GBZ/T192.4-2007

工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量

1 范圍

本部分規(guī)定了工作場所粉塵中游離二氧化硅含量的測定方法。

本部分適用于工作場所粉塵中游離二氧化硅含量的測定。

2 規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款，通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GBZ 159 工作場所空氣中有害物質(zhì)監(jiān)測采樣規(guī)范

GBZ/T 192.1 工作場所空氣中粉塵測定 第1部分:總粉塵濃度

GBZ/T 192.2 工作場所空氣中粉塵測定 第2部分:呼吸性粉塵濃度

3 術(shù)語和定義

本部分采用下列術(shù)語:

游離二氧化硅(Free silica)

指結(jié)晶型的二氧化硅，即石英。

4 焦磷酸法

4.1 原理

粉塵中的硅酸鹽及金屬氧化物能溶于加熱到245℃~250℃的焦磷酸中，游離二氧化硅幾乎不溶，而實現(xiàn)分離。然后稱量分離出的游離二氧化硅，計算其在粉塵中的百分含量。

4.2 儀器

4.2.1 采樣器:同GBZ/T 192.1和GBZ/T 192.2。

4.2.2 恒溫干燥箱。

4.2.3 干燥器，內(nèi)盛變色硅膠。

4.2.4 分析天平，感量為0.1mg。

4.2.5 錐形瓶，50ml。

4.2.6 可調(diào)電爐。

4.2.7 高溫電爐。

4.2.8 瓷坩堝或鉑坩堝，25ml，帶蓋。

4.2.9 坩堝鉗或鉑尖坩堝鉗。

4.2.10 量筒，25ml。

4.2.11 燒杯，200ml ~400ml。

4.2.12 瑪瑙研缽。

4.2.13 慢速定量濾紙。

4.2.14 玻璃漏斗及其架子。

4.2.15 溫度計，0℃~360℃。

4.3 試劑

實驗用試劑為分析純。

4.3.1 焦磷酸，將85%(W/W)的磷酸加熱到沸騰，至250℃不冒泡為止，放冷，貯存于試劑瓶中。

4.3.2 氫氟酸，40%。

4.3.3 硝酸銨。

4.3.4 鹽酸溶液，0.1mol/L。

4.4 樣品的采集

現(xiàn)場采樣按照GBZ 159執(zhí)行。

本法需要的粉塵樣品量一般應(yīng)大于0.1g，可用直徑75mm濾膜大流量采集空氣中的粉塵，也可在采樣點(diǎn)采集呼吸帶高度的新鮮沉降塵，并記錄采樣方法和樣品來源。

4.5 測定步驟

4.5.1 將采集的粉塵樣品放在105℃±3℃的烘箱內(nèi)干燥2h，稍冷，貯于干燥器備用。如果粉塵粒子較大，需用瑪瑙研缽研磨至手捻有滑感為止。

4.5.2 準(zhǔn)確稱取0.1000g~0.2000g(G)粉塵樣品于25ml錐形瓶中，加入15ml焦磷酸及數(shù)毫克硝酸銨，攪拌，使樣品全部濕潤。將錐形瓶放在可調(diào)電爐上，迅速加熱到245℃~250℃，同時用帶有溫度計的玻璃棒不斷攪拌，保持15min。

4.5.3 若粉塵樣品含有煤、其他碳素及有機(jī)物，應(yīng)放在瓷坩堝或鉑坩堝中，在800℃~900℃下灰化30min以上，使碳及有機(jī)物完全灰化。取出冷卻后，將殘渣用焦磷酸洗入錐形瓶中。若含有硫化礦物(如黃鐵礦、黃銅礦、輝銅礦等)，應(yīng)加數(shù)毫克結(jié)晶硝酸銨于錐形瓶中。再按照4.5.2加焦磷酸及數(shù)毫克硝酸銨加熱處理。

4.5.4取下錐形瓶，在室溫下冷卻至40℃~50℃，加50℃~80℃的蒸餾水至約40ml ~45ml，一邊加蒸餾水一邊攪拌均勻。將錐形瓶中內(nèi)容物小心轉(zhuǎn)移入燒杯，并用熱蒸餾水沖洗溫度計、玻璃棒和錐形瓶，洗液倒入燒杯中，加蒸餾水約至150ml~200ml。取慢速定量濾紙折疊成漏斗狀，放于漏斗并用蒸餾水濕潤。將燒杯放在電爐上煮沸內(nèi)容物，稍靜置，待混懸物略沉降，趁熱過濾，濾液不超過濾紙的2/3處。過濾后，用0.1mol鹽酸洗滌燒杯，并移入漏斗中，將濾紙上的沉渣沖洗3~5次，再用熱蒸餾水洗至無酸性反應(yīng)為止(用pH試紙試驗)。如用鉑坩堝時，要洗至無磷酸根反應(yīng)后再洗3次。上述過程應(yīng)在當(dāng)天完成。

4.5.5 將有沉渣的濾紙折疊數(shù)次，放入已稱至恒量(m1)的瓷坩堝中，在電爐上干燥、炭化;炭化時要加蓋并留一小縫。然后放入高溫電爐內(nèi)，在800℃~900℃灰化30min;取出，室溫下稍冷后，放入干燥器中冷卻1h，在分析天平上稱至恒量(m2)，并記錄。

4.5.6 計算 按式(1)計算粉塵中游離二氧化硅的含量:

m2 - m1

C = ------ × 100…… (1)

G

式中:SiO2(F)--游離二氧化硅含量，%;

m1--坩堝質(zhì)量，g;

m2--坩堝加沉渣質(zhì)量，g;

G--粉塵樣品質(zhì)量，g。

4.5.7 焦磷酸難溶物質(zhì)的處理

若粉塵中含有焦磷酸難溶的物質(zhì)時，如碳化硅、綠柱石、電氣石、黃玉等，需用氫氟酸在鉑坩堝中處理。方法如下:

將帶有沉渣的濾紙放入鉑坩堝內(nèi)，如步驟4.5.5灼燒至恒量(m2)，然后加入數(shù)滴9mol/L硫酸溶液，使沉渣全部濕潤。在通風(fēng)柜內(nèi)加入5ml~10ml 40%氫氟酸，稍加熱，使沉渣中游離二氧化硅溶解，繼續(xù)加熱至不冒白煙為止(要防止沸騰)。再于900℃下灼燒，稱至恒量(m3)。氫氟酸處理后游離二氧化硅含量按式(2)計算:

m2 - m3

C = ------ × 100…… (2)

G

式中:

SiO2(F)--游離二氧化硅含量，%;

m2--氫氟酸處理前坩堝加沉渣(游離二氧化硅+焦磷酸難溶的物質(zhì))質(zhì)量，g;

m3--氫氟酸處理后坩堝加沉渣(焦磷酸難溶的物質(zhì))質(zhì)量，g;

G--粉塵樣品質(zhì)量，g。

4.6 注意事項

4.6.1 焦磷酸溶解硅酸鹽時溫度不得超過250℃，否則容易形成膠狀物。

4.6.2 酸與水混合時應(yīng)緩慢并充分?jǐn)嚢瑁苊庑纬赡z狀物。

4.6.3 樣品中含有碳酸鹽時，遇酸產(chǎn)生氣泡，宜緩慢加熱，以免樣品濺失。

4.6.4 用氫氟酸處理時，必須在通風(fēng)柜內(nèi)操作，注意防止污染皮膚和吸入氫氟酸蒸氣。

4.6.5 用鉑坩堝處理樣品時，過濾沉渣必須洗至無磷酸根反應(yīng)，否則會損壞鉑坩堝。

磷酸根檢驗方法如下:

原理:磷酸和鉬酸銨在pH4.1時，用抗壞血酸還原成藍(lán)色。

試劑:①乙酸鹽緩沖液(pH4.1):0.025mol乙酸鈉溶液與0.1mol乙酸溶液等體積混合，②1%抗壞血酸溶液(于4℃保存)，③鉬酸銨溶液:取2.5g鉬酸銨，溶于100ml的0.025mol硫酸中(臨用時配制)。

檢驗方法:分別將試劑②和③用①稀釋成10倍，取濾過液1ml，加上述稀釋試劑各4.5ml，混勻，放置20min，若有磷酸根離子，溶液呈藍(lán)色。

5 紅外分光光度法

5.1 原理

α-石英在紅外光譜中于12.5μm(800cm)、12.8μm(780cm)及14.4(694cm)μm處出現(xiàn)特異性強(qiáng)的吸收帶，在一定范圍內(nèi)，其吸光度值與α-石英質(zhì)量成線性關(guān)系。通過測量吸光度，進(jìn)行定量測定。

5.2 儀器

5.2.1 瓷坩堝和坩堝鉗。

5.2.2 箱式電阻爐或低溫灰化爐。

5.2.3 分析天平，感量為0.01mg。

5.2.4 干燥箱及干燥器。

5.2.5 瑪瑙乳缽。

5.2.6 壓片機(jī)及錠片模具。

5.2.7 200目粉塵篩。

5.2.8 紅外分光光度計。以X軸橫坐標(biāo)記錄900cm~600cm的譜圖，在900cm處校正零點(diǎn)和100%，以Y軸縱坐標(biāo)表示吸光度。

5.3 試劑

5.3.1 溴化鉀，優(yōu)級純或光譜純，過200目篩后，用濕式法研磨，于150℃干燥后，貯于干燥器中備用。

5.3.2 無水乙醇，分析純。

5.3.3 標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵，純度在99%以上，粒度<5μm。

5.4 樣品的采集

根據(jù)測定目的，樣品的采集方法參見GBZ 159 和GBZ/T 192.2或GBZ/T 192.1，濾膜上采集的粉塵量大于0.1mg時，可直接用于本法測定游離二氧化硅含量。

5.5 測定

5.5.1 樣品處理:準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量(G)。然后將受塵面向內(nèi)對折3次，放在瓷坩堝內(nèi)，置于低溫灰化爐或電阻爐(小于600℃)內(nèi)灰化，冷卻后，放入干燥器內(nèi)待用。稱取250mg溴化鉀和灰化后的粉塵樣品一起放入瑪瑙乳缽中研磨混勻后，連同壓片模具一起放入干燥箱(110℃±5℃)中10min。將干燥后的混合樣品置于壓片模具中，加壓25MPa，持續(xù)3min，制備出的錠片作為測定樣品。同時，取空白濾膜一張，同樣處理，作為空白對照樣品。

5.5.2 石英標(biāo)準(zhǔn)曲線的繪制:精確稱取不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)α-石英塵(0.01mg ~1.00mg)，分別加入250mg溴化鉀，置于瑪瑙乳缽中充分研磨均勻，按上述樣品制備方法做出透明的錠片。將不同質(zhì)量的標(biāo)準(zhǔn)石英錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描，以800cm、780cm及694cm三處的吸光度值為縱坐標(biāo)，以石英質(zhì)量(mg)為橫坐標(biāo)，繪制三條不同波長的α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線，并求出標(biāo)準(zhǔn)曲線的回歸方程式。在無干擾的情況下，一般選用800cm標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。

5.5.3 樣品測定:分別將樣品錠片與空白對照樣品錠片置于樣品室光路中進(jìn)行掃描，記錄800cm(或694cm)處的吸光度值，重復(fù)掃描測定3次，測定樣品的吸光度均值減去空白對照樣品的吸光度均值后，由α-石英標(biāo)準(zhǔn)曲線得樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量(m)。

5.5.4 計算 按式(3)計算粉塵中游離二氧化硅的含量:

m

SiO2(F)= ---× 100...(3)

G

式中:SiO2(F)--粉塵中游離二氧化硅(α-石英)的含量，%;

m--測得的粉塵樣品中游離二氧化硅的質(zhì)量，mg;

G--粉塵樣品質(zhì)量，mg。

5.6 注意事項

5.6.1 本法的α-石英檢出量為0.01mg;相對標(biāo)準(zhǔn)差(RSD)為0.64%~1.41%。平均回收率為96.0%~99.8%。

5.6.2 粉塵粒度大小對測定結(jié)果有一定影響，因此，樣品和制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的石英塵應(yīng)充分研磨，使其粒度小于5μm者占95%以上，方可進(jìn)行分析測定。

5.6.3 灰化溫度對煤礦塵樣品定量結(jié)果有一定影響，若煤塵樣品中含有大量高嶺土成分，在高于600℃灰化時發(fā)生分解，于800cm附近產(chǎn)生干擾，如灰化溫度小于600℃時，可消除此干擾帶。

5.6.4 在粉塵中若含有粘土、云母、閃石、長石等成分時，可在800cm附近產(chǎn)生干擾，則可用694cm的標(biāo)準(zhǔn)曲線進(jìn)行定量分析。

5.6.5 為降低測量的隨機(jī)誤差，實驗室溫度應(yīng)控制在18℃~24℃，相對濕度小于50%為宜。

5.6.6 制備石英標(biāo)準(zhǔn)曲線樣品的分析條件應(yīng)與被測樣品的條件完全一致，以減少誤差。

6 X線衍射法

6.1 原理

當(dāng)X線照射游離二氧化硅結(jié)晶時，將產(chǎn)生X線衍射;在一定的條件下，衍射線的強(qiáng)度與被照射的游離二氧化硅的質(zhì)量成正比。利用測量衍射線強(qiáng)度，對粉塵中游離二氧化硅進(jìn)行定性和定量測定。

6.2 儀器

6.2.1 測塵濾膜。

6.2.2 粉塵采樣器。

6.2.3 濾膜切取器。

6.2.4 樣品板。

6.2.5 分析天平，感量為0.01mg。

6.2.6 鑷子、直尺、秒表、圓規(guī)等。

6.2.7 瑪瑙乳缽或瑪瑙球磨機(jī)。

6.2.8 X線衍射儀。

6.3 試劑

實驗用水為雙蒸餾水。

6.3.1 鹽酸溶液，6mol/L。

6.3.2 氫氧化鈉溶液，100g/L。

6.4 樣品的采集

根據(jù)測定目的，樣品的采集方法參見GBZ 159和GBZ/T 192.2或GBZ/T 192.1，濾膜上采集的粉塵量大于0.1mg時，可直接用于本法測定游離二氧化硅含量。

6.5 測定步驟

6.5.1 樣品處理:準(zhǔn)確稱量采有粉塵的濾膜上粉塵的質(zhì)量(G)。按旋轉(zhuǎn)樣架尺度將濾膜剪成待測樣品4~6個。

6.5.2 標(biāo)準(zhǔn)曲線

6.5.2.1 標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵制備:將高純度的α-石英晶體粉碎后，首先用鹽酸溶液浸泡2h，除去鐵等雜質(zhì)，再用水洗凈烘干。然后用瑪瑙乳缽或瑪瑙球磨機(jī)研磨，磨至粒度小于10μm后，于氫氧化鈉溶液中浸泡4h，以除去石英表面的非晶形物質(zhì)，用水充分沖洗，直到洗液呈中性(pH=7)，干燥備用。或用符合本條要求的市售標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵制備。

6.5.2.2 標(biāo)準(zhǔn)曲線的制作:將標(biāo)準(zhǔn)α-石英粉塵在發(fā)塵室中發(fā)塵，用與工作環(huán)境采樣相同的方法，將標(biāo)準(zhǔn)石英粉塵采集在已知質(zhì)量的濾膜上，采集量控制在0.5mg~4.0mg之間，在此范圍內(nèi)分別采集5~6個不同質(zhì)量點(diǎn)，采塵后的濾膜稱量后記下增量值，然后從每張濾膜上取5個標(biāo)樣，標(biāo)樣大小與旋轉(zhuǎn)樣臺尺寸一致。在測定α-石英粉塵標(biāo)樣前，首先測定標(biāo)準(zhǔn)硅在(111)面網(wǎng)上的衍射強(qiáng)度(CPS)。然后分別測定每個標(biāo)樣的衍射強(qiáng)度(CPS)。計算每個點(diǎn)5個α-石英粉塵樣的算術(shù)平均值，以衍射強(qiáng)度(CPS)均值對石英質(zhì)量(mg)繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線。

6.5.3 樣品測定

6.5.3.1 定性分析 在進(jìn)行物相定量分析之前，首先對采集的樣品進(jìn)行定性分析，以確認(rèn)樣品中是否有α-石英存在。儀器操作參考條件:

靶:CuKα; 掃描速度:2°/min;

管電壓:30kV; 記錄紙速度:2cm/min;

管電流:40mA; 發(fā)散狹縫:1°;

量程:4000CPS; 接收狹縫:0.3mm;

時間常數(shù):1s; 角度測量范圍:10°≤2θ≤60°

物相鑒定:將待測樣品置于X線衍射儀的樣架上進(jìn)行測定，將其衍射圖譜與《粉末衍射標(biāo)準(zhǔn)聯(lián)合委員會(JCPDS)》卡片中的α-石英圖譜相比較，當(dāng)其衍射圖譜與α-石英圖譜相一致時，表明粉塵中有石英存在。

6.5.3.2 定量分析

X線衍射儀的測定條件與制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的條件完全一致。

6.5.3.2.1 首先測定樣品(101)面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度，再測定標(biāo)準(zhǔn)硅(111)面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度;測定結(jié)果按式(4)計算:

Is

IB= Iix--- …… (4)

I

式中:IB--粉塵中石英的衍射強(qiáng)度，CPS;

Ii--采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度，CPS;

Is--在制定石英標(biāo)準(zhǔn)曲線時，標(biāo)準(zhǔn)硅(111)面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度，CPS;

I--在測定采塵濾膜上石英的衍射強(qiáng)度時，測得的標(biāo)準(zhǔn)硅(111)面網(wǎng)衍射強(qiáng)度，CPS。

如儀器配件沒有配標(biāo)準(zhǔn)硅，可使用標(biāo)準(zhǔn)石英(101)面網(wǎng)的衍射強(qiáng)度(CPS)表示I值。

由計算得到的IB值(CPS)，從標(biāo)準(zhǔn)曲線查出濾膜上粉塵中石英的質(zhì)量(m)。

6.5.4 計算 粉塵中游離二氧化硅(α-石英)含量按式(5)計算:

m

SiO2(F)= -----× 100...(5)

M2 - M1

式中:

SiO2(F)--粉塵中游離二氧化硅(α-石英)含量，%;

m--濾膜上粉塵中游離二氧化硅(α-石英)的質(zhì)量，mg;

G--粉塵樣品質(zhì)量，mg。將M2-M1改為G，與紅外法一致!

6.6 注意事項

6.6.1本法測定的粉塵中游離二氧化硅系指α-石英，其檢出限受儀器性能和被測物的結(jié)晶狀態(tài)影響較大;一般X線衍射儀中，當(dāng)濾膜采塵量在0.5mg時，α-石英含量的檢出限可達(dá)1%。

6.6.2粉塵粒徑大小影響衍射線的強(qiáng)度，粒徑在10μm以上時，衍射強(qiáng)度減弱;因此制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的粉塵粒徑應(yīng)與被測粉塵的粒徑相一致。

6.6.3單位面積上粉塵質(zhì)量不同，石英的X線衍射強(qiáng)度有很大差異。因此濾膜上采塵量一般控制在2mg~5mg范圍內(nèi)為宜。

6.6.4當(dāng)有與α-石英衍射線相干擾的物質(zhì)或影響α-石英衍射強(qiáng)度的物質(zhì)存在時，應(yīng)根據(jù)實際情況進(jìn)行校正。

GBZ

中華人民共和國國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)

GBZ/T 192.4-2007

工作場所空氣中粉塵測定

第4部分:游離二氧化硅含量

Method for determination of dust in the air of workplace

Part 4: Content of free silica in dust

2007-6-18 發(fā)布 2007-12-30 實施

中華人民共和國衛(wèi)生部 發(fā)布

為貫徹執(zhí)行《工業(yè)企業(yè)設(shè)計衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ 1)和《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值》(GBZ 2)，特制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)是為工作場所有害因素職業(yè)接觸限值配套的監(jiān)測方法，用于監(jiān)測工作場所空氣中鎘及其化合物 [包括金屬鎘(Cadmium)和氧化鎘(Cadmium oxide)等]的濃度。本標(biāo)準(zhǔn)是總結(jié)、歸納和改進(jìn)了原有的標(biāo)準(zhǔn)方法后提出。這次修訂將同類化合物的同種監(jiān)測方法和不同種監(jiān)測方法歸

并為一個標(biāo)準(zhǔn)方法，并增加了長時間采樣和個體采樣方法。

本標(biāo)準(zhǔn)從2004年12月1日起實施。同時代替GB/T 16016-1995。

本標(biāo)準(zhǔn)首次發(fā)布于1995年，本次是第一次修訂。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)委員會提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國衛(wèi)生部批準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國疾病預(yù)防控制中心職業(yè)衛(wèi)生與中毒控制所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:徐伯洪等。

為貫徹執(zhí)行《工業(yè)企業(yè)設(shè)計衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ 1)和《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值》(GBZ 2)，特制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)是為工作場所有害因素職業(yè)接觸限值配套的監(jiān)測方法，用于監(jiān)測工作場所空氣中鈹及其化合物 [包括金屬鈹(Beryllium)和氧化鈹(Beryllium oxide)等]的濃度。本標(biāo)準(zhǔn)是總結(jié)、歸納和改進(jìn)了原有的標(biāo)準(zhǔn)方法后提出。這次修訂將同類化合物的同種監(jiān)測方法和不同種監(jiān)測方法歸并為一個標(biāo)準(zhǔn)方法，并增加了長時間采樣和個體采樣方法。

本標(biāo)準(zhǔn)從2004年12月1日起實施。同時代替GB/T 16023-1995。

本標(biāo)準(zhǔn)首次發(fā)布于1995年，本次是第一次修訂。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)委員會提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國衛(wèi)生部批準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:湖南省勞動衛(wèi)生職業(yè)病防治研究所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:張肇平和陳桂貽。

為貫徹執(zhí)行《工業(yè)企業(yè)設(shè)計衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GBZ 1)和《工作場所有害因素職業(yè)接觸限值》(GBZ 2)，特制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)是為工作場所有害因素職業(yè)接觸限值配套的監(jiān)測方法，用于監(jiān)測工作場所空氣中鎘及其化合物 [包括金屬鎘(Cadmium)和氧化鎘(Cadmium oxide)等]的濃度。本標(biāo)準(zhǔn)是總結(jié)、歸納和改進(jìn)了原有的標(biāo)準(zhǔn)方法后提出。這次修訂將同類化合物的同種監(jiān)測方法和不同種監(jiān)測方法歸

并為一個標(biāo)準(zhǔn)方法，并增加了長時間采樣和個體采樣方法。

本標(biāo)準(zhǔn)從2004年12月1日起實施。同時代替GB/T 16016-1995。

本標(biāo)準(zhǔn)首次發(fā)布于1995年，本次是第一次修訂。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)委員會提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國衛(wèi)生部批準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:中國疾病預(yù)防控制中心職業(yè)衛(wèi)生與中毒控制所。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:徐伯洪等。