。發(fā)生裝置必須是足以發(fā)生132g(2mol)BF3的才行。BF3的流速大約為30min通過2mol的氣體。在裝置內通入BF3將空氣逐出以后，用小火焰慢慢地加熱裝有三氯化鋁的反應燒瓶。當溫度上升時，反應立即開始，繼續(xù)加熱，再用兩個加熱器強烈加熱兩個燒瓶，使產物從反應混合物中分離出來，直到三氯化硼全部蒸餾出來為止。分離出生成的三氯化硼后，加熱時，則三氟化鋁就成為白色粉末，從燒瓶器壁上剝落下來。三氯化硼則集聚在U形管中。反應結束以后，將U形管取下密封?？捎谜麴s法進行提純?？傻?7g產品(80%)。

3.用KBF4制備?？捎弥品?的裝置，以KBF4代替BF3。用133g無水三氯化鋁(1mol)及62g KBF4(05mol)，用油浴加熱4h，緩緩地使溫度從150℃上升至175℃。生成的三氯化硼用液氮冷凝，再進行蒸餾。可得30g產品(對KBF4而言，收率為52%)。

儲存注意事項[19] 儲存于陰涼、干燥、通風良好的庫房。遠離火種、熱源。包裝必須密封，切勿受潮。應與堿類、醇類等分開存放，切忌混儲。不宜久存，以免變質。儲區(qū)應備有泄漏應急處理設備和合適的收容材料。

1.性狀：無色或稍帶黃色的發(fā)煙液體，有強烈的刺激性臭味。[8]

2.熔點（℃）：-46[9]

3.沸點（℃）：90~91.2[10]

4.相對密度（水=1）：2.65[11]

5.飽和蒸氣壓（kPa）：5.33（14℃）[12]

6.辛醇/水分配系數：1.43[13]

7.溶解性：溶于四氯化碳、二氧化硫（液體）、二硫化碳。[14]

中文名稱:三溴化硼

英文名稱:Boron tribromide

中文別名:天然堿;溴化硼;碳酸鈉石;三溴化硼

英文別名:Boron tribromide solution; Borontribromidedichloromethane; Boronbromideelecgrcolorlesspaleyellowliq; Boron bromide; BBr3; Borane,tribromo-; Boron,tribromo-; boronbromide(bbr3); tribromo-boran; tribromoborane; tribromoboron; tribromo-Boron

CAS號:10294-33-4

分子式:BBr3

分子量:250.523

該物質對環(huán)境可能有危害，對水體應給予特別注意。

1.易被水和醇等分解，受熱會爆炸，對人體組織有強烈刺激作用，其蒸氣劇毒，腐蝕性較強，具有強吸水性，見光、遇熱易分解，接觸空氣冒白煙。為強路易式酸，能與堿反應形成絡合物和加成物。

2.在干燥空氣中不變化。溶于無機酸并劇烈起泡。天然堿產于不同的鹽湖沉積物中，主要產于堿湖及古代沉積礦床中，常與針碳鈉鈣石、水堿、泡堿、石鹽、芒硝、鈣芒硝、無水芒硝和石膏共生。遇空氣中的濕氣很容易水解。

3.穩(wěn)定性[15] 穩(wěn)定

4.禁配物[16] 堿類、水、醇類

5.避免接觸的條件[17] 受熱、潮濕空氣、光照

6.聚合危害[18] 不聚合

產品簡介: 無色或稍帶黃色的發(fā)煙液體，有強烈的刺激性臭味。臨界溫度300℃，折射率1.5312。

產品簡介: 二硼化鈦為灰白色六方形晶體或粉末，無味。其熔點2980℃，密度4.5~4.52，硬度(Hi)3600。它具有優(yōu)良的抗氧化性及導電性能。平均粒徑D=4~8μ。

產品簡介: 熔點1760℃，抗氧化性能好，高溫強度大。

一、性質:

六硼化鈣的分子式CaB6，是黑灰色粉末，溶點為2235℃，相對密度(15℃)2.33g/cm3，硬度(莫氏)9，不溶于鹽酸、氫氟酸、稀硫酸。不溶于水，能被氯、氟、硝酸及過氧化氫等氧化劑所侵蝕，與堿反應很慢。在常溫下，空氣中穩(wěn)定不易燃。具有半導體性質和中子吸收性能、無毒性。

二、質量:

B≥55.5% Ca≥30% C≤8%

粒度:20#~60# 20#~80# -100# -325# -400#或按客戶要求生產

三、用途:

1、用作鎂碳磚中防氧化劑;

2、用作白云石炭和鎂白云石炭耐火材料的抗氧化、抗侵蝕和提高熱態(tài)強度的含硼添加劑;

3、用作高導銅提高強度的脫氧除氣劑和無氧銅、純銅鑄件的脫氧劑

4、用作核工業(yè)防中子的新型材料;

5、用作居禮溫度900K的自旋電子組件用的新型半導體材料;

6、用作制造三氯化硼(BCL3)和無定型硼的原料;

7、用作制造高純度金屬硼化物(TiB2、ZrB2、HfB2等)以及高純度硼合金(Ni-B、Co-B、Cu-B等)的原材料;

8、用作制造含觸媒劑鈣-硼氮化物(Ca3B2N4)和六方氮化物的混合物，用其生產性能優(yōu)異的晶體立方氮化硼;

9、用作硼合金鑄鐵的脫硫除氧增硼劑;

10、用作硼鋼的脫硫除氧增硼劑;

11、特殊鋼材內的細晶劑。

按材質分,有無機光導纖維和高分子光導纖維，目前在工業(yè)上大量應用的是前者。無機光導纖維材料又分為單組分和多組分兩類。單組分即石英，主要原料為四氯化硅、三氯氧磷和三溴化硼等。其純度要求銅、鐵、鈷、鎳、錳、鉻、釩等過渡金屬離子雜質含量低于10ppb。除此之外,OH-離子要求低于10ppb。石英纖維已被廣泛使用。多組分的原料較多，主要有二氧化硅、三氧化二硼、硝酸鈉、氧化鉈等。這種材料尚未普及。高分子光導纖維是以透明聚合物制得的光導纖維，由纖維芯材和包皮鞘材組成。芯材為高純度高透光性的聚甲基丙烯酸甲酯或聚苯乙烯抽絲制得的纖維，外層為含氟聚合物或有機硅聚合物等。

高分子光導纖維的光損耗較高，1982年，日本電信電報公司利用氘化甲基丙烯酸甲酯聚合抽絲作芯材,光損耗率降低到20dB/km。但高分子光導纖維的特點是能制大尺寸，大數值孔徑的光導纖維，光源耦合效率高，撓曲性好，微彎曲不影響導光能力，配列、粘接容易，便于使用，成本低廉。但光損耗大，只能短距離應用。光損耗在10～100dB/km的光導纖維，可傳輸幾百米。