中文名 | 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) | 產(chǎn)????地 | 中國 |
---|---|---|---|
學(xué)科領(lǐng)域 | 化學(xué)、材料科學(xué) | 啟用日期 | 2015年1月30日 |
所屬類別 | 工藝試驗儀器 > 化工、制藥工藝實驗設(shè)備 |
薄膜材料。
(1) 極限真空為3×10-4 Pa;在真空室下方設(shè)一個氣體截流閥,截流閥連續(xù)可調(diào),控制反應(yīng)室的工作氣壓。襯底可升降200mm,襯底旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速為30~60轉(zhuǎn)/分;基片加熱為700±1℃; (2) 噴淋頭分為三層結(jié)構(gòu),上部水冷,噴口處要求絕緣;Zn源管可拆卸,便于清洗, Zn源管與O源孔位的加工,必須使布?xì)饩鶆?四周有石英罩,距樣品臺邊緣距離20-30mm,電離電極側(cè)進(jìn)口。
等離子體聚合物在結(jié)構(gòu)上與普通的聚合物顯著不同,它能形成含有活性基團(tuán)的高度交聯(lián)的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu),從而具有良好的均勻性及對基質(zhì)的附著性[1,2].有關(guān)采用等離子體聚合膜的TSM傳感器的報道不多[3,4],本室已...
等離子體又叫做“電漿”,是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì) 在人工生成等離子體的方法中,氣體放電法比加熱的辦法更加簡便高效,如熒光燈、霓虹燈、電弧焊、電暈放電...
低溫等離子體:適合的應(yīng)用材料的表面清洗活化焊接,油漆,打印,密封,起泡,涂覆及硅化前表面活化處理。氣體裂解和高效滅菌加速化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)品特點:突破低氣壓限制,可在大氣壓下引發(fā)等離子體;可對材料連續(xù)在線處理...
格式:pdf
大小:423KB
頁數(shù): 5頁
評分: 4.5
介紹了采用90°螺旋管的過濾真空弧等離子體沉成膜系統(tǒng),對磁過濾管道的傳輸特性進(jìn)行了實驗研究,實驗觀察到,弧源聚焦磁場和過濾管道正偏壓越高,過濾管道的傳輸效率越高,但聚焦磁場高過一定閾值時,會出現(xiàn)起弧不穩(wěn)現(xiàn)象,此閾值的大小同過濾管道磁場及偏壓的大小有關(guān),過濾管道正偏壓在40 ̄60V范圍內(nèi),管道磁場在7 ̄11mT時傳輸效率較高,偏壓越高達(dá)到最佳傳輸效率所需的過濾管道磁場越高。
低溫成膜,溫度對基片影響小,可制備厚膜,膜層成分均勻;等離子體對基片有清洗作用;該設(shè)備主要應(yīng)用等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù),用來制作SiO2、SiN4、非品Si等介電、半導(dǎo)體及金屬膜。
直徑450*H400mm,真空極限優(yōu)于6.7*10-5Pa,頻率13.56MHz.低溫成,溫度對基片影響小,可制備厚膜,膜層成分均勻,等離子體對基片有清洗作用。
低溫工藝,可在溫室下進(jìn)行SiO2淀積。