俄歇電子譜 是俄歇電子信號(hào) N(E)隨其動(dòng)能 E的分布。有兩種表達(dá)方式,分別為直接譜和微分譜。

俄歇電子直接譜 N(E)~ E

對(duì)于直接譜而言,此時(shí)俄歇電子信號(hào) N(E)以背景之上的俄歇電子峰的高度或俄歇峰所覆蓋的面積表示。譜圖保留了豐富的化學(xué)信息,隨著弱信號(hào)測(cè)量技術(shù)的進(jìn)步和高能量分辨俄歇電子譜儀的應(yīng)用,此種測(cè)量方式日益受到重視。

俄歇電子微分譜 dN(E)/dE ~ E

在微分譜中,dN(E)/dE 為俄歇電子信號(hào)對(duì)能量的一次微分,此時(shí)俄歇電子信號(hào)強(qiáng)度以微分譜的正、負(fù)峰的峰與峰的高度差表示,常稱為峰-峰值。

俄歇電子造價(jià)信息

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俄歇電子在樣品內(nèi)產(chǎn)生,攜帶有樣品原子的特征信息, 在逸出表面之前,若和樣品原子發(fā)生了各種非彈性散射過(guò)程(包括單電子激發(fā)和電離,等離子激發(fā), 聲子激發(fā)等)而改變了原有動(dòng)能值,則其攜帶的信息將丟失。由此,只有那些在逸出表面前未發(fā)生非彈性碰撞的電子才是有意義的 。

由于常用的俄歇電子的能量均在 2keV 以下,因此大致上只有在表面 2nm 深度范圍內(nèi)發(fā)射的俄歇電子才能不改變?cè)瓟y帶的信息而逸出體外。這就是俄歇譜儀之所以表面靈敏的原因。值得指出的是,以上討論也適用其它過(guò)程產(chǎn)生的電子,如 X 光電子譜儀的情況。

當(dāng)一束單色能量的電子束入射某樣品時(shí),則從該樣品發(fā)射出具有不同能量的出射電子。出射電子按其能量分布的曲線有如下特征:在入射電子能量處有一尖銳的峰稱彈性反射峰。在0 ~ 50eV 處有一寬峰 ,它是由入射電子經(jīng)多次非彈性散射的二次電子組成。在上述兩者之間存在著十分微弱的,疊加于背景信號(hào)上的小峰,其中包含有俄歇電子的信號(hào)。俄歇電子的發(fā)射過(guò)程是一種激發(fā)態(tài)電離原子的非輻射的退激發(fā)過(guò)程。對(duì)固體樣品而言,俄歇電子發(fā)射過(guò)程如下(如圖1),當(dāng)有外來(lái)輻射、即入射電子束(大多數(shù)實(shí)用情況)或 X 射線(個(gè)別情況)作用樣品時(shí),一個(gè)電子從原子內(nèi)殼層軌道(K)出射(電離),其留下的空位立即被較外殼層(L1)的電子填充 , 在此過(guò)程中多余的能量可以通過(guò)發(fā)射特征 X 射線釋放(熒光過(guò)程),或交給另一殼層軌道(L2,3)上的電子 ,使其從原子出射 。此即為俄歇躍遷過(guò)程,其出射的電子稱俄歇電子。

因?yàn)槎硇娮拥哪芰?EK 是由相應(yīng)的三個(gè)能級(jí)的電子結(jié)合能決定的, 而后者是代表元素原子種類特征,因此原則上測(cè)得 EK 即可判定元素之種類,關(guān)鍵是要測(cè)出俄歇電子N(E)隨能量(E)的分布,即N(E)~ E 曲線, 或稱為俄歇譜。俄歇譜可以由一個(gè)或多個(gè)俄歇峰組成, 每個(gè)俄歇峰對(duì)應(yīng)每一個(gè)特定的俄歇躍遷過(guò)程 。用以測(cè)錄俄歇譜的設(shè)備為俄歇(電子)譜儀。在實(shí)際工作中 , 以測(cè)錄的俄歇譜和標(biāo)準(zhǔn)手冊(cè)提供的圖譜,通過(guò)一定的方法,以判定原子的種類和濃度。

俄歇電子俄歇電子譜的測(cè)量常見(jiàn)問(wèn)題

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俄歇現(xiàn)象 于1925 年由 P .Auger 發(fā)現(xiàn)。 28 年以后,J .J .Lander 指出電子激發(fā)的俄歇電子可以用于檢測(cè)表面雜質(zhì),但是要從噪聲中檢測(cè)出十分微弱的俄歇電子信號(hào),當(dāng)時(shí)技術(shù)上尚無(wú)法實(shí)現(xiàn) 。

1968年,L.A .Harris 提出了一種“相敏檢測(cè)” 方法 , 大大改善了信噪比,使俄歇信號(hào)的檢測(cè)成為可能。以后隨著能量分析器的完善 , 使俄歇譜儀達(dá)到了可以實(shí)用的階段 。

1970 年通過(guò)掃描細(xì)聚焦電子束, 實(shí)現(xiàn)了表面組分的兩維分布的分析(所得圖像稱俄歇圖),出現(xiàn)了所謂的掃描俄歇微探針。

1972 年 ,R .W .Palmberg利用離子濺射,將表面逐層剝離,獲得了元素的深度分析,實(shí)現(xiàn)了三維分析。至此,俄歇譜儀的基本格局已經(jīng)確定,開始被廣泛使用。

俄歇電子 是由于原子中的電子被激發(fā)而產(chǎn)生的次級(jí)電子。當(dāng)原子內(nèi)殼層的電子被激發(fā)形成一個(gè)空洞時(shí),電子從外殼層躍遷到內(nèi)殼層的空洞并釋放出能量;雖然能量有時(shí)以光子的形式被釋放出來(lái);這種能量可以被轉(zhuǎn)移到另一個(gè)電子,導(dǎo)致其從原子激發(fā)出來(lái)。這個(gè)被激發(fā)的電子就是俄歇電子。這個(gè)過(guò)程被稱為俄歇效應(yīng),以發(fā)現(xiàn)此過(guò)程的法國(guó)物理學(xué)家P.V.俄歇命名。

俄歇電子具有特征性能量,其能量與釋放俄歇電子的原子中的電子轉(zhuǎn)移有關(guān)。俄歇電子的釋放是釋放特征性x射線的替代形式。俄歇電子的能量EA可由下面式子得出:

EA=E1-E2-E3,

其中,E1為具有內(nèi)殼層空位的原子能量,E2為具有外殼層空缺的原子能量,E3為(俄歇)電子的結(jié)合能。

俄歇電子能譜儀,是根據(jù)分析俄歇電子的基本特性所得到材料有關(guān)表層化學(xué)成分的定性或定量信息的儀器。主要應(yīng)用于表層輕微元素分析。今年來(lái),由于超高真空(

Pa)和能譜檢測(cè)技術(shù)的發(fā)展,俄歇譜儀作為一種極為有效的表面分析工具,為探索和澄清許多涉及表面現(xiàn)象的理論和工藝問(wèn)題,做出了十分可貴的貢獻(xiàn),日益受到人們的普遍重視。

俄歇電子俄歇電子譜的測(cè)量文獻(xiàn)

Cr-Mo鋼條帶狀斷口的俄歇電子能譜分析 Cr-Mo鋼條帶狀斷口的俄歇電子能譜分析

格式:pdf

大?。?span id="tf2wzcy" class="single-tag-height">2.7MB

頁(yè)數(shù): 8頁(yè)

評(píng)分: 4.6

Cr-Mo鋼大型鍛件的調(diào)質(zhì)毛坯,在進(jìn)行斷口和機(jī)械性能檢驗(yàn)時(shí)發(fā)現(xiàn),取自鍛件心部的試料出現(xiàn)條帶狀斷口(圖1)。這種斷口宏觀上呈分層細(xì)條狀,在日光下可見(jiàn)條帶閃光。掃描電鏡研究表明,肉眼所看到的斷口上的分層條帶,微觀下為成行排列的沿晶棱面(圖2),棱面尺寸約15~60μm。在兩行沿晶棱面之間,則為正常的韌窩+準(zhǔn)解理斷

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工程測(cè)量電子教案 工程測(cè)量電子教案

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頁(yè)數(shù): 85頁(yè)

評(píng)分: 4.4

《工程測(cè)量》課程 教 案 第一講 緒論 一、 一、 工程測(cè)量的實(shí)質(zhì) 工程測(cè)量的實(shí)質(zhì)就是定位,即確定點(diǎn)為之間的關(guān)系。 對(duì)于點(diǎn)為之間的關(guān)系的確定通常有兩種情況: 一種情況是:已知點(diǎn)位在地面上的位置, 不知其與其它點(diǎn)位之間的具體關(guān)系, 通常測(cè)量出這些點(diǎn)位的坐標(biāo)( X,Y,H)或?qū)⑦@些點(diǎn)用圖表示,這個(gè)過(guò)程就叫 測(cè)繪; 另一種情況:是點(diǎn)位的坐標(biāo)已知, 或在圖上的位置已知, 但在地面上的位置 未知,將這些點(diǎn)位在地面上的位置測(cè)量出來(lái), 這個(gè)過(guò)程就叫 測(cè)設(shè)(或施工放樣)。 在測(cè)量中,由于點(diǎn)位要求的精度不同,采用的方法不同測(cè)量學(xué)又分為: 大地測(cè)量學(xué):在廣大區(qū)域布設(shè)高精度的控制點(diǎn),顧及地球曲率的影響。 地形測(cè)量學(xué):在小區(qū)域測(cè)量大比例尺地形圖,不顧及地球曲率的影響。 攝影測(cè)量與遙感:研究用各種傳感器所獲得的影象繪制地形圖。 工程測(cè)量學(xué):研究各種工程在勘測(cè)設(shè)計(jì)、施工及運(yùn)營(yíng)等階段中測(cè)量工作。 二、 二、 測(cè)量坐標(biāo)系

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界面研究的一個(gè)基本方面,是探討界面原子和化學(xué)態(tài)和電子態(tài)。它包括不同元素原子間的成鍵狀況和局域電子態(tài),在各種電子能譜中,只有俄歇電子譜因其俄歇電子出射過(guò)程的高度局域性而可以得到界面各個(gè)深度剖面的上述信息。我們發(fā)展了俄歇電子譜的譜峰數(shù)據(jù)處理和分析技術(shù),并輔以因子分析(Factor analysis)法,得到了半導(dǎo)體元素原子間成鍵信息和價(jià)電荷轉(zhuǎn)移量,此項(xiàng)研究結(jié)果有推廣普遍意義,以GaAs/Si為例 ,發(fā)現(xiàn)界面處Si 有兩種化學(xué)態(tài)。一部份Si原子與As原子鍵合,并有0.3個(gè)P電子轉(zhuǎn)移至As原子上,它的局域電子態(tài)密度幅值明顯下降。而其他Si原子則保持純?cè)豐i-Si鍵 。Ga不與Si成鍵。上述研究為美國(guó)寫稿人評(píng)述為新結(jié)果。多個(gè)國(guó)家來(lái)函索文。

當(dāng)X射線或γ射線輻照到物體上時(shí),由于光子能量很高,能穿入物體,使原子內(nèi)殼層上的束縛電子發(fā)射出來(lái),于是,在內(nèi)殼層上出現(xiàn)空位,而原子外殼層上的電子可能躍遷到這空位上。一定的內(nèi)原子殼空位可以引起許多個(gè)俄歇電子躍遷。躍遷時(shí)釋放的能量將以輻射的形式向外發(fā)射。這種現(xiàn)象是1925年P(guān). -V.俄歇所發(fā)現(xiàn)的,因而稱為俄歇效應(yīng)。躍遷的電子名為俄歇電子。俄歇效應(yīng)是研究核子過(guò)程(如捕捉過(guò)程與內(nèi)轉(zhuǎn)換過(guò)程)的重要手段,同時(shí)從俄歇電子的能量與強(qiáng)度,可以求出原子或分子中的過(guò)渡幾率。反之,由已知能量的俄歇光譜線,可以校準(zhǔn)轉(zhuǎn)換電子的能量。

批準(zhǔn)號(hào)

69471004

項(xiàng)目名稱

界面俄歇電子譜峰形分析

項(xiàng)目類別

面上項(xiàng)目

申請(qǐng)代碼

F0122

項(xiàng)目負(fù)責(zé)人

何煒

負(fù)責(zé)人職稱

教授

依托單位

清華大學(xué)

研究期限

1995-01-01 至 1996-12-31

支持經(jīng)費(fèi)

6(萬(wàn)元)

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