等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜機主要功能

介紹了采用90°螺旋管的過濾真空弧等離子體沉成膜系統(tǒng),對磁過濾管道的傳輸特性進行了實驗研究,實驗觀察到,弧源聚焦磁場和過濾管道正偏壓越高,過濾管道的傳輸效率越高,但聚焦磁場高過一定閾值時,會出現(xiàn)起弧不穩(wěn)現(xiàn)象,此閾值的大小同過濾管道磁場及偏壓的大小有關(guān),過濾管道正偏壓在40￣60V范圍內(nèi),管道磁場在7￣11mT時傳輸效率較高,偏壓越高達到最佳傳輸效率所需的過濾管道磁場越高。

以制備兼具陽光控制和低輻射功能的鍍膜玻璃為目的,以硅烷與四氯化鈦為反應(yīng)前驅(qū)體,氮氣為保護氣體和稀釋氣體,通過常壓化學(xué)氣相沉積法模擬玻璃浮法在線鍍膜工藝,在玻璃基板上成功制備了Ti5Si3薄膜,用X射線衍射、場發(fā)射掃描電子顯微鏡、四探針測阻儀和分光光度計對薄膜的相結(jié)構(gòu)、形貌、電學(xué)、光學(xué)性能進行了表征。結(jié)果表明:薄膜為六方結(jié)構(gòu)的Ti5Si3晶相,晶相含量較高,晶粒尺寸為23nm,薄膜中的晶粒以200nm左右的多晶顆粒團聚體形式存在。薄膜電阻率為122μΩ·cm,與Ti5Si3晶體的本征電阻率相當(dāng)。這種單層鍍膜玻璃的紅外反射率可高達92.1%,可見光區(qū)的透過率為25%,兼具陽光控制和低輻射功能。