磁流變拋光是科技名詞，意思是磁流變液是由磁性顆粒、基液和穩(wěn)定劑組成的懸浮液。磁流變效應(yīng)，是磁流變液在不加磁場(chǎng)時(shí)是可流動(dòng)的液體，而在強(qiáng)磁場(chǎng)的作用下，其流變特性發(fā)生急劇的轉(zhuǎn)變，表現(xiàn)為類似固體的性質(zhì)。

科技名詞定義: 中文名稱:磁流變拋光 英文名稱:Magnetorheological finishing 磁流變拋光液原理:磁流變液是由磁性顆粒、基液和穩(wěn)定劑組成的懸浮液。磁流變效應(yīng)，是磁流變液在不加磁場(chǎng)時(shí)是可流動(dòng)的液體，而在強(qiáng)磁場(chǎng)的作用下，其流變特性發(fā)生急劇的轉(zhuǎn)變，表現(xiàn)為類似固體的性質(zhì)，撤掉磁場(chǎng)時(shí)又恢復(fù)其流動(dòng)特性的現(xiàn)象。磁流變拋光技術(shù)，正是利用磁流變拋光液在梯度磁場(chǎng)中發(fā)生流變而形成的具有黏塑行為的柔性"小磨頭"與工件之間具有快速的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使工件表面受到很大的剪切力，從而使工件表面材料被去除。 磁流變拋光(MRF)是電磁理論、流體力學(xué)、分析化學(xué)等應(yīng)用于光學(xué)表面加工而形成的一項(xiàng)綜合技術(shù)。磁流變液是一種智能材料，其在磁場(chǎng)的作用下，可在1ms的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)固-液兩相的可逆轉(zhuǎn)換。

磁流變拋光造價(jià)信息

市場(chǎng)價(jià) 信息價(jià) 詢價(jià)
材料名稱 規(guī)格/型號(hào) 市場(chǎng)價(jià)
（除稅）		 工程建議價(jià)
（除稅）		 行情 品牌 單位 稅率 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)日期
拋光磚 巴塞納 垂直微粉升級(jí)版 一類 LW68 規(guī)格1200×600 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 米若拉 一類 LW83 規(guī)格600×600 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 原石印象 垂直布料立體微粉 三類 LW9 規(guī)格1200×600 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 絲綢之路 半透立體微粉 一類 Lw28 規(guī)格1000×1000 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 水岸春天 一類 LW66 規(guī)格800×800 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 繽紛玉 一類 LW80 規(guī)格800×800 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 原石印象 垂直布料立體微粉 一類 LW9 規(guī)格1000×1000 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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拋光磚 原石印象 垂直布料立體微粉 一類 LW9 規(guī)格800×800 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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材料名稱 規(guī)格/型號(hào) 除稅
信息價(jià)		 含稅
信息價(jià)		 行情 品牌 單位 稅率 地區(qū)/時(shí)間
電磁閥 DN20 查看價(jià)格 查看價(jià)格

個(gè) 深圳市2005年7月信息價(jià)
電磁閥 ZSPC-15 查看價(jià)格 查看價(jià)格

個(gè) 湛江市2005年2月信息價(jià)
電磁閥 ZSPC-50 查看價(jià)格 查看價(jià)格

個(gè) 湛江市2005年2月信息價(jià)
電磁閥 ZSPC-80 查看價(jià)格 查看價(jià)格

個(gè) 湛江市2005年2月信息價(jià)
電磁閥 ZSPC-20 查看價(jià)格 查看價(jià)格

個(gè) 湛江市2005年1月信息價(jià)
電磁閥 ZSPC-25 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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電磁閥 ZSPC-32 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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電磁閥 ZSPC-100 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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材料名稱 規(guī)格/需求量 報(bào)價(jià)數(shù) 最新報(bào)價(jià)
（元）		 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)地區(qū) 最新報(bào)價(jià)時(shí)間
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磁流變拋光簡(jiǎn)介常見(jiàn)問(wèn)題

磁流變拋光簡(jiǎn)介文獻(xiàn)

大拋光模磁流變超光滑平面拋光技術(shù)研究 大拋光模磁流變超光滑平面拋光技術(shù)研究

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近年來(lái),隨著信息電子技術(shù)、光電技術(shù)及半導(dǎo)體照明技術(shù)的迅速發(fā)展,超光滑平面元器件需求越來(lái)越大,這些表面要求達(dá)到亞納米級(jí)表面粗糙度、微米級(jí)面形精度且無(wú)表面和亞表面損傷,傳統(tǒng)超精密拋光技術(shù)由于耗時(shí)、成本高、易產(chǎn)生表面損傷,難以滿足大批量生產(chǎn)的要求。磁流變加工被認(rèn)為是一種極具前景的獲取低損傷鏡面的技術(shù)手段,然而,傳統(tǒng)磁流變加工方法拋光點(diǎn)面積小,加工效率低。為解決上述問(wèn)題,本文在比較分析國(guó)內(nèi)外超光滑表面加工技術(shù)的基礎(chǔ)上,提出了一種大拋光模磁流變超光滑平面拋光技

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磁流變光整加工技術(shù)研究進(jìn)展 磁流變光整加工技術(shù)研究進(jìn)展

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磁流變光整加工技術(shù)研究進(jìn)展

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超精密磁流變拋光（Magnetorheological Finishing，MRF）技術(shù)自1998年被美國(guó)QED公司成功研制之后，其無(wú)應(yīng)力、無(wú)亞表面損傷、柔性剪切去除等特性受到國(guó)內(nèi)外眾多科研單位的青睞，與離子束加工技術(shù)（Ion beam figuring，IBF）共同被認(rèn)為是近30年來(lái)光學(xué)加工領(lǐng)域最為創(chuàng)新的兩大技術(shù)。而柔性剪切磁流變拋光液、高效去除算法的校正與補(bǔ)償是磁流變工藝技術(shù)的主要核心，美國(guó)QED公司在該領(lǐng)域?qū)ν鈱?shí)行技術(shù)封鎖。

光學(xué)加工是一項(xiàng)極其復(fù)雜的工藝過(guò)程，隨著現(xiàn)代精密光學(xué)系統(tǒng)對(duì)光學(xué)元件面形精度、光潔度、粗糙度等要求的不斷提升，傳統(tǒng)光學(xué)加工技術(shù)已不能完全適應(yīng)當(dāng)前光學(xué)系統(tǒng)的發(fā)展趨勢(shì)。近期，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所超精密光學(xué)技術(shù)及裝備總體部鐘顯云帶領(lǐng)的精密光學(xué)加工課題組在國(guó)家重大專項(xiàng)課題的支持下，先后突破了雙相基載磁流變拋光液的研制技術(shù)以及基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法，并在現(xiàn)有的MRF設(shè)備上成功解決研究所多塊高難度光學(xué)元件的精密制造。

由于光學(xué)材料性能存在差異，磁流變對(duì)不同材料的去除機(jī)理及效率也不盡相同。課題組對(duì)磁流變拋光液進(jìn)行了多年的理化分析及實(shí)驗(yàn)測(cè)試，對(duì)拋光液的成分及比例做不同程度的調(diào)整，共完成了三種雙相基載磁流變拋光液的研制，分別適用于Fused Silica、Zerodur等常規(guī)光學(xué)玻璃材料、Si、CaF2、ZnSe等軟性材料、Rb-SiC，S-SiC等硬性材料。開(kāi)發(fā)的基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法，有效地對(duì)光學(xué)元件低頻誤差（f>8mm-1）確定性去除，并有效抑制了中頻誤差，低頻收斂精度由75%提升為93%，中頻誤差由4nm-6nm抑制在1nm以內(nèi)。

課題組開(kāi)展的磁流變工藝技術(shù)驗(yàn)證了光學(xué)元件納米精度制造（平面：rms1.7nm，f/1球面：rms1.8nm），并成功解決了超薄窗口、輕量化結(jié)構(gòu)非球面主鏡（ULE材料）以及超薄自適應(yīng)變形次鏡（Si材料）等高難度元件加工，同時(shí)解決了照明系統(tǒng)CaF2凹凸錐超光滑加工（凸錐面Rq：0.4nm，凹錐面Rq：0.7nm）以及物鏡系統(tǒng)非球面納米精度、超光滑加工（Rq：0.21nm-0.3nm）。

相關(guān)研究成果發(fā)表在SPIE、Optical Engineer上，并已完成8項(xiàng)專利申請(qǐng)。

基于Bayesian迭代的拋光斑校正與補(bǔ)償算法

曝光系統(tǒng)核心元件的超光滑制造

來(lái)源：中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所

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磁流變，采用參數(shù)化磁流變阻尼器的整車模犁，將最優(yōu)控制得到的反饋控制矩陣與磁流變參數(shù)相聯(lián)系，得到最佳的電路控制矩陣，從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)懸架中磁流變阻尼器的控制。

以加權(quán)加速度均方根值為評(píng)價(jià)指標(biāo)，在更符合實(shí)際的相關(guān)隨機(jī)路面譜下，分析了整車模犁被動(dòng)控制與半主動(dòng)控制對(duì)整個(gè)懸掛系統(tǒng)減振效果產(chǎn)生的影響。比較兩種控制下的傳遞率以及耗能情況，從而考察應(yīng)用磁流變阻尼器的半主動(dòng)控制懸掛系統(tǒng)的性能

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1 筒式磁流變減振器

2 葉片式磁流變減振器

在磁流變減振器領(lǐng)域，筒式MRF減振器的發(fā)展迅速，已有40多萬(wàn)輛裝有筒式MRF減振器的車輛在公路上行駛，葉片式MRF減振器在軍用履帶車輛上應(yīng)用雖然前景廣闊，但實(shí)車應(yīng)用很少。

在磁流變減振器阻尼力數(shù)學(xué)模型描述方面，盡管對(duì)磁流變減振器力學(xué)性能的描述比較成熟，但應(yīng)用范圍有各自的局限，其中，Bouc.Wen模型在工程實(shí)際中應(yīng)用較多。對(duì)于實(shí)際工程應(yīng)用，建立基于臺(tái)架試驗(yàn)數(shù)據(jù)的磁流變減振器阻尼力數(shù)學(xué)模型，。

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