熱力電子公司

新的戰(zhàn)略主題：1981~1982年，世界經(jīng)濟出現(xiàn)衰退。1982年，石油價格下跌。這兩個主要外部大震蕩促使公司重新調(diào)整戰(zhàn)略方向，將新戰(zhàn)略重點從資本密集型產(chǎn)業(yè)和煙囪產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)向先進的技術(shù)、醫(yī)療環(huán)保產(chǎn)業(yè)。

熱力電子公司開始大規(guī)模投資技術(shù)密型的研究開發(fā)項目，并且推動內(nèi)部開發(fā)和進行收購，因此被譽為“永動創(chuàng)新機器”。公司的創(chuàng)新產(chǎn)品包括熱力激光公司的柔光去毛系統(tǒng)、熱力心動系統(tǒng)公司的左心室助動系統(tǒng)、熱力電子公司的紅外輻射丙烷照明產(chǎn)品。

折產(chǎn)易子公司：為了資助心臟助動技術(shù)的開發(fā)，1983年，熱力電子公司將熱力醫(yī)療分部折股出售，8萬股賣給一家私營資本公司，70萬股隨后公開上市。從此以后，公司十幾次運用折股出售子公司戰(zhàn)略，既保持了穩(wěn)定的大公司的優(yōu)勢，又獲得了小企業(yè)的好處。這一戰(zhàn)略的優(yōu)點之一就是能夠留住重要的雇員：因為通過出售子公司的結(jié)構(gòu)形式，創(chuàng)新者能得到一個公司的所有權(quán)為回報，并使其技術(shù)商品化。出售子公司還可以消除在大公司阻礙決策和扼殺創(chuàng)新的官僚主義。熱力電子公司將技術(shù)從實驗室引向市場，用認股權(quán)的方法獎勵雇員，激勵研究人員將他們的創(chuàng)意付諸管理實踐。

熱力電子公司 1980~1996 公司概念 熱力電子公司創(chuàng)立于1956年。創(chuàng)始人喬治`哈茨奧普洛斯是麻省理工學(xué)院研究員、機械工程教授。哈奧普洛斯夢想成立一個“以技術(shù)為動力的公司，它能出現(xiàn)社會上的重大需求，并開發(fā)出滿足這些需求的技術(shù)”。他的第一個創(chuàng)意是開發(fā)熱離子的商業(yè)利用（將熱能轉(zhuǎn)化成電能的過程）。這個主意沒有付諸實踐，但卻引發(fā)了無數(shù)其他創(chuàng)新之舉。 現(xiàn)在，熱力電子公司及其子公司生產(chǎn)環(huán)保、醫(yī)療和工業(yè)產(chǎn)品。1977年，熱力電子公司創(chuàng)收36億美元，比1976年增長24%，盈利也因此增長25%。

狀態(tài)可能是平衡的,也可能是非平衡的（見熱力平衡）。經(jīng)典熱力學(xué)研究的通常是熱力平衡狀態(tài)和由平衡狀態(tài)所組成的過程。用于描述熱力系統(tǒng)狀態(tài)的物理量稱為熱力狀態(tài)參數(shù)，或簡稱狀態(tài)參數(shù)，如壓力、溫度和比容等。狀態(tài)參數(shù)的數(shù)值僅僅取決于熱力系統(tǒng)的狀態(tài)，而與達到這種狀態(tài)所經(jīng)歷的熱力過程無關(guān)。因此，給定的狀態(tài)有確定的狀態(tài)參數(shù)值。換句話說，當一個狀態(tài)參數(shù)的數(shù)值發(fā)生變化時，熱力系統(tǒng)的狀態(tài)也就發(fā)生變化。臨界狀態(tài)是熱力狀態(tài)的一種特定情況。

熱力過程，熱力系統(tǒng)在某種因素推動下發(fā)生狀態(tài)變化的過程，熱力過程的特點反映在過程方程上，過程方程描述受特定過程約束的熱力狀態(tài)參數(shù)間的函數(shù)關(guān)系，由此可得出系統(tǒng)變化前后的狀態(tài)參數(shù)關(guān)系式。

摘要：基于Gibbs自由能最小原理，對SiHC13法生產(chǎn)電子級多晶硅閉環(huán)工藝的3個反應(yīng)子系統(tǒng)分別進行了化學(xué)反應(yīng)

平衡計算，重點對SiHC1 還原反應(yīng)子系統(tǒng)進行了熱力學(xué)分析．對于SiHC13還原反應(yīng)子系統(tǒng)，適宜的操作溫度為

l 323 l473 K，壓力為0．1 MPa；溫度高于l 323 K，H2/SiHC13比大于6．6，低壓下有利于SiHC13還原生產(chǎn)多晶硅．針

對傳統(tǒng)的SiHCI3還原需要高溫下電加熱給過程操作帶來的諸多不便，提出了用cl2部分氧化使SiHCI3還原反應(yīng)體系

實現(xiàn)能量耦合的新工藝，即反應(yīng)過程不需外部加熱就可完成，從而節(jié)約電耗，同時還發(fā)現(xiàn)平衡時體系中加入的cl2能

反應(yīng)完全，不會影響后序工藝的進行．對于SiCh轉(zhuǎn)化反應(yīng)子系統(tǒng)，高壓、低H2/SiCh比有利于生成SiHC13．

關(guān)鍵詞：多晶硅；生產(chǎn)工藝；化學(xué)反應(yīng)平衡