適用于各種金屬、陶瓷、晶體玻璃、石英類產(chǎn)品等材料圓柱體的研磨與拋光,。 2100433B
主要用于各類光纖插芯的圓柱體研磨拋光,研磨后圓柱度可控制在0.0005mm以內(nèi)。
BF527 國(guó)產(chǎn) 潔霸 高速拋光機(jī) [2009-12-2] 型號(hào) &...
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振動(dòng)研磨拋光機(jī)的粗拋光和精拋光有什么不同
兩者的區(qū)別在于功能不同,作用是一樣的,研磨是拋光之前處理漆面劃痕損傷的修復(fù)工藝技術(shù),拋光是研磨之后處理漆面瑕疵的修復(fù)工藝技術(shù)。研磨劑主要作用是研磨,處理漆面光澤度不加。拋光劑主要作用是使漆面光滑且有光...
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本發(fā)明公開(kāi)了一種用于稻米類谷物或其他谷物的研磨和/或拋光機(jī),其具有被篩網(wǎng)包圍著的研磨和/或拋光轉(zhuǎn)子,所述篩網(wǎng)由幾個(gè)可徑向調(diào)節(jié)的篩網(wǎng)段構(gòu)成,每個(gè)所述篩網(wǎng)段分別在一端上以可擺動(dòng)方式套裝在雙頭螺釘上。每個(gè)篩網(wǎng)段還分別在其另一端上以可擺動(dòng)方式套裝在雙頭螺釘上,相鄰篩網(wǎng)段的結(jié)構(gòu)上設(shè)有共用杠桿,所述共用杠桿跨過(guò)形成在每?jī)蓚€(gè)毗鄰篩網(wǎng)段之間的軸向縫隙。
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研磨拋光機(jī)的機(jī)械部分主要是由傳動(dòng)系統(tǒng)、磨盤(pán)、磨盤(pán)連接接頭、主體支架、工件夾緊盤(pán)和供液系統(tǒng)組成.在LZM-6B研磨拋光機(jī)工作過(guò)程中,主體結(jié)構(gòu)影響擺動(dòng),傳動(dòng)機(jī)構(gòu)影響加載均勻性.研磨拋光液的均勻性對(duì)拋光的質(zhì)量也有很大的影響.本文從拋光機(jī)的主體結(jié)構(gòu)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、夾具和供應(yīng)系統(tǒng)等方面,介紹改造行星式研磨拋光機(jī)的機(jī)械部分的設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn).
雙面精密研磨拋光機(jī)可以對(duì)硅、氧化硅材料進(jìn)行減薄以及拋光處理。實(shí)現(xiàn)對(duì)于加工后的粗糙硅表面進(jìn)行減薄、平坦化以及二次平整的工藝步驟,以保證后續(xù)硅硅鍵合或者光刻工藝的順利進(jìn)行。該設(shè)備的最終處理對(duì)象為不平整的硅表面、氧化硅表面,實(shí)現(xiàn)樣品的厚度減薄或?qū)崿F(xiàn)表面平整化與拋光。 2100433B
可處理待磨拋材料的要求:可以滿足4英寸及4英寸以下、厚度為50um到15mm之間的純硅片、純玻璃片、純無(wú)氧銅片的圓片、帶膠、及有中空結(jié)構(gòu)的器件的減薄及拋光工藝要求;減薄后樣品總厚度偏差(TTV):小于±2 μm 4英寸;粗糙度:精拋后表面粗糙度Ra小于5 nm;厚度在線監(jiān)測(cè),測(cè)試精度優(yōu)于2μm。
拋光機(jī) 拋丸清理機(jī) 噴砂/丸機(jī) 光飾機(jī) 磨床 精光機(jī) 拉絲機(jī) 砂帶機(jī) 砂光機(jī)
研磨機(jī) 磨光機(jī) 外圓拋光機(jī) 金相拋光機(jī) 研磨拋光機(jī) 剖溝機(jī) 彈簧拋光機(jī)
圓盤(pán)拋光機(jī) 方管拋光機(jī) 火焰拋光機(jī)鋼材拋光機(jī) 圓管拋光機(jī) 球面拋光機(jī)
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通過(guò)式拋光機(jī)