多靶式磁控濺鍍系統(tǒng)研制薄型奈米高透導(dǎo)電薄膜開發(fā)

《氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜及其應(yīng)用》主要介紹了新型ZnO基透明導(dǎo)電薄膜和低成本、大面積濕化學(xué)法成膜技術(shù);概述了透明導(dǎo)電氧化物薄膜的透明導(dǎo)電機(jī)理、材料體系、摻雜策略、制備技術(shù)、應(yīng)用開發(fā)及發(fā)展趨勢(shì);比較了氣相沉積法與濕化學(xué)沉積法的成膜機(jī)理;重點(diǎn)論述了溶膠?凝膠法、噴霧熱分解法、電沉積法、化學(xué)浴沉積法等低成本、大面積制備ZnO基透明導(dǎo)電薄膜和ZnO納米線陣列膜的濕化學(xué)法可控生長(zhǎng)及其應(yīng)用于太陽(yáng)能電池。

《氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜及其應(yīng)用》可供從事無機(jī)非金屬材料、透明導(dǎo)電氧化物(或透明氧化物半導(dǎo)體)、薄膜太陽(yáng)能電池、新能源材料與器件等領(lǐng)域的科研人員和技術(shù)人員參考，也可供高等學(xué)校相關(guān)專業(yè)的師生參閱。

半導(dǎo)電薄膜只有半絕緣多晶硅薄膜。 半導(dǎo)體薄膜主要有外延生長(zhǎng)的Si單晶薄膜和CVD生長(zhǎng)的摻雜多晶硅薄膜、半絕緣多晶硅薄膜。絕緣體薄膜主要有氧化硅薄膜、氮化硅薄膜等。金屬薄膜主要有Al、Au、NiCr等的薄膜。工藝中用到的薄膜技術(shù)光刻膠薄膜。

制作電路的基材應(yīng)采用聚酯(聚鄰苯二甲酸乙二醇酯)薄膜(Potyester簡(jiǎn)稱PET)。它具有良好的絕緣性和耐熱性，具有較高的機(jī)械強(qiáng)度、透明性和氣密性，特別具有抗折性和高彈性，是制作薄膜鍵盤電路的理想材料。

材料的種類

薄膜鍵盤、面板的材質(zhì)，除要求具有平整性和印刷適應(yīng)性外，更主要的是要具有可撓性和高彈性的特點(diǎn)。

聚氯乙烯PVC℃.175~0.5/光面\常溫下對(duì)酸、堿和鹽類穩(wěn)定。耐磨性 好，耐燃自熄，消聲消震，電絕緣性好。熱穩(wěn)定性較差。低廉普通標(biāo)牌、面板 聚碳酸酯PC\-60~120℃.175~1.0\光面透光率高，吸水性低，尺寸穩(wěn)定性好，抗彎、抗拉、抗壓強(qiáng)度十分優(yōu)越，耐熱性耐寒性、電絕緣性和耐大氣老化性優(yōu)良。耐藥品性較差，耐疲勞性較差，易產(chǎn)生應(yīng)力開裂，輸出接口端子電路一般是碳性材質(zhì)印刷制成，并且沒有保護(hù)涂層，受空氣氧化逐漸形成脫落層，到最后導(dǎo)致斷路而壽命終止，這是薄膜鍵盤最容易出故障的地方，主要有環(huán)境所決定，不管使用與否，物理?yè)p壞時(shí)間是3-10年。一般適用范圍最為廣泛，除可滿足大多數(shù)薄膜鍵盤面板的要求外，其中光面PC的高透光率更可滿足帶液晶顯示窗的要求。

聚酯(PET)\-30~120℃.1~0.2光面耐藥品性良好，不溶于一般有機(jī)溶劑，不耐堿。具有優(yōu)良的機(jī)械性能、電性能、剛性、硬度和熱塑性塑料中最大的強(qiáng)韌性，吸水性低，耐磨損、耐摩擦性優(yōu)良，尺寸穩(wěn)定性高。拉伸強(qiáng)度能與鋁膜媲美，大大高于PC、PVC。低廉因表面難以加工成亞光型，故有紋理PET較貴 是制作薄膜鍵盤電路最理想的基材。其中有紋理PET適合對(duì)表面要求較高或具有液晶顯示窗的產(chǎn)品。

材料的厚度

塑料基材厚度在0.25mm及以下稱為薄膜，主要用作薄膜鍵盤的面板層， 其背面印有各種指示性的圖案、文字來表示相應(yīng)開關(guān)鍵位的操作區(qū)域，在厚度選擇上應(yīng)視面板及按鍵的大小而定，材料厚，觸動(dòng)力加大，反應(yīng)遲鈍;材料過薄，觸動(dòng)時(shí)手感差，回彈不明顯。厚度在0.25mm以上稱為板材，不適合立體鍵成型，可用作無按鍵操作區(qū)域的指示性的標(biāo)牌面板，也可作為薄膜鍵盤的襯板以提高其硬度