中文名 | 真空離子鍍膜設(shè)備 | 實(shí)施日期 | 2010-07-01 |
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發(fā)布日期 | 2010-02-21 | 標(biāo)準(zhǔn)號(hào) | JB/T 8946-2010 |
制修訂 | 修訂 | 代替標(biāo)準(zhǔn) | JB/T 8946-1999 |
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào) | J78 | 技術(shù)歸口 | 全國(guó)真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) |
批準(zhǔn)發(fā)布部門 | 工業(yè)和信息化部 |
大連遠(yuǎn)東真空技術(shù)有限公司、沈陽(yáng)北宇真空設(shè)備廠等。2100433B
陳大民、馮玉國(guó)等。
凱德利冷機(jī)很高興回答真空鍍膜機(jī)械,一般應(yīng)用在光學(xué)、光伏、太陽(yáng)能等行業(yè)。這類設(shè)備上面冷卻系統(tǒng)常跟這類廠家配套,比較了解。做這個(gè)比較好的一般分布廣東、大連、青島等地
要看鍍什么產(chǎn)品,比如化妝品、車燈、電子產(chǎn)品、酒瓶等對(duì)機(jī)器的要求都不一樣
真空鍍膜設(shè)備,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
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頁(yè)數(shù): 1頁(yè)
評(píng)分: 4.5
由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行?!墩婵斟兡ぜ夹g(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、
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頁(yè)數(shù): 1頁(yè)
評(píng)分: 4.7
由東北大學(xué)張以忱主編的真空工程技術(shù)叢書:《真空鍍膜技術(shù)》和《真空鍍膜設(shè)備》兩書由冶金工業(yè)出版社出版發(fā)行。《真空鍍膜技術(shù)》主要內(nèi)容:薄膜基礎(chǔ)理論、真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空卷繞鍍膜技術(shù)、真空化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注入與離子輔助沉積技術(shù)、ITO導(dǎo)電玻璃鍍膜工藝、薄膜厚度測(cè)量與監(jiān)控、薄膜與表面分析檢測(cè)技術(shù)。書中還系統(tǒng)地介紹了反應(yīng)濺射鍍膜、非平衡磁控濺射和中頻交流濺射鍍膜技術(shù)。
最高溫度500℃;極限真空6*10E-4Pa。
樣品鍍膜。 2100433B
現(xiàn)代許多高精密度的產(chǎn)品在制造過程中的某些階段必需
真空(2張)
使用程度不一的真空才能制造,如半導(dǎo)體、硬盤、鏡片。在實(shí)驗(yàn)室和工廠中制造真空的方法是利用泵在密閉的空間中抽出空氣以達(dá)到某種程度的真空。在真空技術(shù)中按照壓力的高低我們可以區(qū)分為:
粗略真空(Rough Vacuum) 760 ~ 10 Torr
中度真空(Medium Vacuum) 10 ~ Torr
高真空 (High Vacuum)~ Torr
超高真空(Ultra-High Vacuum) Torr以下