透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法

《透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》內(nèi)容包括:范圍、原理、儀器設(shè)備、試樣、參照樣品、試驗(yàn)方法、衍射譜的測(cè)量與計(jì)算等?!锻干潆娮语@微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》規(guī)定了用透射電子顯微鏡對(duì)薄晶體試樣微米級(jí)區(qū)域進(jìn)行選區(qū)電子衍射分析的方法。本方法適用于各種金屬與非金屬晶體薄膜(包括粉末試樣與萃取復(fù)型試樣)的電子衍射分析。

透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法基本信息

外文名稱 Method of Selected Area Electron Diffraction for Transmission Electron Microscopes 書名 透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法
作者 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 出版日期 2003年4月1日
語(yǔ)種 簡(jiǎn)體中文 ISBN 155066119336
出版社 中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社 頁(yè)數(shù) 12頁(yè)
開本 16 品牌 北京勁松建達(dá)科技圖書有限公司

前言

1范圍

2原理

3儀器設(shè)備

4試樣

5參照樣品

6試驗(yàn)方法

6.1儀器準(zhǔn)備

6.2選區(qū)電子衍射譜的獲得

6.3衍射常數(shù)Lλ的測(cè)定

7衍射譜的測(cè)量與計(jì)算

附錄A(規(guī)范性附錄)純金與純鋁的晶面間距表

附錄B(規(guī)范性附錄)單晶體的標(biāo)準(zhǔn)衍射譜

B.1面心立方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜

B.2體心立方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜

B.3密排六方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜

參考文獻(xiàn)

透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法造價(jià)信息

市場(chǎng)價(jià) 信息價(jià) 詢價(jià)
材料名稱 規(guī)格/型號(hào) 市場(chǎng)價(jià)
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《透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》的附錄A和附錄B為規(guī)范性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由北京科技大學(xué)材料物理與化學(xué)系、北京有色金屬研究院測(cè)試所起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:柳得櫓、劉安生。

透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法常見問題

  • 電子顯微鏡除了包括亞顯微鏡還包括什么?

    電子顯微鏡的分類 1、透射電鏡 (TEM) 樣品必須制成電子能穿透的,厚度為100~2000 ?的薄膜。成像方式與光學(xué)生物顯微鏡相似,只是以電子透鏡代替玻璃透鏡。放大后的電子像在熒光屏上顯示出來(lái),TE...

  • 電子顯微鏡成像原理

    電子顯微鏡是根據(jù)電子光學(xué)原理,用電子束和電子透鏡代替光束和光學(xué)透鏡,使物質(zhì)的細(xì)微結(jié)構(gòu)在非常高的放大倍數(shù)下成像的儀器。 電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點(diǎn)的最小間距來(lái)表示。20世紀(jì)70年代,透射...

  • 電子顯微鏡的工作原理是什么?

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透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法文獻(xiàn)

透射電子顯微鏡高壓電源箱氣體絕緣技術(shù)及充氣工藝 透射電子顯微鏡高壓電源箱氣體絕緣技術(shù)及充氣工藝

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本文通過比較高壓系統(tǒng)常用氣態(tài)絕緣介質(zhì)的性能,對(duì)比影響氣體絕緣性能的關(guān)鍵參數(shù),給出了透射電子顯微鏡高壓電源箱絕緣材料的優(yōu)化選擇,介紹了六氟化硫(SF6)氣體在透射電子顯微鏡高壓電源絕緣中的應(yīng)用,計(jì)算了充SF6絕緣氣體的高壓電源箱,并給出了透射電子顯微鏡高壓箱的絕緣充SF6氣體工藝。

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原子水平的表面特征傳感器—掃描式隧道電子顯微鏡(STM) 原子水平的表面特征傳感器—掃描式隧道電子顯微鏡(STM)

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原子水平的表面特征傳感器—掃描式隧道電子顯微鏡(STM)

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旋進(jìn)電子衍射儀安裝在透射電鏡上進(jìn)行分析,主要功能為:(1)旋進(jìn)電子衍射,獲得接近于運(yùn)動(dòng)學(xué)強(qiáng)度的電子衍射花樣,確定未知納米晶體的晶體結(jié)構(gòu);(2)位向成像、納米織構(gòu)分析,獲得納米分辨率的晶體取向及晶相分布。

場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡概述

2.利用微區(qū)電子衍射、會(huì)聚束電子衍射及元素分析可對(duì)小至0.5nm尺度的物質(zhì)進(jìn)行結(jié)構(gòu)和成分分析,因而特別實(shí)用于普通透射電鏡難以分析的微細(xì)析出相,界面和疇等極小區(qū)域內(nèi)成分、結(jié)構(gòu)的研究。 3.利用所配置的GIF系統(tǒng)不但可分析物質(zhì)的組成元素而且可分析組成元素的價(jià)態(tài)。

儀器類別: 03040701 /儀器儀表 /光學(xué)儀器 /電子光學(xué)及離子光學(xué)儀器 /透射式電子顯微鏡

指標(biāo)信息: 具有高相干性、高亮度的場(chǎng)發(fā)射槍 最大傾轉(zhuǎn)角:X=±35°,Y=±30° 加速電壓:200kV、160kV、100kV、80kV 點(diǎn)分辨率:0.23nm EDS元素范圍:B5~U92 晶格分辨率:0.102nm EDS能量分辨率:138eV

附件信息: 1.Gatan公司的GIF系統(tǒng) 4.普通單、雙傾臺(tái) 2.Link公司的EDS系統(tǒng)(超薄窗) 5.鈹單、雙傾臺(tái) 3.日本電子株式會(huì)社的STEM系統(tǒng) ,

周玉等的《材料分析方法(第3版)》主要包括材料X射線衍射分析和材料電子顯微分析兩大部分。書中介紹了用X射線衍射和電子顯微技術(shù)分析材料微觀組織結(jié)構(gòu)的原理、設(shè)備及試驗(yàn)方法。其內(nèi)容包括:X射線物理學(xué)基礎(chǔ)、X射線衍射方向與強(qiáng)度、多晶體分析方法、物相分析及點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)定、宏觀殘余應(yīng)力的測(cè)定、多晶體織構(gòu)的測(cè)定、電子光學(xué)基礎(chǔ)、透射電子顯微鏡、電子衍射、晶體薄膜衍襯成像分析、高分辨透射電子顯微術(shù)、掃描電子顯微鏡、電子背散射衍射分析技術(shù)、電子探針顯微分析、其他顯微結(jié)構(gòu)分析方法及實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)。書中的實(shí)例分析注重引入了材料微觀組織結(jié)構(gòu)分析方面的新成果。

《材料分析方法(第3版)》可以作為材料科學(xué)與工程學(xué)科的本科生和研究生教材或教學(xué)參考書,也可供材料成形及控制工程等其他專業(yè)師生和從事材料研究及分析檢測(cè)方面工作的技術(shù)人員學(xué)習(xí)參考。

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