中文名 | 蝕刻機 | 外文名 | etching machine |
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噴射壓力 | 1-2 Kg/cm2 | 優(yōu)????點 | 無污染 |
缺????點 | 蝕刻面不均勻 |
電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為蝕刻主體的液體中發(fā)生陽極溶解的原理,(電解的作用下)將金屬進行蝕刻,接通蝕刻電源,從而達到蝕刻的目的。市售的電解蝕刻機都是手動噴淋式的,并且都是以鹽水為蝕刻溶液,功率有大小二種,
優(yōu)點:無污染,但只有蝕刻一個步驟無污染是不行的,其他工序也必須無污染,適合實驗生產、凹字小面積蝕刻。主要用做研究實驗機,或者簡單的在金屬上蝕刻標記,也稱為電打標。
缺點:蝕刻面不均勻,大面積腐蝕速度慢,不能用于量產,也不能做凸字大面積蝕刻,不能用做標牌的大批量生產加工。由于電解蝕刻是在金屬導電的情況下形成蝕刻的,那么我們的產品在蝕刻下去有任何的深度時側面也將被蝕刻的,這樣很多精細圖案,精細文字將被蝕刻”爛“掉。
產品型號:自動單雙面蝕刻機
參數(shù)說明:
編號:7198474316
外形尺寸:2000×1120 ×1000 mm
加工版面:≤寬600mm(長度不限)
工作形式:連續(xù)進料、雙面噴淋式
過濾形式:供液過濾 下料過濾
加熱系統(tǒng):鈦合金防腐加熱
工作溫度:38-50度(自動加熱)
蝕刻速度:無級調速
功 率:3.5kw/380V
控制系統(tǒng):蝕刻開關、單雙面蝕刻控制開關、自動溫控、水平輪片傳送(無級調速)2100433B
自動型蝕刻機:
1、 如今市場上所見到的自動型化學蝕刻機是通過高壓噴淋及被蝕刻板直線運動形成連續(xù)不間斷進料狀態(tài)進行對工件腐蝕以提高生產效率;
2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度,無論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環(huán)境及方便程度,都優(yōu)于潑濺式蝕刻;
3、 經反復實驗噴射壓力在1-2 Kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉,使蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高,由于該蝕刻機液體可循環(huán)再生使用,此項可大大降低蝕刻成本,也可達到環(huán)保加工要求。
產品型號:自動單雙面蝕刻機參數(shù)說明:編號:7198474316外形尺寸:2000×1120 ×1000 mm加工版面:≤寬600mm(長度不限)工作形式:連續(xù)進料、雙面噴淋式過濾形式:供液過濾+下料過...
蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。
蝕刻機可以分為『化學蝕刻機』及『電解蝕刻機』兩類。。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。電蝕刻是利用金屬在以自來水或鹽水為...
蝕刻機主要應用于航空、機械、標牌工業(yè)中,蝕刻機技術廣泛地被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板,銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等之加工。在半導體和線路版制程上,蝕刻更是不可或缺的技術。也可對各種金屬如:鐵、銅、鋁、鈦金、不銹鋼、鋅版、等金屬和金屬制品的表面蝕刻圖紋、花紋、幾何形狀,并能精確鏤空。也可專業(yè)針對各種型號的國產和進口不銹鋼進行蝕刻和薄板切割,如今廣泛應用于金卡標牌加工、手機按鍵加工、不銹鋼濾網加工、不銹鋼電梯裝飾板加工、金屬引線框加工、金屬眼鏡腳絲加工、線路板加工、裝飾性金屬板加工等工業(yè)用途。
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頁數(shù): 33頁
評分: 4.7
LE 系列大型水平連續(xù)電解蝕刻機 及其聯(lián)機組線 THE METAL SHEET RUNNING ELECTROLYSIS LINE 國家科技部中小企業(yè)創(chuàng)新基金項目 18 項核心專利技術 技術方案 THE SPECIFICATIONS 設備報價 THE EQUIPMENT PRICE 常州正成機電科技有限公司 HONEST(CHINA)ETCHING & FINISHING MACHINE CO.,LTD 地 址:江蘇常州羅溪空港工業(yè)區(qū)盛意路 9號 電 話:0519-88226802 傳 真:0519-88225972 手 機:13906112105 技術支持: study@cckk.cn www.cckk.cn 總 工:周丁政 2 目 錄 CONTENT §1. 專用名詞注釋·· §2. 水平連續(xù)電解蝕刻法導入大尺寸金屬板裝飾紋理加工的研發(fā)歷程回眸· · §3. 水平電解
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頁數(shù): 3頁
評分: 4.7
采用噴淋式蝕刻機,以FeCl3基蝕刻液對模具鋼進行噴淋蝕刻,通過測定不同蝕刻液溫度、不同噴淋壓力下的蝕刻深度,考察了幾個獨立因素對蝕刻深度的影響,得出蝕刻深度的規(guī)律性變化:蝕刻深度增長速率隨蝕刻液溫度的升高而增大,隨噴淋壓力的增大而先增大,后逐漸減小。分析了蝕刻深度呈此種變化規(guī)律的原因。
用于MEMS淺槽刻蝕工藝。
1.極限真空: 4.0×10-4 Pa2.刻蝕材料: Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、Au、Al、GaN、GaAs等3.真空室規(guī)格: φ300"sup--normal" data-sup="1" data-ctrmap=":1,"> [1]
外形尺寸:1350mm×1700mm×1300mm;
1600mm×2500mm×2000mm
工件安放形式:手掀式/抽拉式 / 電動掀蓋式
電壓:380v/三相四線制
總功率:6kw / 9kw
蝕刻面積:500mm×600mm ; 700mm×900mm
溶液容積:200L / 400L
溫控方式:自動溫控,自動制冷 。