中文名 | 反應離子蝕刻機 | 產(chǎn)????地 | 中國 |
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學科領域 | 機械工程 | 啟用日期 | 2015年10月1日 |
所屬類別 | 工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 半導體集成電路工藝實驗設備 |
用于MEMS淺槽刻蝕工藝。
1.極限真空: 4.0×10-4 Pa2.刻蝕材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室規(guī)格: φ300"sup--normal" data-sup="1" data-ctrmap=":1,"> [1]
產(chǎn)品型號:自動單雙面蝕刻機參數(shù)說明:編號:7198474316外形尺寸:2000×1120 ×1000 mm加工版面:≤寬600mm(長度不限)工作形式:連續(xù)進料、雙面噴淋式過濾形式:供液過濾+下料過...
蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經(jīng)由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。
蝕刻機可以分為『化學蝕刻機』及『電解蝕刻機』兩類。。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經(jīng)由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為...
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LE 系列大型水平連續(xù)電解蝕刻機 及其聯(lián)機組線 THE METAL SHEET RUNNING ELECTROLYSIS LINE 國家科技部中小企業(yè)創(chuàng)新基金項目 18 項核心專利技術(shù) 技術(shù)方案 THE SPECIFICATIONS 設備報價 THE EQUIPMENT PRICE 常州正成機電科技有限公司 HONEST(CHINA)ETCHING & FINISHING MACHINE CO.,LTD 地 址:江蘇常州羅溪空港工業(yè)區(qū)盛意路 9號 電 話:0519-88226802 傳 真:0519-88225972 手 機:13906112105 技術(shù)支持: study@cckk.cn www.cckk.cn 總 工:周丁政 2 目 錄 CONTENT §1. 專用名詞注釋·· §2. 水平連續(xù)電解蝕刻法導入大尺寸金屬板裝飾紋理加工的研發(fā)歷程回眸· · §3. 水平電解
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采用噴淋式蝕刻機,以FeCl3基蝕刻液對模具鋼進行噴淋蝕刻,通過測定不同蝕刻液溫度、不同噴淋壓力下的蝕刻深度,考察了幾個獨立因素對蝕刻深度的影響,得出蝕刻深度的規(guī)律性變化:蝕刻深度增長速率隨蝕刻液溫度的升高而增大,隨噴淋壓力的增大而先增大,后逐漸減小。分析了蝕刻深度呈此種變化規(guī)律的原因。
離子反應的反應速率快,相應離子間的反應不受其它離子的干擾。
在反應中有離子參加或有離子生成的反應稱為離子反應。在中學階段僅限于在溶液中進行的反應,可以說離子反應是指在水溶液中有電解質(zhì)參加的一類反應。因為電解質(zhì)在水溶液里發(fā)生的反應,其實質(zhì)是該電解質(zhì)電離出的離子在水溶液中的反應。
離子反應書寫
用實際參加反應的離子符號來表示離子反應的式子。
“一寫”:首先以客觀事實為依據(jù)寫出反應的化學方程式;
“二改”:把易溶于水、易電離物質(zhì)改寫成離子形式(最關(guān)鍵的一步):
“三刪”:刪去方程式兩邊未參加反應的離子;
“四查”:檢查離子方程式兩邊各元素的原子個數(shù)和電荷總數(shù)是否相等。
離子方程式反映了離子反應的實質(zhì),它不僅能表示一定物質(zhì)間的某個反應,而且可以表示同一類型的離子反應。2100433B