1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直寫面積 3. 1微米對準精度 4. 200nm自動對焦精度。
微納無掩膜加工。
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評分: 4.6
摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領域具有重要應用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調制量也很小,尚不能滿足應用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎,從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術要點,總結出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實驗系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結構。實驗結果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時間短的優(yōu)點。
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評分: 4.6
玻璃銀光刻作為在玻璃上進行的美術創(chuàng)作,呈現(xiàn)給世人的是一個銀光異彩的鏡畫世界。玻璃銀光刻最早出現(xiàn)于民國初期的上海。當時上海市場的衣柜門上出現(xiàn)了一種既具觀賞性又有實用性的裝飾鏡,之后這種裝飾方法在全國各地流行開來。上世紀50年代,溫州玻璃銀光刻的第一代傳人邵思榮在上海學習并將該種制鏡的工藝技法帶回溫州,后傳授于其弟邵松。上世紀70年代,邵松又將該門制鏡技藝傳授給了溫州龍灣民間藝人項有禮。
在平面晶體管和集成電路的制造過程中,要進行多次光刻。為此,必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形,按照選定的方法,制備出生產上所要求的尺寸和精度的掩模圖案,并以一定的間距和布局,將圖案重復排列于掩?;?,進而復制批量生產用版,供光刻工藝曝光之用。
小型臺式無掩膜光刻機Microwriter ML3,通過激光直寫在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案,而無需掩膜版,專為實驗室設計開發(fā),適用于各種實驗室桌面。
Focus Lock自動對焦
Focus Lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,并通過Z向調整和補償,以保證曝光分辨率。
直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,并顯示預直寫圖形位置。通過調整位置、角度,直到設計圖形按要求與已有結構重合,保證直寫準確。
標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置。
光學輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
簡單的直寫軟件
MicroWriter ML3由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行。
Clewin 掩模圖形設計軟件
可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定