中文名 | 熱力電子公司 | 創(chuàng)立于 | 1956年 |
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創(chuàng)始人 | 喬治`哈茨奧普洛斯 | 所在國家 | 美國 |
新的戰(zhàn)略主題:1981~1982年,世界經(jīng)濟出現(xiàn)衰退。1982年,石油價格下跌。這兩個主要外部大震蕩促使公司重新調(diào)整戰(zhàn)略方向,將新戰(zhàn)略重點從資本密集型產(chǎn)業(yè)和煙囪產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)向先進的技術(shù)、醫(yī)療環(huán)保產(chǎn)業(yè)。
熱力電子公司開始大規(guī)模投資技術(shù)密型的研究開發(fā)項目,并且推動內(nèi)部開發(fā)和進行收購,因此被譽為“永動創(chuàng)新機器”。公司的創(chuàng)新產(chǎn)品包括熱力激光公司的柔光去毛系統(tǒng)、熱力心動系統(tǒng)公司的左心室助動系統(tǒng)、熱力電子公司的紅外輻射丙烷照明產(chǎn)品。
折產(chǎn)易子公司:為了資助心臟助動技術(shù)的開發(fā),1983年,熱力電子公司將熱力醫(yī)療分部折股出售,8萬股賣給一家私營資本公司,70萬股隨后公開上市。從此以后,公司十幾次運用折股出售子公司戰(zhàn)略,既保持了穩(wěn)定的大公司的優(yōu)勢,又獲得了小企業(yè)的好處。這一戰(zhàn)略的優(yōu)點之一就是能夠留住重要的雇員:因為通過出售子公司的結(jié)構(gòu)形式,創(chuàng)新者能得到一個公司的所有權(quán)為回報,并使其技術(shù)商品化。出售子公司還可以消除在大公司阻礙決策和扼殺創(chuàng)新的官僚主義。熱力電子公司將技術(shù)從實驗室引向市場,用認股權(quán)的方法獎勵雇員,激勵研究人員將他們的創(chuàng)意付諸管理實踐。
熱力電子公司 1980~1996 公司概念 熱力電子公司創(chuàng)立于1956年。創(chuàng)始人喬治`哈茨奧普洛斯是麻省理工學(xué)院研究員、機械工程教授。哈奧普洛斯夢想成立一個“以技術(shù)為動力的公司,它能出現(xiàn)社會上的重大需求,并開發(fā)出滿足這些需求的技術(shù)”。他的第一個創(chuàng)意是開發(fā)熱離子的商業(yè)利用(將熱能轉(zhuǎn)化成電能的過程)。這個主意沒有付諸實踐,但卻引發(fā)了無數(shù)其他創(chuàng)新之舉。 現(xiàn)在,熱力電子公司及其子公司生產(chǎn)環(huán)保、醫(yī)療和工業(yè)產(chǎn)品。1977年,熱力電子公司創(chuàng)收36億美元,比1976年增長24%,盈利也因此增長25%。
成立供熱公司需要以下手續(xù):1,辦理營業(yè)執(zhí)照,經(jīng)營范圍要有供熱或經(jīng)營供熱、(是生產(chǎn)型還是經(jīng)營型)2,辦理供熱許可證。到本市供熱管理辦公室,由市供熱辦登記審批報省供熱辦批準備案。供熱面積的不同審批的級別也...
如果是去那里上班問里面的員工就可以得到答案了
有如下幾點: 1、好的形象主要是通過客戶的視覺感受產(chǎn)生的,而影響客戶視覺感受的常見因素有:企業(yè)的標志(或VI)、企業(yè)的形象墻(或門臉、logo墻)、企業(yè)的網(wǎng)站等。 2、其中形象墻是影響人第一感覺的重要...
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WORD格式整理版 學(xué)習(xí)參考好幫手 物料編碼規(guī)則 版本號: 日期: 編制: 校對: 批準: 1. 目的: 為規(guī)范本公司信息管理、實現(xiàn) ERP經(jīng)營管理與控制系統(tǒng)、統(tǒng)一本公司的物料信 息編碼,制定本規(guī)則。 2. 范圍: 本規(guī)則是我公司所有物料編碼的原則,具體編碼由技術(shù)工藝部編制,同公司各 部門協(xié)商后,下達各部門嚴格執(zhí)行,本公司任何涉及到物料的管理、業(yè)務(wù)、單證、 合同等必須統(tǒng)一執(zhí)行物料編碼。 3. 說明: 3.1 物料編碼由數(shù)字組成,編碼總長度 9位; 3.2 大類(1位),中類(0或 1位),物料特征碼( 0或 2位),其余為流水編 號。 3.3 大類分為:1原材料,2成品,3半成品,4生產(chǎn)低值易耗品, 5工具,6 總 務(wù)庫物資, 7固定資產(chǎn), 8臨時編碼; 3.4 中類占 0或 1位,0位的表示大類后面全部為流水編號; 3.5 小類占 0或 2
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威特真空電子制造 培訓(xùn)記錄 培訓(xùn)容 講 師 培訓(xùn)時間 培訓(xùn)地點 培 訓(xùn) 記 錄 序 號 要求參 加人員 考勤簽到 考核或 評估 備注 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 培訓(xùn)效果評價 WTQP04-004A
狀態(tài)可能是平衡的,也可能是非平衡的(見熱力平衡)。經(jīng)典熱力學(xué)研究的通常是熱力平衡狀態(tài)和由平衡狀態(tài)所組成的過程。用于描述熱力系統(tǒng)狀態(tài)的物理量稱為熱力狀態(tài)參數(shù),或簡稱狀態(tài)參數(shù),如壓力、溫度和比容等。狀態(tài)參數(shù)的數(shù)值僅僅取決于熱力系統(tǒng)的狀態(tài),而與達到這種狀態(tài)所經(jīng)歷的熱力過程無關(guān)。因此,給定的狀態(tài)有確定的狀態(tài)參數(shù)值。換句話說,當一個狀態(tài)參數(shù)的數(shù)值發(fā)生變化時,熱力系統(tǒng)的狀態(tài)也就發(fā)生變化。臨界狀態(tài)是熱力狀態(tài)的一種特定情況。
熱力過程,熱力系統(tǒng)在某種因素推動下發(fā)生狀態(tài)變化的過程,熱力過程的特點反映在過程方程上,過程方程描述受特定過程約束的熱力狀態(tài)參數(shù)間的函數(shù)關(guān)系,由此可得出系統(tǒng)變化前后的狀態(tài)參數(shù)關(guān)系式。
摘要:基于Gibbs自由能最小原理,對SiHC13法生產(chǎn)電子級多晶硅閉環(huán)工藝的3個反應(yīng)子系統(tǒng)分別進行了化學(xué)反應(yīng)
平衡計算,重點對SiHC1 還原反應(yīng)子系統(tǒng)進行了熱力學(xué)分析.對于SiHC13還原反應(yīng)子系統(tǒng),適宜的操作溫度為
l 323 l473 K,壓力為0.1 MPa;溫度高于l 323 K,H2/SiHC13比大于6.6,低壓下有利于SiHC13還原生產(chǎn)多晶硅.針
對傳統(tǒng)的SiHCI3還原需要高溫下電加熱給過程操作帶來的諸多不便,提出了用cl2部分氧化使SiHCI3還原反應(yīng)體系
實現(xiàn)能量耦合的新工藝,即反應(yīng)過程不需外部加熱就可完成,從而節(jié)約電耗,同時還發(fā)現(xiàn)平衡時體系中加入的cl2能
反應(yīng)完全,不會影響后序工藝的進行.對于SiCh轉(zhuǎn)化反應(yīng)子系統(tǒng),高壓、低H2/SiCh比有利于生成SiHC13.
關(guān)鍵詞:多晶硅;生產(chǎn)工藝;化學(xué)反應(yīng)平衡