橢偏儀光譜范圍

最初，橢偏儀的工作波長多為單一波長或少數(shù)獨立的波長，最典型的是采用激光或對電弧等強光譜光進行濾光產生的單色光源。大多數(shù)的橢偏儀在很寬的波長范圍內以多波長工作（通常有幾百個波長，接近連續(xù)）。和單波長的橢偏儀相比，光譜型橢偏儀有下面的優(yōu)點：可以提升多層探測能力，可以測試物質對不同波長光波的折射率等。

橢偏儀的光譜范圍在深紫外的142nm到紅外33um可選。光譜范圍的選擇取決于被測材料的屬性、薄膜厚度及關心的光譜段等因素。例如，摻雜濃度對材料紅外光學屬性有很大的影響，因此需要能測量紅外波段的橢偏儀；薄膜的厚度測量需要光能穿透這薄膜，到達基底，然后并被探測器檢測到，因此需要選用該待測材料透明或部分透明的光譜段；對于厚的薄膜選取長波長更有利于測量。

橢偏儀 全自動光譜橢偏儀 成像橢偏儀（成像橢圓偏振技術）激光單波長橢偏儀……

在光譜橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置，但每種配置都必須能產生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。

有些儀器測量ρ是通過旋轉確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片（稱為起偏器）。再利用第二個固定位置的偏振片（稱為檢偏器）來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器，而在中間部分調制偏振光的狀態(tài)，如利用聲光晶體等，最終得到輸出光束的偏振態(tài)。這些不同的配置的最終結果都是測量作為波長和入射角復函數(shù)ρ。

在選擇合適的橢偏儀的時候，光譜范圍和測量速度也是一個通常需要考慮的重要因素?？蛇x的光譜范圍從深紫外的142nm到紅外的33microm。光譜范圍的選擇通常由應用決定。不同的光譜范圍能夠提供關于材料的不同信息，合適的儀器必須和所要測量的光譜范圍匹配。

測量速度通常由所選擇的分光儀器（用來分開波長）來決定。單色儀用來選擇單一的、窄帶的波長，通過移動單色儀內的光學設備（一般由計算機控制），單色儀可以選擇感興趣的波長。這種方式波長比較準確，但速度比較慢，因為每次只能測試一個波長。如果單色儀放置在樣品前，有一個優(yōu)點是明顯減少了到達樣品的入射光的量（避免了感光材料的改變）。另外一種測量的方式是同時測量整個光譜范圍，將復合光束的波長展開，利用探測器陣列來檢測各個不同的波長信號。在需要快速測量的時候，通常是用這種方式。傅立葉變換分光計也能同時測量整個光譜，但通常只需一個探測器，而不用陣列，這種方法在紅外光譜范圍應用最為廣泛。

圖1給出了橢偏儀的基本光學物理結構。已知入射光的偏振態(tài)，偏振光在樣品表面被反射，測量得到反射光偏振態(tài)（幅度和相位），計算或擬合出材料的屬性。

入射光束（線偏振光）的電場可以在兩個垂直平面上分解為矢量元。P平面包含入射光和出射光，s平面則是與這個平面垂直。類似的，反射光或透射光是典型的橢圓偏振光，因此儀器被稱為橢偏儀。關于偏振光的詳細描述可以參考其他文獻。在物理學上，偏振態(tài)的變化可以用復數(shù)ρ來表示：其中，ψ和?分別描述反射光p波與s波振幅衰減比和相位差。P平面和s平面上的Fresnel反射系數(shù)分別用復函數(shù)rp和rs來表示。rp和rs的數(shù)學表達式可以用Maxwell方程在不同材料邊界上的電磁輻射推導得到。

其中?0是入射角，?1是折射角。入射角為入射光束和待研究表面法線的夾角。通常橢偏儀的入射角范圍是45°到90°。這樣在探測材料屬性時可以提供最佳的靈敏度。每層介質的折射率可以用下面的復函數(shù)表示

通常n稱為折射率，k稱為消光系數(shù)。這兩個系數(shù)用來描述入射光如何與材料相互作用。它們被稱為光學常數(shù)。實際上，盡管這個值是隨著波長、溫度等參數(shù)變化而變化的。當待測樣品周圍介質是空氣或真空的時候，N0的值通常取1.000。

通常橢偏儀測量作為波長和入射角函數(shù)的ρ的值（經常以ψ和?或相關的量表示）。一次測量完成以后，所得的數(shù)據(jù)用來分析得到光學常數(shù)，膜層厚度，以及其他感興趣的參數(shù)值。如圖2所示，分析的過程包含很多步驟。

可以用一個模型（model）來描述測量的樣品，這個模型包含了每個材料的多個平面，包括基底。在測量的光譜范圍內，用厚度和光學常數(shù)（n和k）來描述每一個層，對未知的參數(shù)先做一個初始假定。最簡單的模型是一個均勻的大塊固體，表面沒有粗糙和氧化。這種情況下，折射率的復函數(shù)直接表示為：

但實際應用中大多數(shù)材料都是粗糙或有氧化的表面，因此上述函數(shù)式常常不能應用。

圖2中的下一步，利用模型來生成Gen.Data，由模型確定的參數(shù)生成Psi和Detla數(shù)據(jù)，并與測量得到的數(shù)據(jù)進行比較，不斷修正模型中的參數(shù)使得生成的數(shù)據(jù)與測量得到的數(shù)據(jù)盡量一致。即使在一個大的基底上只有一層薄膜，理論上對這個模型的代數(shù)方程描述也是非常復雜的。因此通常不能對光學常數(shù)、厚度等給出類似上面方程一樣的數(shù)學描述，這樣的問題，通常被稱作是反演問題。

最通常的解決橢偏儀反演問題的方法就是在衰減分析中，應用Levenberg-Marquardt算法。利用比較方程，將實驗所得到的數(shù)據(jù)和模型生成的數(shù)據(jù)比較。通常，定義均方誤差為：

在有些情況下，最小的MSE可能產生非物理或非唯一的結果。但是加入符合物理定律的限制或判斷后，還是可以得到很好的結果。衰減分析已經在橢偏儀分析中收到成功的應用，結果是可信的、符合物理定律的、精確可靠。

早期的橢偏研究主要集中于偏振光及偏振光與材料相互作用的物理學研究以及儀器的光學研究。計算機的發(fā)展和應用使橢偏數(shù)據(jù)的擬合分析變得容易，促使橢偏儀在更多的領域得到應用。硬件的自動化和軟件的成熟大大提高了運算的速度，成熟的軟件提供了解決問題的新方法，因此，橢偏儀已被廣泛應用于材料、物理、化學、生物、醫(yī)藥等領域的研究、開發(fā)和制造過程中。

橢偏儀應用領域

半導體、微電子、MEMS、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、科學研究、物理、化學、生物、醫(yī)藥 …

橢偏儀可測材料

半導體、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、自組裝單分子層、多層膜物質和石墨烯等等

成像橢圓偏振技術正在引起越來越多的興趣。研究人員發(fā)現(xiàn)利用成像橢偏技術可實現(xiàn)超小塊薄膜分析、原位橢偏測量、各種液體環(huán)境下的橢偏分析并且可以實現(xiàn)和多種技術聯(lián)用，如布魯斯特角顯微鏡、表面等離子共振、原子力顯微鏡、石英晶體微天平、LB槽、反射光譜儀、太赫茲光譜儀以及拉曼光譜儀等等。這些新特點拓展了橢偏儀的應用領域。這橢偏技術帶來了新的研究熱點的同時也給該技術帶來了挑戰(zhàn)，例如在非穩(wěn)定液體表面的薄膜的測量和顯微成像等。2100433B

■ 優(yōu)點：相對于光譜型橢偏儀，激光單波長橢偏儀比較簡單，由于不需要單色儀，四分之一玻片也可以根據(jù)波長固定，光學元件也可以針對特定波長進行設計，所以價格相對便宜，同時測量精度較高。

■缺點：對多層膜分析能力不足，不如光譜型橢偏儀。

橢偏儀測量橢偏參數(shù)

在橢偏測量過程中，有兩個橢偏參數(shù)非常關鍵。（標準）橢圓偏振測量四個史托克參數(shù)(Stokes parameters)中的兩個，通常以Δ及Φ來表示。TanΦ為反射后之振幅比，Δ為相位移（相差）。由于橢圓偏振系測量兩項之比值（或差異）而非其絕對數(shù)值，因此這技術所得的數(shù)據(jù)是相當正確且可再現(xiàn)的，其對散射及擾動等因素較不敏感，且不需要標準樣品或參考樣品。

橢偏儀測量數(shù)據(jù)分析和擬合

橢圓偏振為間接量測的技術，也就是說，一般測得的Δ及Φ并不能直接轉換為樣品的光學常數(shù)，通常需要建構模型來進行分析。只有對于無限厚（約厘米等級）、各向同性且均勻的膜，才可能直接轉換得到其Δ及Φ之數(shù)值。在所有其他的情形下，則必需建構其層狀模型，并考慮所有各層之各別的光學常數(shù)如(折射率或介電常數(shù))及厚度，且依正確的層畳順序建立。再借由多次最小方差法最適化，變動未知的光學常數(shù)及(或)厚度參數(shù)，以之代入菲涅耳方程計算求得其對應Δ及Φ數(shù)值。最后，所得最接近實驗數(shù)據(jù)之Δ及Φ數(shù)值，其參數(shù)來源的光學常數(shù)及(或)厚度可視為此量測之最適化結果。

橢偏儀測量橢偏測量結果

橢偏測量可取得薄膜的介電性質（復數(shù)折射率或介電常數(shù)）。它已被應用在許多不同的領域，從基礎研究到工業(yè)應用，如半導體物理研究、微電子學和生物學。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質測量技術，且具有非破壞性和非接觸之優(yōu)點。

分析自樣品反射之偏振光的改變，橢圓偏振技術可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊，小至一個單原子層，甚至更小。橢圓儀可測得復數(shù)折射率或介電函數(shù)張量，可以此獲得基本的物理參數(shù)，并且這與各種樣品的性質，包括形態(tài)、晶體質量、化學成分或導電性，有所關聯(lián)。它常被用來鑒定單層或多層堆棧的薄膜厚度，可量測厚度由數(shù)埃（Angstrom）或數(shù)納米到幾微米皆有極佳的準確性。

橢偏儀測量被測材料

半導體物理、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學鍍膜、平板顯示器、表界面科學研究、物理、化學、生物、醫(yī)藥、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、各種液體薄膜、自組裝單分子層、多層膜物質等等

在現(xiàn)代科學技術中，薄膜有著廣泛的應用。因此測量薄膜的技術也有了很大的發(fā)展，橢偏法就是70年代以來隨著電子計算機的廣泛應用而發(fā)展起來的已有的測量薄膜的最精確的方法之一。橢偏法測量具有如下特點：

1.能測量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2個數(shù)量級。

2.是一種無損測量，不必特別制備樣品，也不損壞樣品，比其它精密方法：如稱重法、定量化學分析法簡便。

3.可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收系數(shù)。因此可以作為分析工具使用。

4.對一些表面結構、表面過程和表面反應相當敏感。是研究表面物理的一種方法。