中文名 | 半導(dǎo)體集成電路CF3080型跨導(dǎo)運(yùn)算放大器詳細(xì)規(guī)范 | 實(shí)施日期 | 1992-01-01 |
---|---|---|---|
發(fā)布日期 | 1991-11-12 | 標(biāo)準(zhǔn)號(hào) | SJ/T 10270-1991 |
制修訂 | 制定 | 批準(zhǔn)發(fā)布部門(mén) | 電子工業(yè)部 |
備案信息
備案號(hào):2355-19922100433B
半導(dǎo)體集成電路、半導(dǎo)體元器件的封裝測(cè)試要用到哪些工具及耗材
這個(gè)不可泛泛談。封裝測(cè)試實(shí)際上包含封裝和測(cè)試,封裝根據(jù)具體的工藝不同其主要設(shè)備有Die Bonder、Wire Bonder等,測(cè)試主要是測(cè)試機(jī)臺(tái)。
半導(dǎo)體集成電路和半導(dǎo)體芯片有什么關(guān)系和不同??jī)烧叩母拍钊绾危?/a>
半導(dǎo)體集成電路包括半導(dǎo)體芯片及外圍相關(guān)電路?!景雽?dǎo)體集成電路】 半導(dǎo)體集成電路是將晶體管,二極管等等有源元件和電阻器,電容器等無(wú)源元件,按照一定的電路互聯(lián),“集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上,從而完成...
半導(dǎo)體集成電路質(zhì)量等級(jí)B和B1的區(qū)別
IC是集成電路的縮寫(xiě),多指各種各樣的半導(dǎo)體芯片,不過(guò)大多數(shù)情況下人們一般也會(huì)混淆這兩者,將ic也稱作是半導(dǎo)體。半導(dǎo)體器件還包括二極管、三極管等等,它們的原材料是硅、鍺等半導(dǎo)體。
格式:pdf
大?。?span id="knolg79" class="single-tag-height">69KB
頁(yè)數(shù): 7頁(yè)
評(píng)分: 4.3
大學(xué)生電腦主頁(yè) - dxs diannao .com –大學(xué)生喜歡的都在這里 大學(xué)生電腦主頁(yè) —— dxs diannao .com —— 大學(xué)生的百事通 《半導(dǎo)體集成電路》課程教學(xué)大綱 (包括《集成電路制造基礎(chǔ)》和《集成電路原理及設(shè)計(jì)》兩門(mén)課程) 集成電路制造基礎(chǔ)課程教學(xué)大綱 課程名稱:集成電路制造基礎(chǔ) 英文名稱: The Foundation of Intergrate Circuit Fabrication 課程類別:專業(yè)必修課 總學(xué)時(shí): 32 學(xué)分: 2 適應(yīng)對(duì)象:電子科學(xué)與技術(shù)本科學(xué)生 一、課程性質(zhì)、目的與任務(wù): 本課程為高等學(xué)校電子科學(xué)與技術(shù)專業(yè)本科生必修的一門(mén)工程技術(shù)專業(yè)課。半導(dǎo)體科 學(xué)是一門(mén)近幾十年迅猛發(fā)展起來(lái)的重要新興學(xué)科,是計(jì)算機(jī)、雷達(dá)、通訊、電子技術(shù)、自動(dòng) 化技術(shù)等信息科學(xué)的基礎(chǔ), 而半導(dǎo)體工藝主要討論集成電路的制造、 加工技術(shù)以及制造中涉 及的原材料的制備, 是
格式:pdf
大小:69KB
頁(yè)數(shù): 26頁(yè)
評(píng)分: 4.8
山東科技大學(xué)工程碩士學(xué)位論文 跨導(dǎo)運(yùn)算放大器及其 Spice電路模型的構(gòu)建 2.1 CMOS 模擬集成電路基本單元 2.1.1 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管的基本結(jié)構(gòu) 絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管又叫作 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管,意為金屬 -氧化物 -半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管。圖 2.1 為 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)和電路符號(hào)。圖中的 N型硅襯底是雜質(zhì)濃度低的 N型硅薄片。 在它上面再制作兩個(gè)相距很近的 P區(qū),分別引為漏極和源極, 而由金屬鋁構(gòu)成的柵極則 是通過(guò)二氧化硅絕緣層與 N型襯底及 P型區(qū)隔離。這也是絕緣柵 MOS 場(chǎng)效應(yīng)管名稱的 由來(lái)。因?yàn)闁艠O與其它電極隔離, 所以柵極是利用感應(yīng)電荷的多少來(lái)改變導(dǎo)電溝道去控 制漏源電流的。 MOS場(chǎng)效應(yīng)管的導(dǎo)電溝道由半導(dǎo)體表面場(chǎng)效應(yīng)形成。 柵極加有負(fù)電壓, 而 N 型襯底加有正電壓。由于鋁柵極和 N型襯底間電場(chǎng)的作用,使絕緣層下面的 N 型 襯底表面的電子被排斥,而帶正電的空穴被吸引到表面上
備案信息
備案號(hào):2355-1992
跨阻(轉(zhuǎn)移電阻),也常常被稱為互阻,是跨導(dǎo)的雙重性。它是指兩個(gè)輸出點(diǎn)電壓變化與兩個(gè)輸入點(diǎn)電流變化的比值,記為rm:
跨阻國(guó)際單位就是歐姆,就像阻力一樣。
跨阻(或轉(zhuǎn)移阻抗)是互阻的交流等效,是互導(dǎo)的二元。
半導(dǎo)體集成電路參考書(shū)目
書(shū) 名: 現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路
作 者:楊銀堂 劉簾曦
出版社: 電子工業(yè)出版社
出版時(shí)間: 2009年04月
ISBN: 9787121082542
開(kāi)本: 16開(kāi)
定價(jià): 28.00 元
《現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路》全面介紹了現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路的基礎(chǔ)知識(shí)、分析與設(shè)計(jì)方法。全書(shū)共分為5個(gè)部分,第一部分(第1~2章)為集成電路的基礎(chǔ)知識(shí),主要介紹各種集成器件的結(jié)構(gòu)和模型、集成電路的典型工藝。第二部分(第3~5章)為雙極集成電路,包括TTL、ECL及IIL邏輯門(mén)及邏輯擴(kuò)展、雙極差分放大器及雙極運(yùn)放電路等。第三部分(第6~8章)為CMOS數(shù)字集成電路,分為CMOS基本邏輯電路、CMOS數(shù)字子系統(tǒng)和現(xiàn)代半導(dǎo)體存儲(chǔ)器、第四部分(第9~13章)為CMOS模擬集成電路,包括基本模擬電路單元、運(yùn)算放大器、開(kāi)關(guān)電容電器、數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器和鎖相環(huán)。第五部分(第14~16章)為半導(dǎo)體集成電路設(shè)計(jì)的共性知識(shí),介紹了集成電路的版圖設(shè)計(jì)、可靠性設(shè)計(jì)、可測(cè)性設(shè)計(jì)和SOC的設(shè)計(jì)方法學(xué)、軟硬件協(xié)同設(shè)計(jì)及仿真等。每章后面都附有習(xí)題。《現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路》可作為大專院校微電子學(xué)、電子科學(xué)與技術(shù)、電子信息工程等本科專業(yè)的教材,也可供有關(guān)專業(yè)的本科生,研究生和工程技術(shù)人員閱讀參考。
第1章 集成電路器件與模型
第2章 集成電路制造技術(shù)
第3章 晶體管一晶體管邏輯(TTL)電路
第4章 發(fā)射極耦合邏輯與集成注入邏輯電路
第5章 雙極模擬集成電路
第6章 CMOS基本邏輯電路
第7章 CMOS數(shù)字電路子系統(tǒng)
第8章 現(xiàn)代半導(dǎo)體存儲(chǔ)器
第9章 CMOS基本模擬電路
第10章CMOS運(yùn)算放大器
第11章 CMOS開(kāi)關(guān)電容電路
第12章 CMOS數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器
第13章 CMOS鎖相環(huán)(PLL)
第14章 集成電路版圖設(shè)計(jì)
第15章 集成電路可靠性設(shè)計(jì)與可測(cè)性設(shè)計(jì)
第16章 片上系統(tǒng)(SoC)設(shè)計(jì)初步
1. C. Mead and L. Conway,Introduction to VLSI System, Addison-Wesley, London, 1978.
2. 復(fù)旦大學(xué)微電子教研室編著:《半導(dǎo)體集成電路》,上海人民出版社,上海,1980。
3. P.Richnian,MOS Field-Effect Transistor and Integrated Circuit, John Wiley & Sons, New York,1973.
4. M. L. Toptev, Thick-film Microelectronics,VanNostrand Reinhold Co., New York, 1971.