《透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》內(nèi)容包括:范圍、原理、儀器設(shè)備、試樣、參照樣品、試驗(yàn)方法、衍射譜的測(cè)量與計(jì)算等?!锻干潆娮语@微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》規(guī)定了用透射電子顯微鏡對(duì)薄晶體試樣微米級(jí)區(qū)域進(jìn)行選區(qū)電子衍射分析的方法。本方法適用于各種金屬與非金屬晶體薄膜(包括粉末試樣與萃取復(fù)型試樣)的電子衍射分析。
外文名稱 | Method of Selected Area Electron Diffraction for Transmission Electron Microscopes | 書名 | 透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法 |
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作者 | 中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局 | 出版日期 | 2003年4月1日 |
語(yǔ)種 | 簡(jiǎn)體中文 | ISBN | 155066119336 |
出版社 | 中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社 | 頁(yè)數(shù) | 12頁(yè) |
開本 | 16 | 品牌 | 北京勁松建達(dá)科技圖書有限公司 |
前言
1范圍
2原理
3儀器設(shè)備
4試樣
5參照樣品
6試驗(yàn)方法
6.1儀器準(zhǔn)備
6.2選區(qū)電子衍射譜的獲得
6.3衍射常數(shù)Lλ的測(cè)定
7衍射譜的測(cè)量與計(jì)算
附錄A(規(guī)范性附錄)純金與純鋁的晶面間距表
附錄B(規(guī)范性附錄)單晶體的標(biāo)準(zhǔn)衍射譜
B.1面心立方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜
B.2體心立方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜
B.3密排六方晶體的低指數(shù)晶帶衍射譜
參考文獻(xiàn)
《透射電子顯微鏡選區(qū)電子衍射分析方法(GB/T 18907-2002)》的附錄A和附錄B為規(guī)范性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由北京科技大學(xué)材料物理與化學(xué)系、北京有色金屬研究院測(cè)試所起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:柳得櫓、劉安生。
電子顯微鏡的分類 1、透射電鏡 (TEM) 樣品必須制成電子能穿透的,厚度為100~2000 ?的薄膜。成像方式與光學(xué)生物顯微鏡相似,只是以電子透鏡代替玻璃透鏡。放大后的電子像在熒光屏上顯示出來(lái),TE...
電子顯微鏡是根據(jù)電子光學(xué)原理,用電子束和電子透鏡代替光束和光學(xué)透鏡,使物質(zhì)的細(xì)微結(jié)構(gòu)在非常高的放大倍數(shù)下成像的儀器。 電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點(diǎn)的最小間距來(lái)表示。20世紀(jì)70年代,透射...
顧名思義,所謂電子顯微鏡是以電子束為照明光源的顯微鏡。由于電子束在外部磁場(chǎng)或電場(chǎng)的作用下可以發(fā)生彎曲,形成類似于可見光通過玻璃時(shí)的折射現(xiàn)象,所以我們就可以利用這一物理效應(yīng)制造出電子束的“透鏡”,從而開...
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本文通過比較高壓系統(tǒng)常用氣態(tài)絕緣介質(zhì)的性能,對(duì)比影響氣體絕緣性能的關(guān)鍵參數(shù),給出了透射電子顯微鏡高壓電源箱絕緣材料的優(yōu)化選擇,介紹了六氟化硫(SF6)氣體在透射電子顯微鏡高壓電源絕緣中的應(yīng)用,計(jì)算了充SF6絕緣氣體的高壓電源箱,并給出了透射電子顯微鏡高壓箱的絕緣充SF6氣體工藝。
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原子水平的表面特征傳感器—掃描式隧道電子顯微鏡(STM)
旋進(jìn)電子衍射儀安裝在透射電鏡上進(jìn)行分析,主要功能為:(1)旋進(jìn)電子衍射,獲得接近于運(yùn)動(dòng)學(xué)強(qiáng)度的電子衍射花樣,確定未知納米晶體的晶體結(jié)構(gòu);(2)位向成像、納米織構(gòu)分析,獲得納米分辨率的晶體取向及晶相分布。
場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡概述
2.利用微區(qū)電子衍射、會(huì)聚束電子衍射及元素分析可對(duì)小至0.5nm尺度的物質(zhì)進(jìn)行結(jié)構(gòu)和成分分析,因而特別實(shí)用于普通透射電鏡難以分析的微細(xì)析出相,界面和疇等極小區(qū)域內(nèi)成分、結(jié)構(gòu)的研究。 3.利用所配置的GIF系統(tǒng)不但可分析物質(zhì)的組成元素而且可分析組成元素的價(jià)態(tài)。
儀器類別: 03040701 /儀器儀表 /光學(xué)儀器 /電子光學(xué)及離子光學(xué)儀器 /透射式電子顯微鏡
指標(biāo)信息: 具有高相干性、高亮度的場(chǎng)發(fā)射槍 最大傾轉(zhuǎn)角:X=±35°,Y=±30° 加速電壓:200kV、160kV、100kV、80kV 點(diǎn)分辨率:0.23nm EDS元素范圍:B5~U92 晶格分辨率:0.102nm EDS能量分辨率:138eV
附件信息: 1.Gatan公司的GIF系統(tǒng) 4.普通單、雙傾臺(tái) 2.Link公司的EDS系統(tǒng)(超薄窗) 5.鈹單、雙傾臺(tái) 3.日本電子株式會(huì)社的STEM系統(tǒng) ,
周玉等的《材料分析方法(第3版)》主要包括材料X射線衍射分析和材料電子顯微分析兩大部分。書中介紹了用X射線衍射和電子顯微技術(shù)分析材料微觀組織結(jié)構(gòu)的原理、設(shè)備及試驗(yàn)方法。其內(nèi)容包括:X射線物理學(xué)基礎(chǔ)、X射線衍射方向與強(qiáng)度、多晶體分析方法、物相分析及點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)定、宏觀殘余應(yīng)力的測(cè)定、多晶體織構(gòu)的測(cè)定、電子光學(xué)基礎(chǔ)、透射電子顯微鏡、電子衍射、晶體薄膜衍襯成像分析、高分辨透射電子顯微術(shù)、掃描電子顯微鏡、電子背散射衍射分析技術(shù)、電子探針顯微分析、其他顯微結(jié)構(gòu)分析方法及實(shí)驗(yàn)指導(dǎo)。書中的實(shí)例分析注重引入了材料微觀組織結(jié)構(gòu)分析方面的新成果。
《材料分析方法(第3版)》可以作為材料科學(xué)與工程學(xué)科的本科生和研究生教材或教學(xué)參考書,也可供材料成形及控制工程等其他專業(yè)師生和從事材料研究及分析檢測(cè)方面工作的技術(shù)人員學(xué)習(xí)參考。