表面覆層技術(shù)

表面覆層技術(shù)是指通過應(yīng)用物理、化學(xué)、電學(xué)、光學(xué)、機(jī)械學(xué)等各種工藝手段,用少量的材料,在產(chǎn)品表面制備一層保護(hù)層、強(qiáng)化層或裝飾層,以提高產(chǎn)品的耐磨、耐蝕、耐/隔熱、抗疲勞、抗輻射功能,達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長使用壽命的目的。 

表面覆層技術(shù)基本信息

中文名 表面覆層技術(shù) 所屬行業(yè) 機(jī)械制造

表面覆層技術(shù)有多種,例如電鍍、化學(xué)鍍、電刷鍍、熱浸鍍、涂裝、陶瓷涂敷等傳統(tǒng)工乙方法。以及熱噴涂、電火花噴敷、氣相沉積、塑料粉末涂敷等新工藝方法。

(1)熱噴涂技術(shù)

熱噴除技術(shù)是采用氣體、液體、電弧、等離子、激光等作為熱源,使金屬、合金、陶瓷、氧化物、碳化物、塑料以及復(fù)合材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),通過高速氣流使其霧化,然后噴射、沉積到經(jīng)過預(yù)處理的工件表面,從而形成附著牢靠的表面層。

熱噴除也有很多工藝方法,較常用的有火焰噴涂、等離子噴涂、爆炸噴涂等。

1)火焰噴涂

主要以氧乙炔噴槍為工具,將噴涂的粉末或線材、棒材送人氧乙炔火焰區(qū)加熱熔化,借助高速壓縮氣流,使其霧化成溶液顆粒噴向粗糙的基體表面,經(jīng)冷卻后形成涂層。這種噴涂工藝設(shè)備簡單,手工操作,應(yīng)用成本低,可以噴涂各種金屬、合金和陶瓷粉末,廣泛應(yīng)用于曲軸、柱塞、軸頸等機(jī)械零件的修復(fù)。其缺點是噴射速度低,黏結(jié)強(qiáng)度不高,用于一般要求不高的場合。

2)等離子噴涂

等離子噴涂是利用等離子焰流,將噴涂材料加熱到熔融或高塑性狀態(tài),在高速等離子焰流引導(dǎo)下高速撞擊基體表面,并沉積在經(jīng)過粗糙處理的工件表面形成很博的涂層。等離子噴涂焰流溫度較高,可達(dá)10000C以上,可噴涂幾乎所有的固態(tài)工程材料,包括金屬、陶瓷、非金屬礦物材料等。等離子焰流速達(dá)1000m/s以上,噴出的粉粒速度可達(dá)180~600m/s,所獲得的涂層致密性及結(jié)合強(qiáng)度均比火焰噴除高。

3) 爆炸噴涂

爆炸噴涂是將燃?xì)夂椭細(xì)怏w按一定比例混合后送入燃爆室內(nèi),點燃混合氣體,爆炸產(chǎn)生高溫高速氣流,將粉末熔化,并借助爆炸壓力將熔融的液粒噴射到工件表面,形成涂層。爆炸噴涂產(chǎn)生的溫度達(dá)3300C,流速達(dá)700 760m/s。

(2)氣相沉積技術(shù)

氣相沉積技術(shù)是一種表面制膜新技術(shù)利用氣相之間的反應(yīng),在各種材料表面沉積單層成多層薄膜,從而使材料獲得所需的各種優(yōu)異性能。氣相沉積技術(shù)可分為物理氣相沉積(PVD) 和化學(xué)氣相沉積(CVD)。物理氣相沉積PVD 是在真空條件F,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子,分子或離子化為離子,直接沉積到基體表面的工藝方法,它又有真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍膜等工藝方法。化學(xué)氣相沉積CVD 是把含有構(gòu)成海膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體供給基體,借助氣相間的相互作用,或在基體表面上的化學(xué)反應(yīng)生成所要求的薄膜。2100433B

表面覆層技術(shù)造價信息

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面環(huán)氧覆層 品種:環(huán)氧樹脂;規(guī)格:10kg/桶 查看價格 查看價格

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面環(huán)氧覆層 品種:環(huán)氧樹脂;規(guī)格:10kg/桶 查看價格 查看價格

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混凝土表面增強(qiáng)劑(粉劑) 20/50kg規(guī)格包裝;1kg/2平方/8次 查看價格 查看價格

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技術(shù)接口協(xié)議 10號機(jī)房、15號機(jī)房接到12機(jī)房技術(shù)接口協(xié)議網(wǎng)關(guān)|2臺 1 查看價格 上海艾柯瓦貿(mào)易有限公司 廣東   2021-10-19
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表面覆層技術(shù)常見問題

  • 表面度覆層的定義

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表面覆層技術(shù)文獻(xiàn)

表面覆層技術(shù)(論文) 表面覆層技術(shù)(論文)

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最新表面處理技術(shù)概述及其未來發(fā)展趨勢 1 前言 新型表面功能覆層技術(shù), 包括低溫化學(xué)表面涂層技術(shù)及超深層表面改性技術(shù), 它運(yùn)用物 理、化學(xué)或物理化學(xué)等技術(shù)手段來改變 "材料及其制件表面成份和組織結(jié)構(gòu) ",其特點是保持 基體材料固有的特征, 又賦予表面化所要求的各種性能, 從而適應(yīng)各種技術(shù)和服役環(huán)境對材 料的特殊要求, 因而它是制造和材料學(xué)科最為活躍的技術(shù)領(lǐng)域, 又是涉及表面處理與涂層技 術(shù)的交叉學(xué)科。 其最大的 優(yōu)勢在于能以極少的材料和能源消耗制備出基體材料難以甚至無法 獲得的性能優(yōu)異的表面薄層, 從而獲得最大的經(jīng)濟(jì)效益, 它是一種優(yōu)質(zhì)高效的表面改性與涂 層技術(shù)。優(yōu)質(zhì)、高效的表面改性與涂層技術(shù)其范圍廣闊: 如熱化學(xué)表面技術(shù); 物理氣相沉積; 化學(xué)氣相沉積; 物理化學(xué)氣相沉積技術(shù); 高能等離體表面涂層技術(shù);金剛石薄膜涂層; 多元 多層復(fù)合涂層技術(shù); 表面改性及涂層性能預(yù)測及剪裁技術(shù); 性能測

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表面改性技術(shù)

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包覆層是推進(jìn)劑用包覆層的總稱.有四種類型。(1) propellant inhi6itiiig包覆在推進(jìn)劑表面用以控制燃向的耐 燃材料,見推進(jìn)劑包覆層、(2)inhi6iting iaycr燃速測試中 川以控制藥條燃面的限燃材料,如醋'}纖維,聚乙烯縮丁醛。 (3]lirser早期國內(nèi)把絕熱層和推進(jìn)Hl]之間的豁結(jié)劉也稱作 包覆層,現(xiàn)稱作襯層二(4)roatin}; '}1,覆在氧化劑}dttLaia}(} 表面性狀的表面改性劑_

金屬蒸氣凝結(jié)在基體材料上而形成的覆層。采用真空蒸發(fā)方法時,在10(~10)帕壓力下進(jìn)行蒸發(fā),利用通電加熱,在較粗的鎢絲上預(yù)浸一層厚鋁,使鋁蒸氣源沉積在冷的工件表面上。50年代初,這一方法已用于制造大口徑天文望遠(yuǎn)鏡所需的反射鏡面,現(xiàn)代主要應(yīng)用于電子器件、陶瓷和壓電晶體的電極表面和反光鏡面等,也可在紙塑料和鋼帶上生成鋁、鋅、金、銀等覆層另一種方法是濺射,即在10(~10(帕真空中,氣體在電極間產(chǎn)生放電現(xiàn)象,帶正電的氣體離子在 100~10000電子伏下轟擊陰極,形成金屬原子的氣相束流,沉積在冷的或加熱的工件表面上,形成極薄但致密的金屬覆層。磁控管濺射技術(shù)已能在大表面的工件上較快地沉積出較勻的金屬覆層,如在塑料上濺射鉻,可用于汽車工業(yè)。離子鍍方法發(fā)展很迅速。采用這種方法時,將待鍍的試樣作為陰極,外加電位3000~5000伏,用電阻加熱、電子束加熱或感應(yīng)加熱,產(chǎn)生帶正電的金屬蒸氣,在輝光放電區(qū)變?yōu)檎x子,能以比濺射粒更高的能量覆蓋到工件表面上。氣相沉積覆層方法不僅用于金屬,還適用于無機(jī)物和塑料的覆層。

MIKROTEST覆層測厚儀、測量鋼上所有非磁性涂層鍍層厚度(如漆、粉末涂層、塑料、鋅、銅、錫及鎳)。測量快速、精確、無損,三十多年來MICROTEST 已成為被廣泛應(yīng)用的自動測定涂鍍層厚度的專用儀器。德國的“訣竅”說明它在工藝技術(shù)及精度方面,具有磁性覆層測厚儀的最高水準(zhǔn)。

所有儀器均符合DIN、ISO及ASTM標(biāo)準(zhǔn)。MIKROTEST完全自動操作。

在使用時具有無可比擬的如下特性:

1.自動測量不會發(fā)生誤操作

2.易于掌握并具有極高精度

3.不用校準(zhǔn)、設(shè)定、檢測簡便

4.不需要電池或其他電源

5.自動報出厚度讀值

6.用無損測頭,一點測定

7.金屬鎧裝適于室外頻繁操作使用

8.抗機(jī)械沖擊、耐酸及溶劑腐蝕

9.平衡裝置消除地心引力影響,可在任意方向和管內(nèi)準(zhǔn)確測量。

二、技術(shù)參數(shù):

型 號

測量范圍

讀值精度

最小測量區(qū)直徑

最小半徑

凸 凹

mm mm

基體最小厚度mm

最適合用于

MIKROTEST G 6

0-100μm

1μm或5%讀值

20mm

5 25

0.5

鋼、鐵上電鍍層、漆、搪瓷、塑料、橡膠層

MIKROTEST F 6

0-1000μm

5μm或5%讀值

30mm

8 25

0.5

MIKROTEST S3 6

0.2-3mm

5%讀值

30mm

15 25

1.0

MIKROTEST S5 6

0.5-5mm

5%讀值

50mm

15 25

1.0

MIKROTEST S10 6

2.5-10mm

5%讀值

50mm

15 25

2.0

MIKROTEST S20 6

7.5-20mm

5%讀值

100mm

100 150

7.0

MIKROTEST NIFE50 6

0-50μm

2μm 8%讀值

20mm

10 25

0.5

鐵上電鍍鎳

MIKROTEST NI50

0-50um

1μm或5%讀值

15mm

5 25

-

非鐵磁金屬基體上電鍍鎳

MIKROTEST NI100

0-100um

1μm或5%讀值

15mm

5 25

-

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