蒸發(fā)舟發(fā)展情況

19世紀(jì)的石墨舟在很多行業(yè)已經(jīng)淘汰，20世紀(jì)后期比較流行的是氮化硼二硼化鈦復(fù)合導(dǎo)電陶瓷加工的產(chǎn)品。由于氮化硼具有極高的絕緣性，二硼化鈦具有極高的導(dǎo)電性，根據(jù)2種材料的不同配比，可以很容易控制所制產(chǎn)品的電阻率。

但是國內(nèi)原材料的制備工藝落后，傳統(tǒng)方法所制備的氮化硼結(jié)晶度低，雜質(zhì)多，純度低，而且在制備過程中產(chǎn)生大量有害氣體和廢液，對(duì)環(huán)境和個(gè)人造成嚴(yán)重危害。中央及地方政府預(yù)計(jì)將在2015年前給予取締。而二硼化鈦的制備，國內(nèi)均采用碳熱還原法生產(chǎn)，所用設(shè)備為低效率的碳管爐，爐子和工藝的局限導(dǎo)致在1600度所制得的二硼化鈦結(jié)晶顆粒極小，純度只能達(dá)到90%左右，其雜質(zhì)含量十分驚人。所制得的蒸發(fā)舟電阻極其不穩(wěn)定，耐腐蝕性能極差。

國外氮化硼，二硼化鈦制備工藝先進(jìn)，純度可達(dá)99%以上，以德國為代表的蒸發(fā)舟制造商強(qiáng)大的研究中心，對(duì)基礎(chǔ)原材料的制備成果顯著。所制得的蒸發(fā)舟壽命長，耐腐蝕，蒸發(fā)效率高，蒸發(fā)質(zhì)量有保證。

值得留意的是，2011年國內(nèi)已經(jīng)有個(gè)別公司掌握了國外的先進(jìn)技術(shù)，并在此基礎(chǔ)上針對(duì)我國工業(yè)結(jié)構(gòu)現(xiàn)狀，獨(dú)家研發(fā)了一整套先進(jìn)生產(chǎn)設(shè)備，從原材料的處理燒結(jié)加工，到熱壓加工。該公司已經(jīng)成為高品質(zhì)氮化硼，二硼化鈦，碳化硼的國內(nèi)唯一生產(chǎn)基地。預(yù)計(jì)在政府和公司的高度配合下，2013年將建成年產(chǎn)高純陶瓷粉體500噸（其中自用150噸，國內(nèi)銷售100噸，出口250噸），年產(chǎn)導(dǎo)電陶瓷蒸發(fā)舟150萬只的規(guī)模。

真空蒸鍍包裝材料、電容器金屬化鍍膜、顯示屏鍍層、燙金鍍層、防偽標(biāo)志鍍層、反光鍍層以及紙張、紡織品鍍鋁等，主要蒸鍍鋁銅銀金等。

國內(nèi)由于生產(chǎn)工藝落后對(duì)于國際流行的2組分蒸發(fā)舟無法生產(chǎn)。只能做單一的3組分蒸發(fā)舟，其配方是在2組分基礎(chǔ)上添加一定比例的氮化鋁，此種配方密度大，用料多，只局限于傳統(tǒng)行業(yè)使用，而對(duì)于蒸發(fā)質(zhì)量要求嚴(yán)格的產(chǎn)品卻無法滿足。而有的公司在3組分基礎(chǔ)上再次添加鎢，碳酸鈣，氧化鈣，氧化鋯等的做法，完全走入組分誤區(qū)，對(duì)質(zhì)量控制更是無從下手。

2組分在國際上普遍運(yùn)用，在于從質(zhì)量上和效率上的客戶認(rèn)可。由于組成只有氮化硼和二硼化鈦，所以在生產(chǎn)過程中質(zhì)量更可控。電阻率十分精準(zhǔn)。2組分的蒸發(fā)效率是任何其他組分無法媲美的。2組分密度低，用料少，生產(chǎn)加工容易。在人類大力保護(hù)環(huán)境的今天，低碳環(huán)保已經(jīng)是我們每一個(gè)人的責(zé)任。2100433B

塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進(jìn)行表面處理，可直接進(jìn)行蒸鍍。而BOPP、CPP、PE等非極性塑料薄膜，在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層，使其表面張力達(dá)到38-42達(dá)因/厘米或具有良好的粘合性。蒸鍍時(shí)，將卷筒薄膜置放于真空室內(nèi)，關(guān)閉真空室抽真空。當(dāng)真空度達(dá)到一定（4×10－4mba以上）時(shí)，將蒸發(fā)舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99．9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調(diào)節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量，開通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。

真空蒸鍍原理

將被鍍薄膜基材（筒狀）裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動(dòng)速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

蒸鍍方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。

（1）直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸鍍法對(duì)基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，必須要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進(jìn)行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度。

(2)轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。

鍍鋁薄膜生產(chǎn)工藝流程：

基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷