中文名 | 激光直寫曝光機(jī) | 產(chǎn)????地 | 德國(guó) |
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學(xué)科領(lǐng)域 | 物理學(xué)、電子與通信技術(shù) | 啟用日期 | 2016年4月29日 |
所屬類別 | 工藝試驗(yàn)儀器 > 電子工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備 > 半導(dǎo)體集成電路工藝實(shí)驗(yàn)設(shè)備 |
制備光刻版;微納圖形光刻。 2100433B
最小線寬0.7μm;曝光效率110 mm2/min。
首先檢查冷卻水是否通暢,然后檢查水壓開(kāi)關(guān)是否正常,如果都正常,試試手動(dòng)出光,如果都不出光,電流表電流還有,說(shuō)明激光管壞了,如果沒(méi)電流,再看看激光電源風(fēng)扇是否運(yùn)轉(zhuǎn)正常,如果都正常,說(shuō)明激光電源壞了
攝影要注意的問(wèn)題有構(gòu)圖,構(gòu)圖要合理,突出主題,物體分布合理。常用的是九宮格構(gòu)圖法。色彩也十分重要,色彩的搭配,曝光控制,色彩還原。虛實(shí)結(jié)合,利用景深創(chuàng)造已經(jīng)。 攝影分好多,風(fēng)光...
調(diào)透鏡,調(diào)激光器姿態(tài)。等等
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評(píng)分: 4.5
紫外線曝光機(jī)是印制板制造工藝中的重要設(shè)備,燈源是影響印制板曝光質(zhì)量的主要因素。提供一種曝光機(jī)燈源系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案,包括燈源的調(diào)光電路選擇、三菱PLC擴(kuò)展模塊模的使用、以及控制燈箱抽風(fēng)風(fēng)扇的PLC程序。
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紫外線曝光機(jī)是印制板制造工藝中的重要設(shè)備,燈源是影響印制板曝光質(zhì)量的主要因素。本文提供一種曝光機(jī)燈源系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案,包括燈源的調(diào)光電路選擇、三菱PLC擴(kuò)展模塊模的使用、以及控制燈箱抽風(fēng)風(fēng)扇的PLC程序。
小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3,通過(guò)激光直寫在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案,而無(wú)需掩膜版,專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā),適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。
直寫前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過(guò)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。
標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別
點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。
光學(xué)輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
簡(jiǎn)單的直寫軟件
MicroWriter ML3由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。
Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件
可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定
該設(shè)備由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束掃描,在光刻膠上直接曝光寫出所設(shè)計(jì)的任意圖形,從而把設(shè)計(jì)圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。激光直寫系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)如圖所示,主要由He-Cd激光器、聲光調(diào)制器、投影光刻物鏡、CCD攝像機(jī)、顯示器、照明光源、工作臺(tái)、調(diào)焦裝置、He-Ne激光干涉儀和控制計(jì)算機(jī)等部分構(gòu)成。激光直寫的基本工作流程是:用計(jì)算機(jī)產(chǎn)生設(shè)計(jì)的微光學(xué)元件或待制作的VLSI掩摸結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù);將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成直寫系統(tǒng)控制數(shù)據(jù),由計(jì)算機(jī)控制高精度激光束在光刻膠上直接掃描曝光;經(jīng)顯影和刻蝕將設(shè)計(jì)圖形傳遞到基片上。 2100433B