n 高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的(可以生產150 nm)
n 粒度可控,根據不同需要,可生產不同粒度的產品(10-150 nm)
n 高純度(Cu含量小于50 ppb),有效減小對電子類產品的沾污
高平坦度加工,本品拋光利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工
根據不同的拋光要求可分為不同粒度(10~150 nm)的產品。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。
成份 | 含量(w%) |
SiO2 | 15~30 |
Na2O | ≤0.3 |
重金屬雜質 | ≤50 ppb |
主要配方: 成份 ...
二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工??缮a不同粒度(10~1...
二氧化硅 與 氣相二氧化硅 與 納米二氧化硅 的區(qū)別
一、納米二氧化硅納米二氧化硅是極其重要的高科技超微細無機新材料之一,因其粒徑很小,比表面積大,表面吸附力強,表面能大,化學純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其優(yōu)越的穩(wěn)定性、補強性、...
1、 光通訊領域,配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產品,能達到超精細拋光效果,拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷,3D指標和反射衰減指標達到國際標準。
2、 硬盤基片的拋光,SiO2磨料呈球形,具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點。
3、 硅晶圓、藍寶石等半導體及襯底材料的粗拋和精拋,具有拋光速率高,拋光后易清洗,表面粗糙度低,能夠得到總厚偏差(TTV)極小的質量表面。
4、其他領域的應用,如不銹鋼、光學玻璃等領域,拋光后能達到良好的拋光效果
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評分: 4.8
高純天然石英砂進口激增存在問題不容忽視 2005-5-18 15:11:17 高純石英砂是生產石英坩堝的重要原料。而高純石英坩堝是制造單晶硅棒的容器,硅棒經 切割而成的硅片為制造芯片的基礎原料。據海關統(tǒng)計,今年 1至 4月,天津口岸進口高純 天然石英砂 823.8噸(由于商品編碼 25051000包括硅砂和石英砂,因此本文數據來源于 海關報關單數據庫,品名為:高純天然石英砂),價值 343.4 萬美元,比去年同期(下同) 分別增長 2.9倍和 3.2倍。 一、今年 1至 4月天津口岸進口高純天然石英砂的主要特點 (一)全部自美國進口。 (二)全部以一般貿易方式進口。 (三)進口平均價格小幅增長。 由去年同期的 3882美元 /噸,增長今年的 4168美元 /噸, 小幅增長 7.4%。 二、今年 1至 4月天津口岸進口高純天然石英砂數量增長的原因 (一)近年來我國集成電路制造產業(yè)飛速發(fā)展,
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評分: 4.6
對長距離傳輸系統(tǒng)而言,低損耗光纖是不可缺少的傳輸媒介,目前世界上已經開發(fā)出了超低損耗0.1484 dB/km的光纖,刷新了早在1986年創(chuàng)造的0.154 dB/km的記錄。這種超低損耗光纖是通過改進純石英(二氧化硅)纖芯而得到的,其大有效截面積為118μm2,有助于抑制非線性效應。本文也簡述了該光纖可能對傳輸系統(tǒng)的一些影響,傳輸損耗在寬廣的波長范圍內(C和L波段)低于0.160 dB/km,這對于EDFA(摻鉺光纖放大器)系統(tǒng)是非常有吸引力的;在無中繼傳輸系統(tǒng)中,與傳統(tǒng)的Ge-SMF光纖相比,低損耗光纖可使傳輸距離增大33%,當該超低損耗光纖與后向泵譜分布式喇曼放大器結合使用時,有可能使傳輸距離增大到400 km.
南京鵬飛研磨材料有限公司是專業(yè)從事研磨拋光材料應用技術開發(fā)的高科技企業(yè),擁有一支不斷追求開拓創(chuàng)新的科技研發(fā)隊伍,研發(fā)中心從事研磨拋光材料的技術、工藝、新產品開發(fā),對公司產品售后提供技術服務與保障。
拋光粉:
氧化鈰拋光粉具有切削力強、拋光時間短、使用壽命長、拋光精度高的優(yōu)點。已在各種光學玻璃器件研磨拋光中獲得了廣泛的應用。
二氧化硅拋光液:
以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。適用于硅片、鍺片、半導體材料,精密光學器件、藍寶石片等拋光研磨加工。
多晶金剛石拋光液:
以多晶金剛石微粉為主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體等產品的研磨和拋光。
拋光墊:
按材質的不同分為聚氨酯拋光墊、無紡布拋光墊和復合型拋光墊。