集成電路線寬定義

集成電路線寬指由特定工藝決定的所能光刻的最小尺寸，一般等于溝道的最小寬度。

集成電路的線寬通常可理解為所加工的電路圖形中最小線條寬度，但在MOS電路中，人們也常柵極長(zhǎng)度來定義線寬。集成度與線寬有對(duì)應(yīng)關(guān)系，即集成度越高，線寬越小，所以，線寬也常用來表示集成電路制度技術(shù)水平的高低。世界上生產(chǎn)集成電路的主流產(chǎn)品線寬為0.25微米。滿足0.25微米線寬要求的硅拋光片，可用于批量生產(chǎn)64M 集成電路，也可用于試制256M集成電路樣片。

集成電路的集成度是指單塊芯片上所容納的元件數(shù)目。集成度越高，所容納的元件數(shù)目越多。如已批量生產(chǎn)的64M集成電路，集成度為64M，粗略地講，這種單塊芯片上集成有6000萬個(gè)元件。

世界上最先進(jìn)的集成電路線寬已降到0.13微米，即130納米!集成電路發(fā)展的極限是指電子計(jì)算機(jī)集成電路的電路線寬細(xì)到0.01微米。按照集成電路的概念，1納米（0.001微米）的工藝是難以實(shí)現(xiàn)的，因?yàn)檫@時(shí)量子效應(yīng)已經(jīng)呈現(xiàn)出來，器件已經(jīng)不能按原來的機(jī)理來正常工作了。在1納米尺寸時(shí)，只有利用量子效應(yīng)、采用所謂量子電子器件來構(gòu)成電路。那將使集成電路更上一個(gè)新的臺(tái)階，世界也將會(huì)大放光彩。

我國大力扶持集成電路產(chǎn)業(yè)。根據(jù)財(cái)稅[2012]27號(hào)文，對(duì)集成電路線寬小于0.8微米（含）的集成電路生產(chǎn)企業(yè)，經(jīng)認(rèn)定后，在2017年12月31日前自獲利年度起計(jì)算優(yōu)惠期，第一年至第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅，并享受至期滿為止。集成電路線寬小于0.25微米或投資額超過80億元的集成電路生產(chǎn)企業(yè)，經(jīng)認(rèn)定后，減按15%的稅率征收企業(yè)所得稅，其中經(jīng)營(yíng)期在15年以上的，在2017年12月31日前自獲利年度起計(jì)算優(yōu)惠期，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年按照25%的法定稅率減半征收企業(yè)所得稅，并享受至期滿為止。 2100433B

隨著集成電路線寬的不斷減小，CMOS正在面臨難以克服的挑戰(zhàn)，純納米電路還遠(yuǎn)沒達(dá)到實(shí)用的要求，基于納米技術(shù)和傳統(tǒng)CMOS工藝的CMOS/納米/分子混合（Cmos/nanowire/MOLecular hybrid,CMOL）的電路可望克服面臨的挑戰(zhàn)并展示出極大的應(yīng)用前景，缺乏相應(yīng)的自動(dòng)設(shè)計(jì)方法正在阻礙該項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展。本項(xiàng)目旨在發(fā)展CMOL單元的自動(dòng)映射和配置的理論和關(guān)鍵技術(shù)。主要研究?jī)?nèi)容包括：發(fā)展單元電路的映射算法；研究電路等效變換與可映射性問題；建立CMOL單元配置理論；基于可滿足性（satisfiability，SAT）的容錯(cuò)CMOL單元的配置方法；建立實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證平臺(tái)。開展這一課題的研究，不僅為克服當(dāng)今集成電路面臨的挑戰(zhàn)尋找新途徑，更是為提高我國電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化（EDA）工業(yè)的國際競(jìng)爭(zhēng)力提供基礎(chǔ)理論和技術(shù)支持。 2100433B

1、集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)視同軟件企業(yè)，享受軟件企業(yè)的有關(guān)企業(yè)所得稅政策。

2、集成電路生產(chǎn)企業(yè)的生產(chǎn)性設(shè)備，經(jīng)主管稅務(wù)機(jī)關(guān)核準(zhǔn)，其折舊年限可以適當(dāng)縮短，最短可為3年。

3、投資額超過80億元人民幣或集成電路線寬小于0.25um的集成電路生產(chǎn)企業(yè)，可以減按15%的稅率繳納企業(yè)所得稅，其中，經(jīng)營(yíng)期在15年以上的，從開始獲利的年度起，第一年至第五年免征企業(yè)所得稅，第六年至第十年減半征收企業(yè)所得稅。

4、對(duì)生產(chǎn)線寬小于0.8微米（含）集成電路產(chǎn)品的生產(chǎn)企業(yè)，經(jīng)認(rèn)定后，自獲利年度起，第一年和第二年免征企業(yè)所得稅，第三年至第五年減半征收企業(yè)所得稅?！∫呀?jīng)享受自獲利年度起企業(yè)所得稅“兩免三減半”政策的企業(yè)，不再重復(fù)執(zhí)行本條規(guī)定。

5、自2008年1月1日起至2010年底，對(duì)集成電路生產(chǎn)企業(yè)、封裝企業(yè)的投資者，以其取得的繳納企業(yè)所得稅后的利潤(rùn)，直接投資于本企業(yè)增加注冊(cè)資本，或作為資本投資開辦其他集成電路生產(chǎn)企業(yè)、封裝企業(yè)，經(jīng)營(yíng)期不少于5年的，按40%的比例退還其再投資部分已繳納的企業(yè)所得稅稅款。再投資不滿5年撤出該項(xiàng)投資的，追繳已退的企業(yè)所得稅稅款，

6、自2008年1月1日起至2010年底，對(duì)國內(nèi)外經(jīng)濟(jì)組織作為投資者，以其在境內(nèi)取得的繳納企業(yè)所得稅后的利潤(rùn)，作為資本投資于西部地區(qū)開辦集成電路生產(chǎn)企業(yè)、封裝企業(yè)或軟件產(chǎn)品生產(chǎn)企業(yè)，經(jīng)營(yíng)期不少于5年的，按80%的比例退還其再投資部分已繳納的企業(yè)所得稅稅款。再投資不滿5年撤出該項(xiàng)投資的，追繳已退的企業(yè)所得稅稅款。

參考資料：2100433B

測(cè)量顯微鏡光學(xué)測(cè)量顯微鏡

采用透、反射的方式對(duì)工件長(zhǎng)度和角度作精密測(cè)量。主要運(yùn)用于錄像磁頭、大規(guī)模集成電路線寬以及其它精密零件的測(cè)試。廣泛地適用于計(jì)量室、生產(chǎn)作業(yè)線及科學(xué)研究等部門。

主要優(yōu)點(diǎn)：工作臺(tái)除作X、Y坐標(biāo)的移動(dòng)外，還可以作360度的旋轉(zhuǎn)，是一種理想的固定場(chǎng)所小型精密測(cè)量?jī)x器。

測(cè)量顯微鏡數(shù)碼測(cè)量顯微鏡

一種將將顯微鏡看到的實(shí)物圖像通過數(shù)模轉(zhuǎn)換，使其成像在顯微鏡自帶的屏幕上或計(jì)算機(jī)上的顯微鏡設(shè)備。特別適用于制造業(yè)、精密零件以及不方便

移動(dòng)的物件的觀察測(cè)量。廣泛地適用于生產(chǎn)作業(yè)線及科學(xué)研究等部門。

主要優(yōu)點(diǎn)：小巧便攜，只需一臺(tái)計(jì)算機(jī)就可以直觀的觀測(cè)微觀放大圖像，進(jìn)行精確數(shù)據(jù)測(cè)量、拍照備份圖片及數(shù)據(jù)資料;還可以根據(jù)客戶需要定制特種光源（熒光、紅外）用于特殊場(chǎng)所觀測(cè)。數(shù)碼測(cè)量顯微鏡幾年來得到廣泛的普及使用，已成為一種可靠實(shí)用的精密測(cè)量?jī)x器。

測(cè)量顯微鏡Z軸非接觸式

以裂像聚焦指示器為測(cè)量原理, 采用高精度光學(xué)聚焦點(diǎn)檢測(cè)方式進(jìn)行非接觸高低差測(cè)量。不僅可以對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)影像, 還能觀察測(cè)量點(diǎn)的表面狀態(tài),對(duì)高度,深度,高低差等進(jìn)行測(cè)量。本儀器的各種鏡筒還具有明暗場(chǎng)，微分干涉，金相，偏光等多種觀察功能。所以對(duì)極細(xì)微的間隙高低差，夾雜物、微米以下的突起、細(xì)微劃痕、以及金相組織進(jìn)行觀察