氦質(zhì)譜檢漏儀

靈敏度、反應(yīng)時(shí)間、清除時(shí)間、工作真空度、極限真空度及儀器入口處抽速是評價(jià)氦質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)。

①靈敏度及其校準(zhǔn)

氦質(zhì)譜檢漏儀靈敏度，通常指儀器的最小可檢漏率。記為qL.min，即在儀器處于最佳工作條件下，以一個(gè)大氣壓的純氦氣為示漏氣體，進(jìn)行動(dòng)態(tài)檢漏時(shí)所能檢測出的最小漏孔漏率。所謂“最佳工作條件”是指儀器參數(shù)調(diào)整到最佳值，被檢件出氣少且沒有大漏孔等條件。所謂“動(dòng)態(tài)檢漏”是指檢漏儀器本身的抽氣系統(tǒng)仍在正常抽氣。儀器的反應(yīng)時(shí)間不大于3s。所謂“最小可檢”是指檢漏訊號為儀器本底噪聲的兩倍時(shí)，才能認(rèn)定有漏氣訊號輸出。所謂“漏孔漏率”是指一個(gè)大氣壓的干燥空氣通過漏孔漏向真空側(cè)的漏氣速率。儀器本底噪聲，一般指在2min內(nèi)輸出儀表的最大波動(dòng)量。

漏率靈敏度標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)即為標(biāo)準(zhǔn)漏孔5進(jìn)氣端提供壓力為pHe的純氦氣。輔助泵6的任務(wù)是預(yù)抽。用干燥瓶4和針閥2調(diào)節(jié)儀器工作壓力。如果儀器本底為I0，本底噪聲為In，標(biāo)準(zhǔn)漏孔對空氣的標(biāo)稱漏率為qL.o，當(dāng)其進(jìn)氣壓力為pHe時(shí)的儀器訊號為I，則儀器靈敏度。

如果檢漏時(shí)用輔助系統(tǒng)抽氣(即對示漏氦氣有分流)?；蛴美鄯e法檢漏時(shí)，給出儀器最小可檢氦濃度(即濃度靈敏度)。記為γmin，能較方便地估計(jì)檢漏效果。

濃度靈敏度校準(zhǔn)系統(tǒng)中應(yīng)用一流量計(jì)測出通過針閥2進(jìn)入儀器的空氣流率qL.o，則儀器濃度靈敏度成。

②反應(yīng)時(shí)間、清除時(shí)間及其測定

反應(yīng)時(shí)間是指儀器節(jié)流閥完全開啟，本底訊號為零(或補(bǔ)償?shù)搅?時(shí)，由恒定的氦流量使輸儀表訊號上升到最大值的(1-e)倍(即O.63)所需要的時(shí)間，記為τR。

清除時(shí)間是指輸出儀表訊號穩(wěn)定到最大值后，停止送氦，其訊號下降到最大值的e倍(即O.37)所需要的時(shí)間，記為τC。

氦質(zhì)譜檢漏儀是磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計(jì)。單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器靈敏度為lO～10Pam/s，廣泛地用于各種真空系統(tǒng)及零部件的檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器相比較，本底噪聲顯著減?。潇`敏度可達(dá)10～10Pam/s，適用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件的檢漏。逆流氦質(zhì)譜檢漏儀改變了常規(guī)型儀器的結(jié)構(gòu)布局，被檢件置于檢漏儀主抽泵的前級部位，因此具有可在高壓力下檢漏、不用液氮及質(zhì)譜室污染小等特點(diǎn)．適用于大漏率、真空衛(wèi)生較差的真空系統(tǒng)的檢漏，其靈敏度可達(dá)10Pam/s。

工作原理與結(jié)構(gòu)

氦質(zhì)譜檢漏儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。

①單級磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀

現(xiàn)以HZJ—l型儀器為例．介紹單級磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀。

在質(zhì)譜室內(nèi)有：由燈絲、離化室、離子加速極組成離子源；由外加均勻磁場、擋板及出口縫隙組成分析器；由抑制柵、收集極及高阻組成收集器；第一級放大靜電計(jì)管和冷陰極電離規(guī)。。

在離化室N內(nèi)，氣體電離成正離子，在電場作用下離子聚焦成束。并在加速電壓作用下以一定的速度經(jīng)過加速極S1的縫隙進(jìn)入分析器。在均勻磁場的作用下，具有一定速度的離子將按圓形軌跡運(yùn)動(dòng)，其偏轉(zhuǎn)半徑可計(jì)算。

可見，當(dāng)B和U為定值時(shí)，不同質(zhì)荷比me的離子束的偏轉(zhuǎn)半徑R不同。儀器的B和R是固定的，調(diào)節(jié)加速電壓U使氦離子束恰好通過出口縫隙S2，到達(dá)收集器D，形成離子流并由放大器放大。使其由輸出表和音響指示反映出來；而不同于氦質(zhì)荷比的離子束[(me)1(me)3]因其偏轉(zhuǎn)半徑與儀器的R值不同無法通過出口縫隙S2，所以被分離出來。(me)2=4，即He的質(zhì)荷比，除He之外，C很少，可忽略。

②雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀

由于兩次分析，減少了非氦離子到達(dá)收集器的機(jī)率。并且，如在兩個(gè)分析器的中間，即圖中的中間縫隙S2與鄰近的擋板間設(shè)置加速電場，使離子在進(jìn)入第二個(gè)分析器前再次被加速。那些與氦離子動(dòng)量相同的非氦離子，雖然可以通過第一個(gè)分析器，但是，經(jīng)第二次加速進(jìn)入第二個(gè)分析器后，由于其動(dòng)量與氦離子的不同而被分離出來。由于二次分離，儀器本底及本底噪聲顯著地減小，提高了儀器靈敏度。

③逆流氦質(zhì)譜檢漏儀

逆流氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)油擴(kuò)散泵或分子泵的壓縮比與氣體種類有關(guān)的原理制成的。例如，多級油擴(kuò)散泵對氦氣的壓縮比為10；對空氣中其它成分的壓縮比為lO～10。檢漏時(shí)，通過被檢件上漏孔進(jìn)入主抽泵前級部位的氦氣，仍有部分返流到質(zhì)譜室中去，并由儀器的輸出指示示出漏氣訊號。這就是逆流氦頃質(zhì)譜檢漏儀的工作原理。

《真空測量與控制》主要內(nèi)容有真空測量技術(shù)、液位式真空計(jì)、熱傳導(dǎo)真空計(jì)、熱陰極電離真空計(jì)、冷陰極電離真空計(jì)、分壓力測量和殘余氣體分析、真空計(jì)校準(zhǔn)、真空檢漏的基本原理、各種檢漏方法、氦質(zhì)譜檢漏儀及其他檢漏儀、標(biāo)準(zhǔn)漏孔、真空測量儀器電路、真空設(shè)備與系統(tǒng)的自動(dòng)控制等。