《電氣工程名詞》。 2100433B
1998年,經(jīng)全國科學技術(shù)名詞審定委員會審定發(fā)布。
LED燈根據(jù)顏色不同正向?qū)妷阂膊煌话闶前l(fā)的光能量越高(波長越短)正向?qū)妷阂苍礁?,例如紅外LED一般是1.3V左右而紅色LED則要大于1.5V(一般要2左右才能點亮),紫外LED則更高(一般...
反向電壓。
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評分: 4.4
基于雙電源電壓和雙閾值電壓技術(shù),提出了一種優(yōu)化全局互連性能的新方法.文中首先定義了一個包含互連延時、帶寬和功耗等因素的品質(zhì)因子用以描述全局互連特性,然后在給定延時犧牲的前提下,通過最大化品質(zhì)因子求得優(yōu)化的雙電壓數(shù)值用以節(jié)省功耗.仿真結(jié)果顯示,在65nm工藝下,針對5%,10%和20%的允許犧牲延時,所提方法相較于單電壓方法可分別獲得27.8%,40.3%和56.9%的功耗節(jié)省.同時發(fā)現(xiàn),隨著工藝進步,功耗節(jié)省更加明顯.該方法可用于高性能全局互連的優(yōu)化和設(shè)計.
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評分: 4.6
采用大激勵極板的螺旋型膜開關(guān)在保持優(yōu)異的高頻特性的同時 ,可以獲得較低的閾值電壓。但是對這種結(jié)構(gòu)的設(shè)計缺乏足夠理論分析。文中將在 Ansys軟件數(shù)值求解的基礎(chǔ)上 ,研究缺口尺寸和開關(guān)閾值電壓的關(guān)系 ,其結(jié)果對設(shè)計低驅(qū)動開關(guān)有一定指導意義
如MOS管,當器件由耗盡向反型轉(zhuǎn)變時,要經(jīng)歷一個 Si 表面電子濃度等于空穴濃度的狀態(tài)。此時器 件處于臨界導通狀態(tài),器件的柵電壓定義為閾值電壓,它是MOSFET的重要參數(shù)之一 。MOS管的閾值電壓等于背柵(backgate)和源極(source)接在一起時形成溝道(channel)需要的柵極(gate)對source偏置電壓。如果柵極對源極偏置電壓小于閾值電壓,就沒有溝道(channel)。
一個特定的晶體管的閾值電壓和很多因素有關(guān),包括backgate的摻雜,電介質(zhì)的厚度,柵極材質(zhì)和電介質(zhì)中的過剩電荷。
背柵(backgate)的摻雜是決定閾值電壓的主要因素。如果背柵摻雜越重,它就越難反轉(zhuǎn)。要反轉(zhuǎn)就要更強的電場,閾值電壓就上升了。MOS管的背柵摻雜能通過在介電層表面下的稍微的implant來調(diào)整。這種implant被叫做閾值調(diào)整implant(或Vt調(diào)整implant)??紤]一下Vt調(diào)整implant對NMOS管的影響。如果implant是由受主組成的,那么硅表面就更難反轉(zhuǎn),閾值電壓也升高了。如果implant是由施主組成的,那么硅表面更容易反轉(zhuǎn),閾值電壓下降。如果注入的donors夠多,硅表面實際上就反向摻雜了。這樣,在零偏置下就有了一薄層N型硅來形成永久的溝道(channel)。隨著柵極偏置電壓的上升,溝道變得越來越強的反轉(zhuǎn)。隨著柵極偏置電壓的下降,溝道變的越來越弱,最后消失了。這種NMOS管的閾值電壓實際上是負的。這樣的晶體管稱為耗盡模式NMOS,或簡單的叫做耗盡型NMOS。相反,一個有正閾值電壓的的NMOS叫做增強模式NMOS,或增強型NMOS。絕大多數(shù)商業(yè)化生產(chǎn)的MOS管是增強型器件,但也有一些應用場合需要耗盡型器件。耗盡型PMOS也能被生產(chǎn)出來。這樣的器件的閾值電壓是正的。耗盡型的器件應該盡量的被明確的標識出來。不能靠閾值電壓的正負符號來判斷,因為通常許多工程師忽略閾值電壓的極性。因此,應該說“閾值電壓為0.7V的耗盡型PMOS”而不是閾值電壓為0.7V的PMOS。很多工程師會把后者解釋為閾值電壓為-0.7V的增強型PMOS而不是閾值電壓為 0.7V的耗盡型PMOS。明白無誤的指出是耗盡型器件可以省掉很多誤會的可能性。
電介質(zhì)在決定閾值電壓方面也起了重要作用。厚電介質(zhì)由于比較厚而削弱了電場。所以厚電介質(zhì)使閾值電壓上升,而薄電介質(zhì)使閾值電壓下降。理論上,電介質(zhì)成分也會影響電場強度。而實際上,幾乎所有的MOS管都用純二氧化硅作為gate dielectric。這種物質(zhì)可以以極純的純度和均勻性生長成非常薄的薄膜;其他物質(zhì)跟它都不能相提并論。因此其他電介質(zhì)物質(zhì)只有很少的應用。(也有用高介電常數(shù)的物質(zhì)比如氮化硅作為gate dielectric的器件。有些作者把所有的MOS類晶體管,包括非氧化物電介質(zhì),稱為insulated-gate field effect transistor(IGFET))
柵極(gate)的物質(zhì)成分對閾值電壓也有所影響。如上所述,當GATE和BACKGATE短接時,電場就施加在gate oxide上。這主要是因為GATE和BACKGATE物質(zhì)之間的work function差值造成的。大多數(shù)實際應用的晶體管都用重摻雜的多晶硅作為gate極。改變多晶硅的摻雜程度就能控制它的work function。
GATE OXIDE或氧化物和硅表面之間界面上過剩的電荷也可能影響閾值電壓。這些電荷中可能有離子化的雜質(zhì)原子,捕獲的載流子,或結(jié)構(gòu)缺陷。電介質(zhì)或它表面捕獲的電荷會影響電場并進一步影響閾值電壓。如果被捕獲的電子隨著時間,溫度或偏置電壓而變化,那么閾值電壓也會跟著變化。2100433B
一般情況下,正向電壓1V左右就可以“擊穿”二極管,此時稱為正向擊穿,不過我們稱之為不導通。工作于正向偏置的PN結(jié),當通過的電流過大時,將會使它的功率損耗過大而燒壞,但由于正向偏置的PN結(jié)兩端電壓很低(鍺PN結(jié)約為0.2V左右,硅PN結(jié)約為0.7V左右),故當加在PN結(jié)兩端的正向電壓過大時會使PN結(jié)發(fā)生擊穿,稱為正向擊穿。而工作于反向偏置的PN結(jié),當反偏電壓過高時,將會使PN結(jié)擊穿,如擊穿后又未限制流過它的反向擊穿電流,將會使擊穿成為永久性的、不可逆的擊穿,從而造成其徹底損壞。