薄膜試驗(yàn)機(jī)

用途

該系列拉力試驗(yàn)機(jī)適用于橡膠、塑料、紡織物、防水材料、電線電纜、網(wǎng)繩、金屬絲、金屬棒、金屬板等材料的拉伸試驗(yàn)，增加附具可做壓縮、彎曲試驗(yàn)。具有試驗(yàn)力數(shù)字顯示，試驗(yàn)速度連續(xù)可調(diào),試樣拉斷自動(dòng)停機(jī)，峰值保持等功能。

功能與特點(diǎn):

1、采用高精度、全數(shù)字調(diào)速系統(tǒng)及精密減速機(jī)，驅(qū)動(dòng)精密絲杠副進(jìn)行試驗(yàn)，實(shí)現(xiàn)試驗(yàn)速度的大范圍調(diào)節(jié)，試驗(yàn)過(guò)程噪音低、運(yùn)行平穩(wěn)。

2、萬(wàn)向節(jié)采用十字插銷結(jié)構(gòu)，而且具有擺角限制功能，一方面便于試樣夾持，保證試驗(yàn)同心度，另一方面很好的消除了不規(guī)則試樣對(duì)傳感器的影響。

3、觸摸鍵操作方式，液晶顯示器實(shí)時(shí)顯示。顯示界面可顯示試驗(yàn)方法選擇界面、試驗(yàn)參數(shù)選擇界面、試驗(yàn)操作及結(jié)果顯示界面和曲線顯示界面，方便快捷。

4、可實(shí)現(xiàn)試樣裝夾時(shí)橫梁快慢升降調(diào)整，具有過(guò)流、過(guò)壓、過(guò)載等保護(hù)裝置。。

5、選配微機(jī)接口，可外接微機(jī)實(shí)現(xiàn)試驗(yàn)過(guò)程的控制及數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)、打印。

主要技術(shù)指標(biāo):

1、 最大試驗(yàn)力:500N;

2、 量 程: 0N-500N;

3、 試驗(yàn)力準(zhǔn)確度;優(yōu)于±1%;

4、 位移分辨率:0.01mm;

5、 位移測(cè)量準(zhǔn)確度:優(yōu)于±1%;

6、 拉伸行程:600mm或1000mm(可選)

7、 壓縮行程:600mm或1000mm(可選)

8、 試驗(yàn)行程:600mm或1000mm(可選)

9、 位移速度控制范圍:1mm/min~500mm/min(普通配置)

10、位移速度控制精度:優(yōu)于±1%;

11、試驗(yàn)機(jī)級(jí)別:優(yōu)于1級(jí)

12、變形示值誤差:≤±(50+0.15L)

13、試驗(yàn)機(jī)尺寸:530*266*1450或1810 mm

14、外觀:符合GB/T2611要求

15、成套性:符合標(biāo)準(zhǔn)要求

16、保護(hù)功能:試驗(yàn)機(jī)有過(guò)載保護(hù)功能

17、供電電源:220V，50Hz

18、重量:150KG

市場(chǎng)上的薄膜品種很多，但最常用的印刷膜有BOPP，NY，PET，PE。就印刷而言，最重要的當(dāng)然是薄膜的表面處理效果，NY膜是否受潮。印刷時(shí)應(yīng)該制定對(duì)膜的表面張力一個(gè)膜卷一測(cè)的工藝要求。電暈效果具有時(shí)效性，放置過(guò)長(zhǎng)時(shí)間，電暈效果可能下降幅度太多達(dá)不到印刷的要求;也可以避免由于不小心弄反膜面印刷的故障隱患。

PE膜是我們重點(diǎn)要關(guān)注的對(duì)象:吹膜時(shí)可能有膜卷漏掉電暈處理的;膜厚度過(guò)大或不均勻引起電暈效果不夠;吹膜是加入太多的爽滑劑或高爽滑粒料比例過(guò)大引起電暈效果大幅度下降。12~15umPET膜出現(xiàn)兩面的電暈效果相差不大時(shí)，容易引發(fā)印刷膜卷背粘故障。印刷膜的電暈要求:BOPP，PE≥38達(dá)因，PET≥50達(dá)因，NY≥52達(dá)因。NY膜吸水后并不會(huì)對(duì)電暈效果產(chǎn)生較大影響，判斷NY膜是否吸水看膜有無(wú)收縮起趨現(xiàn)象，剪一張膜放進(jìn)烘箱幾個(gè)小時(shí)，手感是否發(fā)硬，如果有起趨，發(fā)硬等現(xiàn)象，則該NY膜吸水過(guò)多。在采購(gòu)薄膜一定要向供應(yīng)商說(shuō)明該膜的用途和要求，薄膜品種細(xì)化，光說(shuō)PET，NY，BOPP名字，供應(yīng)商就可能有好幾個(gè)品種，但不一定都適合。

將金屬薄層沉積到襯底或之前獲得的薄層的技術(shù)稱為表面沉積。這里的"薄"是一個(gè)相對(duì)的概念，但大多數(shù)的沉積技術(shù)都可以將薄層厚度控制在幾個(gè)到幾十納米尺度的范圍內(nèi)，分子束外延技術(shù)可以得到單一原子層的結(jié)構(gòu)。

沉積技術(shù)在光學(xué)儀器(消反射膜，減反射膜，自清潔表面等)、電子技術(shù)(薄膜電阻，半導(dǎo)體，集成電路)、包裝和現(xiàn)代藝術(shù)都有應(yīng)用。在對(duì)薄膜厚度要求不高時(shí)，類似于沉積的技術(shù)常常被使用。例如:用電解法提純銅，硅沉積，鈾的提純中都用到了類似于化學(xué)氣象沉積的過(guò)程。

沉積技術(shù)根據(jù)其使用的主要原理可分為兩大類:物理沉積和化學(xué)沉積。

三氧化二釔

名稱:釔(Y)

三氧化二釔，(Y2O3)使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時(shí)折射率約為1.8，用作鋁保護(hù)膜極其受歡迎，特別相對(duì)于800-12000nm區(qū)域高入射角而言，可用作眼鏡保護(hù)膜，且24小時(shí)暴露于濕氣中，一般為顆粒狀和片狀。

透光范圍(nm) 折射率(N) 500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 蒸氣成分

250--8000 1.79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護(hù)膜

名稱:二氧化鈰(CeO2)

使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā)，在200℃的基板上蒸著二氧化鈰，得到一個(gè)約為2.2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化，在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45，在波長(zhǎng)短過(guò)400nm時(shí)有吸收，傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜，一般為顆粒狀，還可用一增透膜和濾光片等。

透光范圍(nm) 折射率(N) 500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多

名稱:氧化鎂(MgO)

必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華，堅(jiān)硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性，250nm時(shí)n=1.86，190nm時(shí)n=2.06， 166nm時(shí)K值為0.1， n=2.65?？捎米髯贤饩€薄膜材料。MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過(guò)性良好，但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時(shí)環(huán)境基板上得到n=1.70。由于大氣CO2的干擾，MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層，可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。

名稱:硫化鋅(ZnS)

折射率為2.35,400-13000nm的透光范圍，具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性， ZnS在高溫蒸著時(shí)極易升華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無(wú)吸附性膜層，因此需要徹底清爐，并且在最高溫度下烘干，花數(shù)小時(shí)才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對(duì)ZNS有較大的影響，由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15-20nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅(ZNO)。

透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 方式

400--14000 2.35 1000--1100 電子槍，鉭鉬舟 防反膜， 升華

應(yīng)有:分光膜，冷光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜.

名稱:二氧化鈦(TiO?)

TiO?由于它的高折射率和相對(duì)堅(jiān)固性，人們喜歡把這種高折射率材料用于可見(jiàn)光和近紅外線區(qū)域,但是它本身又難以得到一個(gè)穩(wěn)定的結(jié)果.TiO?,Ti2O3. TiO,Ti，這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為:2.0,1.67,1.5,1.0,0. 后發(fā)現(xiàn)比率為1.67的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個(gè)重復(fù)性折射率為2.21的堅(jiān)固的膜層，比率為2的材料第一層產(chǎn)生一個(gè)大約2.06的折射率，后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個(gè)膜層將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無(wú)吸收性，幾乎每一個(gè)TiO2蒸著遵循一個(gè)原則:在可使用的光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的 吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面.

Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認(rèn)為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險(xiǎn)要小一些，PULKER等人指出，最后的折射率與無(wú)吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400℃時(shí)在550納米波長(zhǎng)得到的折射率為2.63，可是由于別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個(gè)普遍采用的方法其在低溫甚至在室溫時(shí)就可以得到比較高的折射，通常需要提供足夠的氧氣以避免(因?yàn)橛形談t降低透過(guò)率)，但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值(LDT).TiO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系，但是經(jīng)過(guò)充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見(jiàn)光和近紅外線光譜中，TiO2很受到人們的歡迎. 在IAD助鍍TiO2時(shí)，使用屏蔽柵式離子源蒸發(fā)則需要200EV，而用無(wú)屏蔽柵式離子源蒸發(fā)時(shí)則需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估計(jì)大約是驅(qū)動(dòng)電壓的60%，如果離子能量超過(guò)以上數(shù)值，TiO2將有吸收.而SiO2有電子槍蒸發(fā)可以提供600EV碰撞(離子輻射)能量而沒(méi)有什么不良效應(yīng). TiO2/SiO2制程中都使用300EV的驅(qū)動(dòng)電壓，目的是在兩種材料中都使用無(wú)柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅(qū)動(dòng)電壓，驅(qū)動(dòng)電壓高低的選擇取決于TiO2所允許的范圍，而蒸著速度的高低取決于完全致密且無(wú)吸收膜所允許之范圍. TiO?用于防反膜，分光膜，冷光膜，濾光片，高反膜,眼鏡膜，熱反射鏡等，黑色顆粒狀和白色片狀，熔點(diǎn):1175℃

透光范圍(nm) 折射率(N) 500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

400--12000 2.35 2000-2200 電子槍，防反膜，增透 多

TiO2用于防反膜，裝飾膜，濾光片，高反膜

Ti2O3用于防反膜 濾光片 高反膜 眼鏡膜

名稱:氟化釷(ThF4)

260-12000nm以上的光譜區(qū)域，是一種優(yōu)秀的低折射率材料，然而存在放射性，在可視光譜區(qū)N從 1.52降到1.38(1000nm區(qū)域)在短波長(zhǎng)趨近于1.6，蒸發(fā)溫度比MGF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免THF4良性顆?；鹦秋w濺出去，而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加堅(jiān)固.該膜在IR光譜區(qū)300NM小水帶幾乎沒(méi)有吸收，這意味著有望得到一個(gè)低的光譜移位以及更大的整體堅(jiān)固性，在8000到12000NM完全沒(méi)有材料可以替代.

名稱: 二氧化硅(SiO2)

經(jīng)驗(yàn)告訴我們，氧離子助鍍(IAD)SiO將是SiO2薄膜可再現(xiàn)性問(wèn)題的一個(gè)解決方法，并且能在生產(chǎn)環(huán)境中以一個(gè)可以接受的高速度蒸著薄膜.

SiO2薄膜如果壓力過(guò)大，薄膜將有氣孔并且易碎，相反壓力過(guò)低薄膜將有吸收并且折射率變大，需要充分提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況，冷鍍時(shí)這種性況不存在.

SiO2用于防反膜，冷光膜，濾光片，絕緣膜，眼鏡膜，紫外膜.

透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

200--2000 1.46 1800-2200 電子槍，防反膜，增透 少，升華

無(wú)色顆粒狀，折射率穩(wěn)定，放氣量少,和OS-10等高折射率材料組合制備截止膜，濾光片等.

名稱: 一氧化硅(SiO)

透光范圍(nm) 折射率(N) 550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

600--8000 1.55 at550nm1.8at1000nm1.6at7000nm 1200-1600 電子槍，鉭鉬舟 冷光膜裝飾膜保護(hù)膜，升華

制程特性:棕褐色粉狀或細(xì)塊狀.

熔點(diǎn)較低，可用鉬舟或鈦舟蒸發(fā)，但需要加蓋舟因?yàn)榇朔N材料受熱直接升華.

使用電子槍加熱時(shí)不能將電子束直接打在材料上而采用間接加熱法.

制備塑料鏡片時(shí)，一般第一層是SiO，可以增加膜的附著力.

名稱:OH-5(TiO2+ZrO2)

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

300--8000 2.1 約2400 電子槍，

增透 一般

蒸氣成分為:ZrO,O2,TiO,TiO2

呈褐色塊狀或柱狀

尼康公司開(kāi)發(fā)之專門加TS--ェート系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸發(fā)速率，氧氣壓力的影響很大，蒸鍍時(shí)不加氧或加氧不充分時(shí)，制備薄膜會(huì)產(chǎn)生吸收現(xiàn)象，但是我們?cè)趯?shí)際應(yīng)用時(shí)沒(méi)有加氧也比較好用.

名稱:二氧化鋯(ZrO2)

ZrO2具有堅(jiān)硬，結(jié)實(shí)及不均勻之特性，該薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收，其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體致密性，它得益于適當(dāng)使用IAD來(lái)增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均勻性.純度達(dá)到99.99%基本上解決了以上的問(wèn)題.SAINTY等人成功地使用ZRO2作為鋁膜和銀膜的保護(hù)膜，該膜層(指ZRO2)是在室溫基板上使用700EV氬離子助鍍而得到的.一般為白色柱狀或塊狀，蒸發(fā)分子為ZRO,O2.

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

320-7000 2.05

⒉0AT2000 約2500 電子槍，

增透，加硬膜

眼鏡膜保護(hù)膜 一般

制程特性:白色顆粒，柱狀，或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟.顆粒狀，粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少.

真空度小于2*10-5Torr條件下蒸發(fā)可得到較穩(wěn)定的折射率，真空度大于5*10-5Torr時(shí)蒸發(fā)，薄膜折射率逐漸變小。

蒸鍍時(shí)加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均勻性。

名稱:氟化鎂(MgF2)

MGF2作為1/4波厚抗反射膜普遍使用來(lái)作玻璃光學(xué)薄膜，它難以或者相對(duì)難以溶解，而且有大約120NM真實(shí) 紫外線到大約7000nm的中部紅外線區(qū)域里透過(guò)性能良好。OLSEN，MCBRIDE等人指出從至少200NM到6000NM的區(qū)域里，2.75MM厚的單晶體MGF2是透明的，接著波長(zhǎng)越長(zhǎng)吸收性開(kāi)始增大，在10000NM透過(guò)率降到大約2%，雖然在8000-12000NM區(qū)域作為厚膜具有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護(hù)層.

不使用IAD助鍍，其膜的硬度，耐久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍，MGF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的濕度變化.在真空中大約N=1.32，堆積密度82%，使用300(℃)蒸鍍，其堆積密度將達(dá)到98%,N=1.39它的膜層能通過(guò)消除裝置的擦傷測(cè)試并且溫度變化低，在室溫與300(℃)之間，折射率與密度的變化幾乎成正比例的. 在玻璃上冷鍍MGF2加以IAD助鍍可以得到300(℃)同等的薄膜，但是125-150EV能量蒸鍍可是最適合的.在塑料上使用IAD蒸鍍幾乎強(qiáng)制獲得合理的附著力與硬度.經(jīng)驗(yàn)是MGF2不能與離子碰撞過(guò)于劇烈.

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

2000-7000 1.38

⒈35AT200 約1100 電子槍，

鉬鉭鎢舟 增透，加硬膜

眼鏡膜 少，MGF2

(MGF2)2

制程特性:折射率穩(wěn)定，真空度和速率對(duì)其變化影響小

預(yù)熔不充分或蒸發(fā)電流過(guò)大易產(chǎn)生飛濺，造成鏡片"木"不良.在打開(kāi)檔板后蒸發(fā)電流不要隨意加減，易飛濺.基片須加熱到高的張應(yīng)力

白色顆粒狀，常用于抗反射膜，易吸潮.購(gòu)買時(shí)應(yīng)考慮其純度.

三氧化二鋁

名稱:三氧化二鋁(Al2O3)

普遍用于中間材料，該材料有很好的堆積密度并且在200-7000NM區(qū)域的透明帶，該制程是否需要加氧氣以試驗(yàn)分析來(lái)確定，提高基板溫度可提高其折射率，在鍍膜程式不可理更改情況下，以調(diào)整蒸發(fā)速率和真空度來(lái)提高其折射率.

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

200-7000 1.63 2050 電子槍，增透，保護(hù)膜

眼鏡膜 一般，Al,O,

O2,AlO,Al2O,(AlO)2

制程特性:白色顆粒狀或塊狀，結(jié)晶顆粒狀等.

非結(jié)晶狀材料雜氣排放量高，結(jié)晶狀材料相對(duì)較少.

折射率受蒸著真空度和蒸發(fā)速率影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低;真空度好蒸發(fā)速率較快時(shí)，膜折射率相對(duì)增大，接近1.62

Al2O3蒸發(fā)時(shí)會(huì)產(chǎn)生少量的Al分子造成膜吸收現(xiàn)象，加入適當(dāng)?shù)腛2時(shí)，可避免其吸收產(chǎn)生.但是加氧氣要注意不要影響到它的蒸發(fā)速率否則改變了它的折射率.

名稱:OS-10(TiO2+ZrO2)

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

250-7000 2.3 2050 電子槍，增透，濾光片，截止膜

一般，

制程特性:棕褐色顆粒狀. 雜氣排放較大，預(yù)熔不充分或真空度小于5*10-5Torr時(shí)蒸發(fā)，其折射率會(huì)比2.3小，幫必須充分預(yù)熔且蒸發(fā)真空度希望大于上述這數(shù)值.蒸發(fā)此種材料時(shí)宜控制衡定的蒸發(fā)速率，材料可添加重復(fù)使用，為減少雜氣排放量，盡量避免全數(shù)使用新材料.

蒸氣中的Ti和TiO和O2反應(yīng)生成TiO2

常用于制備抗反射膜和SiO2疊加制備各種規(guī)格的截止膜系和濾光片等.

名稱:鍺(Ge)

稀有金屬，無(wú)毒無(wú)放射性，主要用于半導(dǎo)體工業(yè)，塑料工業(yè)，紅外光學(xué)器件，航天工業(yè)，光纖通訊等.透光范圍2000NM---14000NM,n=4甚至更大，937(℃)時(shí)熔化并且在電子槍中形成一種液體，然后在1400(℃)輕易蒸發(fā).用電子槍蒸發(fā)時(shí)它的密度比整體堆積密度低，而用離子助鍍或者鐳射蒸鍍可以得到接近于松散密度.在鍺基板上與THF4制備幾十層的8000---12000NM帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收將有重大變化，在240--280(℃)范圍內(nèi)，在從非晶體到晶體轉(zhuǎn)變的過(guò)程中GE有一個(gè)臨界點(diǎn).

名稱:鍺化鋅(ZnGe)

疏散的鍺化鋅具有一個(gè)比其相對(duì)較高的折射率，在500NM時(shí)N=2.6，在可見(jiàn)光譜區(qū)以及12000-14000NM區(qū)域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒(méi)有其材質(zhì)那么硬.使用鉭舟將其蒸發(fā)到150℃的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長(zhǎng)波長(zhǎng)IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡.

名稱:氧化鉿(HfO2)

在150℃的基板上有用電子槍蒸著，折射率在2.0左右，用氧離子助鍍可能取和得2.05-2.1穩(wěn)定的折射率，在8000-12000NM區(qū)HFO2用作鋁保護(hù)膜外層好過(guò)SIO2

透光范圍(nm) 折射率(N)

550nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

230-7000 2.0 2350 電子槍，增透，高反膜

紫外膜 少

無(wú)色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀.

名稱:碲化鉛(PbTe)

是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在3800---40000NM是透明的，在紅外區(qū)N=5.1-5.5，該材料升華，基板板溫度250℃是有益的，健康預(yù)防是必要的，在高達(dá)40000NM時(shí)使用效果很好，別的材料常常用在超過(guò)普通的14000NM紅外線邊緣.

名稱:鋁氟化物(AlF3)

可以在鉬中升華， 在190-1000NM區(qū)域有透過(guò)性，N=1.38，有些人聲稱已用在EⅪMER激光鏡，它無(wú)吸收性，在250-1000NM區(qū)域透過(guò)性良好.ALF3是冰晶石，是NaAlF4的一個(gè)組成部分，且多年來(lái)一直在使用，但是在未加以保護(hù)層時(shí)其耐久性還未為人知.

鈰(Ce)氟化物

名稱:鈰(Ce)氟化物

Hass等人研究GeF3，他們使用高密度的鎢舟蒸發(fā)發(fā)現(xiàn)在500NM時(shí)N=1.63，并且機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度令人滿意，他們指出在234NM和248NM的吸收最大，而在波長(zhǎng)大過(guò)300NM時(shí)吸收可以忽略.FUJIWARA用鉬舟蒸發(fā)CEF3和CEO2混合物，得到一個(gè)1.60---2.13的合乎需要的具有合理重復(fù)性的折射率，他指出該材料的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度都令人滿意.

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

300-5000 1.63 約1500 電子槍，

鉬鉭鎢舟 增透，

眼鏡 少

名稱:氟化鈣(CaF2)

CaF2是Heavens提出來(lái)的，它可以在10-4以上的壓力下蒸發(fā)獲得一個(gè)約為1.23---1.28的折射率?？墒撬f(shuō)最終的膜層不那么令人滿意，在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約為0.57，這與Ennos給出的疏散折射率1.435相吻合,這說(shuō)明該材料不耐用并容易隨溫度變化而變化.原有的高拉應(yīng)力隨膜厚增大而降低，膜厚增大導(dǎo)致大量的可見(jiàn)光散射.可以用鎢鉭舟鉬舟蒸發(fā)而且會(huì)升華，在紅外線中其穿透性超過(guò)12000nm，它沒(méi)有完全的致密性似乎是其利用受到限制的原因，隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊.

名稱:氟化鋇(BaF2)

與氟化鈣具有相似的物理特性，在室溫下蒸鍍氟化鋇，使用較低的蒸著速度時(shí)材料的堆積密度為0.66，并且密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比，在速度為20NM/S堆積密度高達(dá)0.83，它的局限性又是它缺乏完全致密性.透過(guò)性在高溫時(shí)移到更長(zhǎng)的波長(zhǎng)，所以它只能用在紅外膜.

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

250-15000 1.48 約1500 電子槍，

鉬鉭鎢舟 紅外膜 少

名稱:氟化鉛(PbF2)

氟化鉛在UV中可用作高折射率材料，在300nm時(shí)N=1.998，該材料與鉬鉭，鎢舟接觸時(shí)折射率將降低，因此需要用鉑或陶瓷皿.Ennos指出氟化鉛具有相對(duì)較低的應(yīng)力，開(kāi)始是壓力，隨著膜厚度的增加張力明顯增大，但這與蒸著速度無(wú)關(guān).

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

250-17000 1.75 700--1000 電子槍，

鉑舟，坩鍋 紅外膜 少

名稱:鉻(Cr)

鉻有時(shí)用在分光鏡上并且通常用作"膠質(zhì)層"來(lái)增強(qiáng)附著力，膠質(zhì)層可能在5-50NM的范圍內(nèi)，但在鋁鏡膜導(dǎo)下面，30NM是增強(qiáng)附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟蒸發(fā)而塊狀宜用電子槍來(lái)蒸發(fā)，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發(fā)/升華，可以全用鉻電鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質(zhì)層對(duì)金鏡化合物進(jìn)行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質(zhì)層.也可使用一個(gè)螺旋狀的鎢絲蒸發(fā).它應(yīng)該是所有材料中具有最高拉應(yīng)力的材料.

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

⒈5 1300--1400 電子槍，

鉑舟，鎢舟 吸收膜分光膜導(dǎo)電膜加硬膜

名稱:鋁(Al)

不管是裝飾膜還是專業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來(lái)蒸發(fā)鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種,在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力，在不透明厚度時(shí)，該 拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力，并且蒸著以后拉應(yīng)力進(jìn)一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上.

名稱:銀(Ag)

如果蒸著速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí)，銀和鋁一樣具有良好的反射性，這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果，這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲，但是往往形成具有高表面張力的液滴，它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來(lái)蒸發(fā)，從而避免液滴下掉.有人先在一個(gè)V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲，銀絲可以浸濕鉑絲但沒(méi)有浸濕鎢絲.

名稱:金(Au)

金在紅外線1000nm波長(zhǎng)以上是已知材料中具有最高反射性的材料，作為一種貴重金屬，它具有較強(qiáng)的化學(xué)堅(jiān)硬性，由于它的可塑性因而抗擦傷性能低，AU可用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來(lái)蒸發(fā)(不能與鉑舟蒸發(fā)，它與鉑很快合金).金對(duì)玻璃表面的附著力低，因而通常使用一層鉻作為膠質(zhì)層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善，在不透明性達(dá)到即中止IAD，并且最后的薄膜中不含有氧，摻氧將降低薄膜的反射率.

銦---錫氧化物

名稱:銦---錫氧化物和導(dǎo)電材料

銦-錫氧化物(ITO)和In3O5-SnO2有相對(duì)良好的導(dǎo)電性能和可見(jiàn)光穿性.這樣的薄膜在數(shù)據(jù)顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求.在建筑上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at500nm熔化溫度約1450℃.

名稱:鋁(Al)

不管是裝飾膜還是專業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來(lái)蒸發(fā)鋁絲，在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種，在紅外域中不用Cu,Ag,Au.鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力，在不透明厚度時(shí)，該 拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力，并且蒸著以后拉應(yīng)力進(jìn)一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上.

名稱:H1

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜 少

名稱:H2

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

400-5000 2.1 2200 電子槍，增透，眼鏡膜 少

名稱:H4

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

360--7000 2.1 2200-2400 電子槍，增透，眼鏡膜濾光片 少

名稱:M1

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

300--9000 1.7 2200-2400 電子槍，增透，偏光膜 少

名稱:M2

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

210--10000 1.7 2100 電子槍，增透，偏光膜分光膜 少

名稱:M3

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

220--10000 1.8 2100 電子槍，增透，偏光膜 少

名稱:H5

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

210--10000 2.2 2100 電子槍,增透，濾光片 少

名稱:氧化鉭(Ta2O5)

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

400--000 2.1 1900--2200 電子槍，增透，干涉濾光片 少

名稱:WR--1

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

380--700 約1.5 360--450 鉬舟，頂層膜眼鏡膜 少

名稱:WR--2

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

380--700 約1.5 360--450 電子槍，鉬舟 頂層膜防水膜眼鏡膜 少

名稱:WR--3

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

380--700 約1.3 350--500 鉬舟 頂層膜保護(hù)膜眼鏡膜 少

名稱:L--5

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

300--7000 1.48 約2000 電子槍，增透，眼鏡膜 少

名稱:錐冰晶石(Na5AL3F14)

透光范圍(nm) 折射率(N)

500nm 蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

250--14000 約1.33 800--1200 鉬舟鉭舟 濾光片，紫外膜 少

冰晶石(Na3ALF6)

默克公司研制的一系列的混合膜料

H1 高折射率:2.1---2.15 適用于防反膜和眼鏡膜

H2 高折射率: 2.1-2.15 適用于防反膜和眼鏡膜

H4 高折射率: 2.1-2.15 適用于防反膜和濾光片膜眼鏡膜

M1 中折射率: 1.65-1.7 適用于防反膜和偏光膜

⒈ H1,H2,H4可用作來(lái)生產(chǎn)高折射率的膜層，在250℃的基底上，2.1-2.15的折射率共有同次性.M1可用來(lái)生產(chǎn)中折射率的膜層.H1,H4和M1也能鍍?cè)谖醇訜岬幕咨?，折射率?huì)下降.

⒉ H1在可見(jiàn)光到紫外波段內(nèi)有相當(dāng)高的透過(guò)率，在360NM左右有吸收，同ZRO2一樣無(wú)法從溶解狀態(tài)下被蒸發(fā)較為均勻的膜層.

⒊ H2在可見(jiàn)光波段內(nèi)有很高的透過(guò)率，但在380NM時(shí)有截止吸收，這意味著鍍膜條件不理想時(shí)1/2光學(xué)厚度的存在吸收.H2優(yōu)點(diǎn)在于它能從溶解狀態(tài)下被蒸發(fā)，因此有良好的同次性和均勻的膜厚.

⒋ H4在可見(jiàn)光波段內(nèi)有很高的透過(guò)率，象H1 一樣在360NM左右有吸收，它也能從溶解狀態(tài)下被子蒸發(fā)，具有良好的同次性.

⒌ M1在從近紅外到近紫外的波段內(nèi)有很好的透過(guò)率，300NM時(shí)有吸收，它也能從溶解的狀態(tài)下被子蒸發(fā)，具有良好的同次性和物質(zhì)，適合于是高折射率的基底上鍍?cè)鐾改?

在塑料基底上鍍膜因?yàn)闊o(wú)法加熱基底，所以在膜料的選擇上倍加小心，以確保它能在低溫下形成穩(wěn)定膜層，由于溫度偏低折射率也隨之降低，相應(yīng)的膜層設(shè)計(jì)也應(yīng)改變.

MGF2不能在低溫下被子蒸鍍，因?yàn)橹挥?00℃以上溫度時(shí)它才能形成穩(wěn)定的薄膜，因此只能選擇氧化物來(lái)蒸鍍，有些人用IAD助鍍強(qiáng)制性得到一個(gè)近乎堅(jiān)固的膜

部分膜料在塑料基底上的折射率:

SiO2 Al2O3 M1 Y2O3 ZrO2 H1 H4 TiO2

⒈45 1.62 1.65 1.8 1.9 1.95 1.95 1.9--2

H2不能在低溫下被蒸鍍，因?yàn)樗谒{(lán)光波段有吸收。

M1， H4， SiO2可以組成經(jīng)典的AR膜系

最常用的塑料基底是:

CR-39:N=1.5

PMMA: N=1.48-1.5

聚碳酸脂: N=1.59

薄膜的品種分類沒(méi)有統(tǒng)一的規(guī)定。通常人們習(xí)慣的分類方式有以下三種:

⑴按薄膜成型所用原料分類:有聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜和聚酯薄膜等。

⑵按薄膜用途分類:有農(nóng)用薄膜(這里根據(jù)農(nóng)膜的具體用途，又可分為地膜和大棚膜);包裝薄膜(包裝膜按其具體用途，又可分為食品包裝膜和各種工業(yè)制品用包裝膜等)及用于特殊環(huán)境、具有特殊用途的透氣薄膜，水溶薄膜及具有壓電性能的薄膜等。

⑶按薄膜的成型方法分類:有擠出塑化、然后吹塑成型的薄膜，稱為吹塑薄膜;經(jīng)擠出塑化，然后熔融料從模具口流延成型的薄膜，稱為流延薄膜;在壓延機(jī)上由幾根輥筒輾壓塑化原料制成的薄膜，稱為壓延薄膜。

拼音:báomó

英文釋義:[thin film;film]

由薄膜產(chǎn)生的干涉。薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第一束光，折射光經(jīng)薄膜下表面反射，又經(jīng)上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側(cè)，由同一入射振動(dòng)分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴(kuò)展光源(面光源)，則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉，故屬定域干涉。對(duì)兩表面互相平行的平面薄膜，干涉條紋定域在無(wú)窮遠(yuǎn)，通常借助于會(huì)聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對(duì)楔形薄膜，干涉條紋定域在薄膜附近。

薄膜干涉中兩相干光的光程差公式為

式中n為薄膜的折射率;t為入射點(diǎn)的薄膜厚度;θt為薄膜內(nèi)的折射角;±λ/2 是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個(gè)界面(一個(gè)是光疏-光密界面，另一是光密-光疏界面)上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣泛應(yīng)用于光學(xué)表面的檢驗(yàn)、微小的角度或線度的精密測(cè)量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。

等傾干涉和等厚干涉是薄膜干涉的兩種典型形式。

由薄膜上、下表面反射(或折射)光束相遇而產(chǎn)生的干涉.薄膜通常由厚度很小的透明介質(zhì)形成.如肥皂泡膜、水面上的油膜、兩片玻璃間所夾的空氣膜、照相機(jī)鏡頭上所鍍的介質(zhì)膜等.比較簡(jiǎn)單的簿膜干涉有兩種，一種稱做等厚干涉，這是由平行光入射到厚度變化均勻、折射率均勻的薄膜上、下表面而形成的干涉條紋.薄膜厚度相同的地方形成同條干涉條紋，故稱等厚干涉.牛頓環(huán)和楔形平板干涉都屬等厚干涉.另一種稱做等傾干涉.當(dāng)不同傾角的光入射到折射率均勻，上、下表面平行的薄膜上時(shí)，同一傾角的光經(jīng)上、下表面反射(或折射)后相遇形成同一條干涉條紋，不同的干涉明紋或暗紋對(duì)應(yīng)不同的傾角，這種干涉稱做等傾干涉.等傾干涉一般采用擴(kuò)展光源，并通過(guò)透鏡觀察.

把兩塊干凈的玻璃片緊緊壓疊，兩玻璃片間的空氣層就形成空氣薄膜.用水銀燈或納燈作為光源，就可以觀察到薄膜干涉現(xiàn)象.如果玻璃內(nèi)表面不很平，所夾空氣層厚度不均勻，觀察到的將是一些不規(guī)則的等厚干涉條紋，通常是一些不規(guī)則的同心環(huán).若用很平的玻璃片(如顯微鏡的承物片)則會(huì)出現(xiàn)一些平行條紋.手指用力壓緊玻璃片時(shí)，空氣膜厚度變化，條紋也隨之改變.根據(jù)這個(gè)道理，可以測(cè)定平面的平直度.測(cè)定的精度很高，甚至幾分之一波長(zhǎng)那么小的隆起或下陷都可以從條紋的彎曲上檢測(cè)出來(lái).若使兩個(gè)很平的玻璃板間有一個(gè)很小的角度，就構(gòu)成一個(gè)楔形空氣薄膜，用已知波長(zhǎng)的單色光入射產(chǎn)生的干涉條紋，可用來(lái)測(cè)很小的長(zhǎng)度.

利用薄膜干涉還可以制造增透膜。在照相機(jī)、放映機(jī)的透鏡表面上涂上一層透明薄膜，能夠減少光的反射，增加光的透射，這種薄膜叫做增透膜。平常在照相機(jī)鏡頭上有一層反射呈藍(lán)紫色的膜就是增透膜。

拼縫莫太窄大棚薄膜都是由若干窄幅薄膜拼接而成的，在拼接時(shí)要增大粘接面積，提高粘接強(qiáng)度。若拼縫太窄，粘接面積小用力拉扯時(shí)就會(huì)造成裂縫。

用線壓住薄膜建大棚蓋上薄膜后，應(yīng)立即用壓膜線壓住。一般每隔1-2個(gè)棚架拉一道壓膜線，線的松緊要適度，同時(shí)在迎風(fēng)一面設(shè)立簡(jiǎn)易防風(fēng)障。

薄膜破損要修補(bǔ)薄膜在使用和保存過(guò)程中容易破損，使用中破損可采用臨時(shí)修補(bǔ)方法。方法有二:一是水補(bǔ)法，把破損處擦洗干凈，剪一塊比破損地方稍大的無(wú)破洞的薄膜，蘸上水貼在破洞上，排凈兩膜間的空氣，按平即可;二是紙補(bǔ)法，農(nóng)膜輕度破損用紙蘸水后趁濕貼在破損處，一般可使用10天左右。

拆棚后的破損薄膜要采用永久修補(bǔ)法。質(zhì)地較厚的薄膜發(fā)生破損，可用質(zhì)地相同的薄膜蓋在上面，用細(xì)線密縫連接。也可把破損處洗凈，用一塊稍大的薄膜蓋住破洞，再蒙上2-3層報(bào)紙，用電熨斗沿接口處輕輕熨燙，兩膜受熱粘貼，冷卻后便會(huì)粘在一起，此法稱為熱補(bǔ)法。另外有膠補(bǔ)法，把破洞四周洗干凈，用毛刷蘸專用膠水涂抹，過(guò)3-5分鐘后，取一塊質(zhì)地相同的薄膜貼在上面，膠水干后即可粘牢。熱補(bǔ)法和膠補(bǔ)法補(bǔ)膜效果好，縫補(bǔ)法不但漏氣，而且容易拉開(kāi)，對(duì)質(zhì)地不是較厚的薄膜最好不用。

不用時(shí)挖坑埋藏薄膜在收藏期間，要嚴(yán)防暴曬、煙熏、火烤，否則，其使用壽命會(huì)大大縮短。棚膜最好的儲(chǔ)存方法是挖坑埋藏，生產(chǎn)結(jié)束后，拆下的薄膜要先洗干凈晾干，卷好后用舊薄膜包裹起來(lái)，選擇土壤干濕度適中的地方挖一個(gè)坑，然后把包裹好的薄膜放進(jìn)坑內(nèi)埋藏。注意，薄膜上層離地面的距離在 30厘米以上。此法可避免農(nóng)膜在空氣中存放老化發(fā)脆，而縮短使用壽命。

通常情況下，薄膜的厚度指的是基片表面和薄膜表面的距離，而實(shí)際上，薄膜的表面是不平整，不連續(xù)的，且薄膜內(nèi)部存在著針孔、微裂紋、纖維絲、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等。因此薄膜的厚度大至可以分成三類:形狀厚度，質(zhì)量厚度，物性厚度。形狀厚度指的是基片表面和薄膜表面的距離;質(zhì)量厚度指的是薄膜的質(zhì)量除以薄膜的面積得的厚度，也可以是單位面積所具有的質(zhì)量(g/cm2);物性厚度指的是根據(jù)薄膜材料的物理性質(zhì)的測(cè)量，通過(guò)一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系計(jì)算而得到的厚度。

降解薄膜是為適應(yīng)社會(huì)對(duì)于環(huán)境保護(hù)的需要而產(chǎn)生的一種新型農(nóng)用薄膜， 主要原料為降解母粒與塑料粒子混合生產(chǎn)而成。降解是利用自然界中的微生物對(duì)地膜侵蝕或者是利用太陽(yáng)光對(duì)地膜氧化而達(dá)到降解。