微納無(wú)掩膜加工。
1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直寫(xiě)面積 3. 1微米對(duì)準(zhǔn)精度 4. 200nm自動(dòng)對(duì)焦精度。
冷卻液的作用把點(diǎn)火產(chǎn)生的高溫通過(guò)水道傳遞到散熱器,再由風(fēng)扇強(qiáng)制通風(fēng)散熱,把水溫溫度始終控制在110度以內(nèi)!
DEH系統(tǒng)主要功能: 汽輪機(jī)轉(zhuǎn)速控制;自動(dòng)同期控制;負(fù)荷控制;參與一次調(diào)頻;機(jī)、爐協(xié)調(diào)控制;快速減負(fù)荷;主汽壓控制;單閥控制、多閥解耦控制;閥門試驗(yàn);輪機(jī)程控啟動(dòng);OPC控制;甩負(fù)荷及失磁工況控制;...
一、 LED 的結(jié)構(gòu)及發(fā)光原理50 年前人們已經(jīng)了解半導(dǎo)體材料可產(chǎn)生光線的基本知識(shí),第一個(gè)商用二極管產(chǎn)生于 1960 年。 LED 是英文 light emitting diode (發(fā)光二極管)的縮...
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評(píng)分: 4.5
道閘 主要功能: 功能一,手動(dòng)按鈕可作 ‘升’‘降’及‘?!僮鳌o(wú)線遙控可作 ‘升’‘降’‘?!皩?duì)手動(dòng)按鈕的 ‘加鎖’‘解鎖 ’操作 ; 功能二,停電自動(dòng)解鎖,停電后可手動(dòng)抬桿 ; 功能三,具有便于維護(hù)與調(diào)試的 ‘自檢模式 ’; 道閘 道閘又稱擋車器,最初從國(guó)外引進(jìn),英文名叫 Barrier Gate ,是專門用于道路上限 制機(jī)動(dòng)車行駛的通道出入口管理設(shè)備 ,現(xiàn)廣泛應(yīng)用于公路收費(fèi)站、 停車場(chǎng)系統(tǒng) 管理車 輛通道,用于管理車輛的出入。電動(dòng)道閘可單獨(dú)通過(guò)無(wú)線遙控實(shí)現(xiàn)起落桿,也可以通過(guò) 停車場(chǎng)管理系統(tǒng) (即 IC 刷卡管理系統(tǒng))實(shí)行自動(dòng)管理狀態(tài),入場(chǎng)取卡放行車輛,出場(chǎng) 時(shí),收取 停車費(fèi) 后自動(dòng)放行車輛。
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評(píng)分: 4.6
摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫(xiě)FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫(xiě)光源的技術(shù)要點(diǎn),總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫(xiě)技術(shù)之間的差異及需要注意的問(wèn)題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫(xiě)光纖光柵的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫(xiě)B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫(xiě)入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)。
在平面晶體管和集成電路的制造過(guò)程中,要進(jìn)行多次光刻。為此,必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務(wù)就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形,按照選定的方法,制備出生產(chǎn)上所要求的尺寸和精度的掩模圖案,并以一定的間距和布局,將圖案重復(fù)排列于掩?;希M(jìn)而復(fù)制批量生產(chǎn)用版,供光刻工藝曝光之用。
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3,通過(guò)激光直寫(xiě)在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案,而無(wú)需掩膜版,專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。
直寫(xiě)前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫(xiě)準(zhǔn)確。
標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別
點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。
光學(xué)輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件
MicroWriter ML3由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。
Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件
可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定