單偉偉,副教授、博士生導(dǎo)師。2009年1月畢業(yè)于清華大學(xué)微電子學(xué)研究所,獲工學(xué)博士學(xué)位。
黃見秋,東南大學(xué)副教授。2004年于東南大學(xué)獲學(xué)士學(xué)位,2011年在東南大學(xué)獲博士學(xué)位并留校任教。
劉新寧,東南大學(xué)講師,主要從數(shù)字低功耗電路研究,有5年以上VLSI課程教學(xué)經(jīng)驗(yàn)。
楊軍,東南大學(xué)教授,博士生導(dǎo)師。
2019年1月8日,該課程被中華人民共和國(guó)教育部認(rèn)定為“2018年國(guó)家精品在線開放課程”。
學(xué)習(xí)VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程,學(xué)習(xí)者需要具備一定的半導(dǎo)體原理和器件知識(shí),必須具備一定的電路知識(shí)基礎(chǔ)。
書名 |
中譯本 |
作者 |
譯者 |
出版社 |
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《Digital Integrated Circuits, A Design Perspective》 |
《數(shù)字集成電路-電路、系統(tǒng)與設(shè)計(jì)》 |
Jan.M.Rabaey, Anantha Chandrakasan |
周潤(rùn)德 |
電子工業(yè)出版社 |
《VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ) (第三版)》 |
- |
李偉華 |
- |
(注:表格內(nèi)容參考資料)
根據(jù)地基承載力確定基礎(chǔ)尺寸、埋深,根據(jù)承臺(tái)內(nèi)力確定承臺(tái)高度,并進(jìn)行配筋。并進(jìn)行抗沖切和抗傾覆驗(yàn)算。注意最小配筋率等構(gòu)造。
照明設(shè)計(jì)基礎(chǔ)知識(shí)有哪些?
在現(xiàn)代家居生活中,燈飾的作用不僅僅只限于照明,燈飾更是一件藝術(shù)品,一件裝飾品,隨著人們生活品味的提高,對(duì)燈飾的要求也在逐步提高,但是小編提醒消費(fèi)者在選擇燈飾時(shí)一定要“因地制宜燈飾在藝術(shù)處理上,應(yīng)根據(jù)整...
通過學(xué)習(xí)VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程,了解VLSI系統(tǒng)設(shè)計(jì)的方法與技術(shù);掌握MOS器件的基本結(jié)構(gòu)、模型與特性,掌握基本的組合邏輯電路和時(shí)序邏輯電路的原理;了解半導(dǎo)體工藝基本過程;認(rèn)識(shí)集成電路的基本版圖;掌握集主要的成電路設(shè)計(jì)技術(shù),建立系統(tǒng)集成和系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)的思想。具備開展集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)知識(shí)和基本方法。
第一章 概論 知識(shí)點(diǎn)1-課程介紹 知識(shí)點(diǎn)2-微電子發(fā)展史和摩爾定律 補(bǔ)充:從沙子到CPU-芯片是如何制造的 知識(shí)點(diǎn)3-系統(tǒng)與系統(tǒng)集成 知識(shí)點(diǎn)4:VLSI設(shè)計(jì)方法 調(diào)研你手機(jī)的應(yīng)用處理器信息 第一章測(cè)試 第二章 MOS晶體管原理 知識(shí)點(diǎn)1-mos晶體管結(jié)構(gòu) 知識(shí)點(diǎn)2-MOS晶體管的工作原理 知識(shí)點(diǎn)3-MOS晶體管的I-V方程 知識(shí)點(diǎn)4-MOS管的轉(zhuǎn)移特性和PMOS管的I-V特性、耗盡型MOS管及MOS器件的頻率特征 知識(shí)點(diǎn)5-CMOS結(jié)構(gòu)及其優(yōu)勢(shì) 知識(shí)點(diǎn)6-短溝器件的工作原理和I-V方程 知識(shí)點(diǎn)7-MOS晶體管的二級(jí)效應(yīng) 漫談摩爾定律 第二章測(cè)試 第三章 反相器和組合邏輯電路 知識(shí)點(diǎn)1-CMOS反相器設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)2-CMOS反相器的動(dòng)態(tài)指標(biāo) 知識(shí)點(diǎn)3-CMOS邏輯門構(gòu)造-與非門及復(fù)雜門 知識(shí)點(diǎn)4-等效反相器設(shè)計(jì)方法 知識(shí)點(diǎn)5-例子-復(fù)雜門等效反相器設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)6-等效反相器練習(xí)及其修正 知識(shí)點(diǎn)7-異或門和同或門電路 知識(shí)點(diǎn)8-傳輸門 知識(shí)點(diǎn)9-三態(tài)門 第三章測(cè)試 第四章 -時(shí)序邏輯電路 知識(shí)點(diǎn)15-時(shí)序邏輯作用及狀態(tài)機(jī)舉例 知識(shí)點(diǎn)16-雙穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu)和D觸發(fā)器 知識(shí)點(diǎn)17:觸發(fā)器時(shí)序參數(shù) 知識(shí)點(diǎn)18:時(shí)序邏輯的性能優(yōu)化 知識(shí)點(diǎn)19:時(shí)序邏輯的功耗優(yōu)化 |
知識(shí)點(diǎn)20:偏差和抖動(dòng)對(duì)電路的影響 暢所欲言-你所理解的時(shí)序(timing) 第四章測(cè)試 第四章時(shí)序邏輯作業(yè) 第五章 設(shè)計(jì)與工藝接口 知識(shí)點(diǎn)1-問題的提出及選擇工藝線的原則 知識(shí)點(diǎn)2-NMOS管導(dǎo)通條件的再思考 知識(shí)點(diǎn)3-電學(xué)設(shè)計(jì)規(guī)則的形式及應(yīng)用舉例-三輸入與門的SPICE仿真 知識(shí)點(diǎn)4-幾何設(shè)計(jì)規(guī)則 知識(shí)點(diǎn)0-工藝基礎(chǔ) 第六章 單元庫(kù)設(shè)計(jì)技術(shù) 知識(shí)點(diǎn)1:?jiǎn)卧獛?kù)概念和真實(shí)單元庫(kù)示例 知識(shí)點(diǎn)2:標(biāo)準(zhǔn)單元設(shè)計(jì)技術(shù) 知識(shí)點(diǎn)3:用標(biāo)準(zhǔn)單元實(shí)現(xiàn)集成電路的過程 知識(shí)點(diǎn)4:輸入輸出單元的功能 知識(shí)點(diǎn)5:輸入單元的版圖設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)6:倒向輸出I/O PAD設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)7:其他輸出I/O PAD 知識(shí)點(diǎn)8:積木塊設(shè)計(jì)技術(shù)和單元庫(kù)小結(jié) 第六章測(cè)試 第七章 存儲(chǔ)器 知識(shí)點(diǎn)1-Memory的重要性及其分類 知識(shí)點(diǎn)2-SRAM結(jié)構(gòu) 知識(shí)點(diǎn)3-SRAM的bitcell設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)4-SRAM的decoder及SA設(shè)計(jì)、 第七章測(cè)試 第八章 數(shù)據(jù)通路設(shè)計(jì)-乘法器、加法器和移位器 知識(shí)點(diǎn)1-加法器設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)2- 乘法器設(shè)計(jì) 知識(shí)點(diǎn)3-移位器設(shè)計(jì) 第八章測(cè)試 第七章-低功耗專題 知識(shí)點(diǎn)1-低功耗專題(上) 知識(shí)點(diǎn)2-低功耗專題(下) |
(注:課程大綱排版從左到右列)
VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程教學(xué)內(nèi)容為超大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)理論與基本方法,從CMOS集成電路的主流技術(shù)介紹入手引入VLSI設(shè)計(jì)主要技術(shù)基礎(chǔ):CMOS器件基礎(chǔ),組合邏輯電路,時(shí)序邏輯電路,存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)和。主要內(nèi)容如下:第一章:VLSI設(shè)計(jì)概述,了解VLSI系統(tǒng)設(shè)計(jì)的方法與技術(shù)。第二章:MOS晶體管原理:掌握MOS器件的基本結(jié)構(gòu)、模型與特性,了解集成電路制造工藝過程。第三章:反相器和組合邏輯電路,掌握CMOS反相器和組合邏輯電路分析與設(shè)計(jì)方法。第四章:時(shí)序邏輯電路和同步設(shè)計(jì)技術(shù);第五章:設(shè)計(jì)與工藝接口,了解設(shè)計(jì)與工藝的關(guān)系及接口。第六章:?jiǎn)卧獛?kù)設(shè)計(jì)技術(shù),掌握標(biāo)準(zhǔn)單元和IO的設(shè)計(jì),建立系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)的思想;認(rèn)識(shí)集成電路的基本版圖。第七章:存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)。第八章:低功耗專題。
開課次數(shù) |
開課時(shí)間 |
學(xué)時(shí)安排 |
授課教師 |
參與人數(shù) |
---|---|---|---|---|
第1次開課 |
2017年04月28日~2017年06月30日 |
1.5小時(shí)每周 |
單偉偉、楊軍、劉新寧、黃見秋 |
938 |
第2次開課 |
2017年09月15日~2018年01月21日 |
2小時(shí)每周 |
1128 |
|
第3次開課 |
2018年03月30日~2018年06月20日 |
待定 |
單偉偉 |
1505 |
第4次開課 |
2018年09月12日~2018年12月29日 |
1.5~2小時(shí)每周 |
單偉偉、楊軍、劉新寧、黃見秋 |
1294 |
第5次開課 |
2019年03月15日~2019年07月31日 |
1.5~2.5小時(shí)每周 |
1675 |
|
第6次開課 |
2019年10月13日~2020年01月22日 |
1.5~3小時(shí)每周 |
1795 |
|
第7次開課 |
2020年02月24日~2021年03月03日 |
4016 |
(表格內(nèi)容參考資料)
VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程適合電子和計(jì)算機(jī)相關(guān)專業(yè)的本科生和研究生,也適合工作后需要重溫專業(yè)基礎(chǔ)知識(shí)的工程師。
集成電路(IntegratedCircuit)在人們的數(shù)字化生活中無處不在,是大部分電子產(chǎn)品運(yùn)行的核心,而其中大部分是超大規(guī)模集成電路(VLSI)。遵循著“摩爾定律”,其集成度、功能和性能的大幅度提升,創(chuàng)造了空前的奇跡。在此背景下,東南大學(xué)開設(shè)了VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程,帶領(lǐng)學(xué)習(xí)者進(jìn)入到超大規(guī)模集成電路的設(shè)計(jì)領(lǐng)域,了解其背后的原理。
VLSI設(shè)計(jì)基礎(chǔ)課程課是微電子專業(yè)的主干課程,專注于超大規(guī)模集成電路的設(shè)計(jì)技術(shù)。
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頁數(shù): 4頁
評(píng)分: 4.3
提出了一種適用于OFDM系統(tǒng)的快速全流水FFT處理器結(jié)構(gòu).考慮時(shí)域抽取(DIT)和頻域抽取(DIF)算法的有限字長(zhǎng)效應(yīng),采用DIF算法.首先對(duì)FFT碟形變換的復(fù)乘法進(jìn)行簡(jiǎn)化,然后提出相應(yīng)的流水線碟形處理單元(BPE),最后采用0.13μm1.08 V CMOS工藝實(shí)現(xiàn)了64點(diǎn)基2 DIF FFT處理器.綜合結(jié)果顯示,該處理器能夠工作在200 MHz,面積和功耗分別為2.9 mm2和15 mW.提出的全流水FFT處理器能夠廣泛應(yīng)用于WALN、DVB-T、ADSL以及其它基于OFDM的多載波系統(tǒng).
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頁數(shù): 未知
評(píng)分: 4.4
采用極化聚合物電光材料,設(shè)計(jì)制作出一種結(jié)構(gòu)新穎的亞微米VLSI電路正面入射式外部電光探測(cè)器。通過在探測(cè)器中引入?yún)⒖茧姌O,實(shí)現(xiàn)了電壓的標(biāo)定測(cè)量;利用1μm線寬指狀電極的電場(chǎng)分布,驗(yàn)證了觸立式極化聚合物電光探測(cè)器對(duì)電場(chǎng)具有較高的空間分辨率。實(shí)驗(yàn)證明,該新型外部電光探測(cè)器的空間分辨率可達(dá)0.5μm,完全滿足亞微米電路無損探測(cè)的要求。
本教材為“普通十一五國(guó)家級(jí)規(guī)劃教材”,全書共有10章。第1~3章重點(diǎn)介紹了VLSI設(shè)計(jì)的大基礎(chǔ),包括三個(gè)主要部分:信息接收、傳輸、處理體系結(jié)構(gòu)及與相關(guān)硬件的關(guān)系。第4~6章介紹了數(shù)字VLSI設(shè)計(jì)的技術(shù)與方法。第7章介紹了數(shù)字系統(tǒng)的測(cè)試問題和可測(cè)試性設(shè)計(jì)技術(shù)。第8章介紹了VLSI中的模擬單元和變換電路的設(shè)計(jì)技術(shù)。第9章介紹了微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)及其在系統(tǒng)集成中的關(guān)鍵技術(shù)。第10章主要介紹了設(shè)計(jì)系統(tǒng)、HDL,對(duì)可制造性設(shè)計(jì)(DFM)的一些特殊問題進(jìn)行了討論。
第1章 VLSI設(shè)計(jì)概述
1.1 系統(tǒng)及系統(tǒng)集成
1.1.1 信息鏈
1.1.2 模塊與硬件
1.1.3 系統(tǒng)集成
1.2 VLSI設(shè)計(jì)方法與管理
1.2.1 設(shè)計(jì)層次與設(shè)計(jì)方法
1.2.2 復(fù)雜性管理
1.2.3 版圖設(shè)計(jì)理念
1.3 VLSI設(shè)計(jì)技術(shù)基礎(chǔ)與主流制造技術(shù)
1.4 新技術(shù)對(duì)VLSI的貢獻(xiàn)
1.5 設(shè)計(jì)問題與設(shè)計(jì)工具
1.6 一些術(shù)語與概念
1.7 本書主要內(nèi)容與學(xué)習(xí)方法指導(dǎo)
練習(xí)與思考一
第2章 MOS器件與工藝基礎(chǔ)
2.1 MOS晶體管基礎(chǔ)
2.1.1 MOS晶體管結(jié)構(gòu)及基本工作原理
2.1.2 MOS晶體管的閾值電壓VT
2.1.3 MOS晶體管的電流—電壓方程
2.1.4 MOS器件的平方律轉(zhuǎn)移特性
2.1.5 MOS晶體管的跨導(dǎo)gm
2.1.6 MOS器件的直流導(dǎo)通電阻
2.1.7 MOS器件的交流電阻
2.1.8 MOS器件的最高工作頻率
2.1.9 MOS器件的襯底偏置效應(yīng)
2.1.10 CMOS結(jié)構(gòu)
2.2 CMOS邏輯部件
2.2.1 CMOS倒相器設(shè)計(jì)
2.2.2 CMOS與非門和或非門的結(jié)構(gòu)及其等效倒相器設(shè)計(jì)方法
2.2.3 其他CMOS邏輯門
2.2.4 D觸發(fā)器
2.2.5 內(nèi)部信號(hào)的分布式驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)
2.3 MOS集成電路工藝基礎(chǔ)
2.3.1 基本的集成電路加工工藝
2.3.2 CMOS工藝簡(jiǎn)化流程
2.3.3 Bi-CMOS工藝技術(shù)
2.4 版圖設(shè)計(jì)
2.4.1 簡(jiǎn)單MOSFET版圖
2.4.2 大尺寸MOSFET的版圖設(shè)計(jì)
2.4.3 失配與匹配設(shè)計(jì)
2.5 發(fā)展的MOS器件技術(shù)
2.5.1 物理效應(yīng)對(duì)器件特性的影響
2.5.2 材料技術(shù)
2.5.3 器件結(jié)構(gòu)
練習(xí)與思考二
第3章 設(shè)計(jì)與工藝接口
3.1 設(shè)計(jì)與工藝接口問題
3.1.1 基本問題——工藝線選擇
3.1.2 設(shè)計(jì)的困惑
3.1.3 設(shè)計(jì)與工藝接口
3.2 工藝抽象
3.2.1 工藝對(duì)設(shè)計(jì)的制約
3.2.2 工藝抽象
3.3 電學(xué)設(shè)計(jì)規(guī)則
3.3.1 電學(xué)規(guī)則的一般描述
3.3.2 器件模型參數(shù)
3.3.3 模型參數(shù)的離散及仿真方法
3.4 幾何設(shè)計(jì)規(guī)則
3.4.1 幾何設(shè)計(jì)規(guī)則描述
3.4.2 一個(gè)版圖設(shè)計(jì)的例子
3.5 工藝檢查與監(jiān)控
3.5.1 PCM(Process Control Monitor)
3.5.2 測(cè)試圖形及參數(shù)測(cè)量
本章結(jié)束語
練習(xí)與思考三
第4章 晶體管規(guī)則陣列設(shè)計(jì)技術(shù)
4.1 晶體管陣列及其邏輯設(shè)計(jì)應(yīng)用
4.1.1 全NMOS結(jié)構(gòu)ROM
4.1.2 ROM版圖
4.2 MOS晶體管開關(guān)邏輯
4.3 PLA及其拓展結(jié)構(gòu)
4.3.1 “與非—與非”陣列結(jié)構(gòu)
4.3.2 “或非—或非”陣列結(jié)構(gòu)
4.3.3 多級(jí)門陣列(MGA)
4.4 門陣列
4.4.1 門陣列單元
4.4.2 整體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)準(zhǔn)則
4.4.3 門陣列在VLSI設(shè)計(jì)中的應(yīng)用形式
4.5 晶體管規(guī)則陣列設(shè)計(jì)技術(shù)應(yīng)用示例
練習(xí)與思考四
第5章 單元庫(kù)設(shè)計(jì)技術(shù)
第6章 微處理器
第7章 測(cè)試技術(shù)和可測(cè)試性設(shè)計(jì)
第8章 模擬單元與變換電路
第9章 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)
第10章 設(shè)計(jì)系統(tǒng)與設(shè)計(jì)技術(shù)
結(jié)束語
參考文獻(xiàn)
總體布線是VLSI物理設(shè)計(jì)中極為重要的一個(gè)環(huán)節(jié)。非曼哈頓結(jié)構(gòu)的提出為物理設(shè)計(jì)帶來諸多性能的提高,但該結(jié)構(gòu)的引入和多層工藝的普及,使得總體布線問題更為復(fù)雜,且目前研究工作只就某些局部目標(biāo)展開,缺乏一種該結(jié)構(gòu)下有效完整的總體布線方案。正是在這樣的背景下,本項(xiàng)目對(duì)非曼哈頓結(jié)構(gòu)VLSI總體布線相關(guān)問題展開一些研究工作,選取X結(jié)構(gòu)作為非曼哈頓結(jié)構(gòu)的代表,完成的主要工作如下:(1)基于多目標(biāo)PSO和Elmore時(shí)延模型提出了一種構(gòu)建時(shí)延驅(qū)動(dòng)X結(jié)構(gòu)Steiner樹的有效算法,從而有助于性能驅(qū)動(dòng)X結(jié)構(gòu)總體布線問題的研究。(2)繞障Steiner最小樹的構(gòu)建是VLSI物理設(shè)計(jì)中一個(gè)極為重要問題,為此,提出一種基于粒子群優(yōu)化的有效算法用于求解X結(jié)構(gòu)下的繞障Steiner最小樹問題??紤]到粒子群優(yōu)化算法存在收斂速度慢的不足,進(jìn)一步設(shè)計(jì)一種四步驟的高效啟發(fā)式算法用于求解該問題。(3)針對(duì)ML-OAXSMT問題,以最小化布線總代價(jià)為目標(biāo),并同時(shí)考慮到通孔數(shù)的優(yōu)化,提出了一種基于PSO算法和懲罰機(jī)制的ML-OAXSMT構(gòu)建算法。為了進(jìn)一步提高求解多ML-OAXSMT問題的算法質(zhì)量,基于查找表的思想,提出了一種高效的繞障策略,可以準(zhǔn)確獲得多層環(huán)境下的Steiner點(diǎn)位置,從而構(gòu)建一棵高質(zhì)量的ML-OAXSMT。(4) 針對(duì)X結(jié)構(gòu)下的總體布線問題,提出一種基于ILP模型、劃分策略及PSO等技術(shù)的高質(zhì)量X結(jié)構(gòu)總體布線算法。 本項(xiàng)目進(jìn)一步擴(kuò)寬研究思路,針對(duì)曼哈頓結(jié)構(gòu)下繞障Steiner樹構(gòu)建問題并且將PSO擴(kuò)展應(yīng)用于VLSI電路劃分階段,主要完成以下工作:(1)研究了電壓轉(zhuǎn)換速率的計(jì)算模型和RSMT-RERR問題中的電壓轉(zhuǎn)換速率約束,基于SPCF算法框架提出考慮電壓轉(zhuǎn)換速率約束的直角Steiner樹構(gòu)造算法。(2)研究了ML-OARSMT問題的特征,提出了該問題布線圖的構(gòu)造方法。考慮避開障礙和連通相鄰層,選擇了三種類型候選通孔位置。 (3)電路劃分作為VLSI物理設(shè)計(jì)中的首個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié),通過附加考慮時(shí)延因素,構(gòu)造了電路劃分的多目標(biāo)問題模型,引入局部搜索策略以及基于小生境技術(shù)的表現(xiàn)型共享粒子評(píng)價(jià)機(jī)制,設(shè)計(jì)了一個(gè)求解多目標(biāo)電路劃分問題的混合DPSO。 2100433B