干法靜電施釉法是指釉粉在一定壓力的壓縮空氣作用下,懸浮于壓縮空氣中,經(jīng)氣力輸送在通過(guò)一個(gè)高壓電場(chǎng)時(shí),空氣中的電子撞擊釉粉顆粒,使釉粉帶負(fù)電。釉粉和坯體分別帶負(fù)電荷和正電荷,在電荷吸引力作用下,帶負(fù)電的釉粉向坯體運(yùn)動(dòng),并在坯體的表面積聚,當(dāng)釉粉和坯體之間的電勢(shì)差等于零時(shí),釉粉不再向坯體坯體方向運(yùn)動(dòng),完成施釉??梢栽谂黧w上形成0.1~ 1mm 厚的釉層。
干法靜電施釉主要用于面磚的施釉,生坯、素坯、加化妝土和不加化妝土的適合于快速燒成和傳統(tǒng)工藝的坯體都適用該工藝。使用干法靜電施釉工藝得到的釉層顆粒堆積比較疏松,為燒成過(guò)程中氣體的排除提供了大量的通道,燒后的釉面結(jié)構(gòu)致密,降低了氣泡、針孔等缺陷,釉面平整光滑。2100433B
請(qǐng)教火電廠干法,半干法,濕法脫硫的問(wèn)題
半干法兼有濕法和干法脫硫的一些特點(diǎn),指脫硫劑在干燥狀態(tài)下脫硫,在濕狀態(tài)下再生(如水洗活性碳再生流程),或者在濕狀態(tài)下脫硫、在干狀態(tài)下處理脫硫產(chǎn)物(如噴霧干燥法)的煙氣脫硫技術(shù)。特別是在濕狀態(tài)下脫硫、在...
技術(shù)根本不成熟,三種方法都是狗屁!用哪一種都會(huì)在短時(shí)間里腐蝕脫硫設(shè)備和相關(guān)設(shè)備,尤其濕法脫硫更甚!
濕式電除塵主要針對(duì)濕法脫硫,特備是噴淋法脫硫。因?yàn)闈穹摿蛟趦魺煔庵胁豢杀苊獾囊獢y帶一些含有鹽的霧滴,而這些鹽在按照環(huán)保局認(rèn)可的恒重測(cè)量法中,全部被認(rèn)為是粉塵,為此若采用超低排放,需考慮加裝濕電。而干...
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最近在北京召開(kāi)的全國(guó)陶瓷色、釉料研討會(huì)上,臺(tái)灣的專家在會(huì)上交流了“建筑陶瓷發(fā)展的新趨勢(shì)”,現(xiàn)將其中干法施釉新技術(shù)作一介紹,僅供借鑒。傳統(tǒng)的施釉方法是將釉料加水經(jīng)研磨,借助坯體毛細(xì)孔現(xiàn)象吸收水分將釉附著在陶瓷坯體上,而這里介紹的這種新的施釉方法,是用膠水把干的釉粉或釉粒粘附在坯體上,這種方法可以使釉面更加富有變化。
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專業(yè)文檔供參考,如有幫助請(qǐng)下載。 第三節(jié) 干法和半干法脫硫工藝 噴霧干燥法脫硫工藝 噴霧干燥法脫硫工藝以石灰為脫硫吸收劑, 石灰經(jīng)消化并加水制 成消石灰乳,由泵打入位于吸收塔內(nèi)的霧化裝置,在吸收塔內(nèi),被霧 化成細(xì)小液滴的吸收劑與煙氣混合接觸,與煙氣中的 SO2發(fā)生化學(xué)反 應(yīng)生成 CaS03,煙氣中的 SO2被脫除。與此同時(shí),吸收劑帶入的水分迅 速被蒸發(fā)而干燥, 煙氣溫度隨之降低。 脫硫反應(yīng)產(chǎn)物及未被利用的吸 收劑呈干燥顆粒狀,隨煙氣帶出吸收塔,進(jìn)入除塵器被收集。脫硫后 的煙氣經(jīng)除塵器除塵后排放。 為了提高脫硫吸收劑的利用率, 一般將 部分除塵器收集物加入制漿系統(tǒng)進(jìn)行循環(huán)利用。 該工藝有兩種不同的 霧化形式可供選擇,一種為旋轉(zhuǎn)噴霧輪霧化,另一種為氣液兩相流。 噴霧干燥法脫硫工藝具有技術(shù)成熟、 工藝流程較為簡(jiǎn)單、 系統(tǒng)可 靠性高等特點(diǎn),脫硫率可達(dá)到 85%以上。該工藝在美國(guó)及西歐一些國(guó) 家有一
對(duì)陶瓷坯體進(jìn)行自動(dòng)化施釉的生產(chǎn)線就叫施釉線 。(盤(pán)類施釉線 一般分為3個(gè)部分 輸入部分、 施釉部分和輸出部分)
輸入部分是指:對(duì)陶瓷坯體進(jìn)行清理(如 除塵、去土、掃灰等)傳送的部分。
施釉部分是指:對(duì)坯體進(jìn)行自動(dòng)化施釉(施釉部分主要是施釉機(jī))。
輸出部分是指:坯體施釉后再傳送出來(lái)(這部分包括有擦掉坯體多余的釉的抹釉裝置)
整個(gè)施釉線也就是
傳入坯體————自動(dòng)化施釉——————傳出坯體
容積差施釉裝置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱和施釉箱,其中施釉箱套裝固定在回釉箱的底面上,兩箱的底部連通,施釉箱的側(cè)壁上設(shè)置有水平儀,施釉箱內(nèi)設(shè)置有深度尺,其底部設(shè)置有高度可調(diào)的支座,回釉箱的底部設(shè)置有水平調(diào)節(jié)器。該裝置由調(diào)整水平調(diào)節(jié)器配合水平儀觀察,使施釉箱處于水平狀態(tài),調(diào)整支座高度配合深度尺,控制施釉的高度,施釉箱內(nèi)釉液的液面距施釉箱頂口有一段距離,該距離要保證需要施釉的加工品浸入施釉箱內(nèi)、底部觸及支座,此時(shí)釉液要從施釉箱頂口溢出但又不至于使釉液從回釉箱內(nèi)溢出。該裝置減少了人為因素,保證施釉陶瓷產(chǎn)品的施釉高度一致,且工藝簡(jiǎn)單,易操作,生產(chǎn)效率高。
高位循環(huán)補(bǔ)釉施釉裝置,其特征在于:包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵,其中施釉箱套裝固定在回釉箱的底面上,其側(cè)壁上設(shè)置有水平儀,施釉箱內(nèi)設(shè)置有深度尺,其底部設(shè)置有高度可調(diào)的支座,注釉箱位于施釉箱一側(cè)的上方,其底部經(jīng)單向閥與施釉箱連通,釉泵的輸入端探入回釉箱的底部,其輸出端探入注釉箱內(nèi)。該裝置由調(diào)整水平調(diào)節(jié)器配合水平儀觀察,使施釉箱處于水平狀態(tài),調(diào)整支座高度配合深度尺,控制施釉的高度,減少了人為因素,保證施釉陶瓷產(chǎn)品的施釉高度一致,提高了產(chǎn)品施釉的外觀質(zhì)量,且工藝簡(jiǎn)單,由原先的多道工序合為一次完成,設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,易操作,降低了產(chǎn)品成本,減少了次品率,提高了生產(chǎn)效率。