半導體制造(PR,Oxide, Nitride..) 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..) 醫(yī)學,生物薄膜及材料領域等 油墨,礦物學,顏料,調色劑等 醫(yī)藥及醫(yī)藥中間設備等 光學涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 半導體化合物 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜 非晶體,納米材料和結晶硅 產品可選項:
波長可擴展到遠深紫外光(MSP100)或者近紅外光范圍(MSP500) 高功率的深紫外光?用于小斑點測量 可根據客戶的特殊需求來定制 在動態(tài)實驗研究時,可根據需要對平臺進行加熱或致冷 可選擇的平臺尺寸最多可測量300mm大小尺寸的樣品 更高的波長范圍的分辨率可低至0.1nm 各種濾光片可供各種特殊的需求 可添加應用于熒光測量的附件 可添加用于拉曼應用的附件 可添加用于偏光應用的附件 自動成像平臺最多可對300mm的晶片進行操作。
型號:MSP300R 探測器:2048像素的CCD陣列 光源:直流穩(wěn)壓鹵素燈 光傳送方式:光纖 自動的臺架平臺:特殊處理的鋁合金操作平臺,手動調節(jié)移動范圍為75mm×55mm 物鏡有著長焦點距離:4×,10×,50× 通訊接口:USB的通訊接口與計算機相連 測量類型:反射/透射光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數 計算機硬件:英特兒酷睿2雙核處理器,200G硬盤、DVD刻錄機,19"LCD顯示器 電源:110–240V AC/50-60Hz,3A 尺寸:16'x16'x18' (操作桌面設置) 重量:120磅總重 保修:一年的整機及零備件保修 基本參數:
波長范圍:400nm到1000 nm 波長分辨率: 1nm 光斑尺寸:100µm (4x), 40µm (10x), 8µm (50x) 樣品尺寸:標準150×150mm 基片尺寸:最多可至20mm厚 測量厚度范圍: 10nm 到25 µm 測量時間:最快2毫秒 精確度:優(yōu)于0.5%(通過使用相同的光學常數,讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較) 重復性誤差:小于2 ?
基于視窗結構的軟件,很容易操作 先進的深紫外光學及堅固耐用的抗震設計,以確保系統能發(fā)揮出最佳的性能及最長的正常運行時間 基于陣列設計的探測器系統,以確??焖贉y量 低價格,便攜式及靈巧的操作臺面設計 在很小的尺寸范圍內,最多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率 在毫秒的時間內,可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數 能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率 系統配備大量的光學常數數據及數據庫 對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型(EMA)測量分析 系統集合了可視化、光譜測量、仿真、薄膜厚度測量等功能于一體 能夠應用于不同類型、不同厚度(最厚可測200mm)的基片測量 使用深紫外光測量的薄膜厚度最低可至20 ? 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面 先進的成像軟件可用于諸如角度、距離、面積、粒子計數等尺寸測量 各種不同的選配件可滿足客戶各種特殊的應用
一臺可見分光光度計約2800——3400元,如果可見分光光度計能滿足你的需求,就千萬別買那種帶紫外功能分光光度計 一般的單...
你好,酶標儀與分光光度計的區(qū)別主要在兩個方面: 其一,比色所用容器的區(qū)別。分光光度計所用的容器是比色皿,酶標儀所用的容器是微孔板。微孔板通常用透明的聚乙烯材料制成,對抗原、抗體有較強的吸附作用,用它作...
1.接通電源,打開儀器開關,掀開樣品室暗箱蓋,預熱10分鐘。 2.將靈敏度開關調至“1”檔(若零點調節(jié)器調不到“0”時,需選用較高檔。) 3.根據所需波長轉動波長選擇鈕。 4.將空白液及測定液分別倒入...
顯微分光光度計同樣也被稱作為:microreflectometer、micro-reflectometer、microspectrometer、microphotometer(Spectroscopic)、microspectroscopic photometer等等。依靠著Angstrom公司獨特的專業(yè)設計,MSP系列產品有著在線的實時數字成像系統,以及強大的數字編輯能力、擁有者反射率、透射率及吸收光譜等測量工具??梢栽诤撩氲臅r間內就完成數據采集。在進行諸如反射、透射、涂層厚度、折射率(光學常數)等光學性能改變的運動學研究方面,TFProbe軟件允許用戶設立加熱階段或冷卻階段。在各種MSP型號的可移動X-Y平臺或ρ-θ平臺中都可以用到自動成像功能,在使用螺桿的電動調焦功能上也同樣的能使用此功能。儀器所能測量的波長范圍通常是用戶考慮的最重要的一個參數,Angstrom公司的MSP產品,其測量波長覆蓋了從深紫外光(DUV)到近紅外光的范圍。這個波長范圍應當諸如薄膜或涂層的厚度、反射或透射的典型波長范圍等因素決定。
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煤續(xù)排列 - 使用反射光方法, 觀察其鏡質體和絲質體 煤巖組份及反射率測定 — 分析混煤的比例及煤種 含瀝青煤的特性 — 利用落射熒光技術 油母巖的分析 — 以透射光和落射紫外熒光方法 百分比含量測定 — 用顯微圖像設備對樣品進行相成分,得知其成分比例 無定形材料的評估 — 顯微鏡下觀察其古生物樣品,研究其藻類和其植物部分。
物鏡倍數:20X 50X(油鏡),目鏡倍數:10X 物鏡轉盤:6孔 ,觀察功能: 反射光 專業(yè)偏光 熒光 可擴展性:可配圖像分析系統(數碼相機、攝像頭、圖像分析軟件) 可配自動掃描臺(自動測點) 光度計測試范圍400-750nm。
徠卡顯微系統是全球顯微科技與分析科學儀器領域的專業(yè)廠商,總部位于德國維茲拉(Wetzlar, Germany)。主要提供顯微結構與納米結構分析領域的研究級顯微鏡等專業(yè)科學儀器。徠卡在復合顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微系統、激光共聚焦掃描顯微系統、電子顯微鏡樣品制備和醫(yī)療手術顯微技術等多個顯微光學領域取得了成就。徠卡的光學足跡已遍及全球 100 多個國家。徠卡在歐洲、亞洲與北美有 7 大產品研發(fā)中心與 6 大生產基地,在 20 多個國家設有銷售或服務支持中心,以及遍布全球的經銷商服務網絡。