在摩爾定律的指引下，半導(dǎo)體工業(yè)大致每?jī)赡昃涂缟弦粋€(gè)新的臺(tái)階。為了實(shí)現(xiàn)45納米及更小節(jié)點(diǎn)器件的批量生產(chǎn)，需要新一代的光刻技術(shù)。作為下一代芯片工藝的領(lǐng)頭羊，極紫外光刻技術(shù)被半導(dǎo)體業(yè)界普遍認(rèn)為是現(xiàn)有光學(xué)光刻技術(shù)的接班人。在極紫外光刻的實(shí)現(xiàn)過(guò)程中，技術(shù)難度最大的環(huán)節(jié)之一是光刻模板的制造工藝。. 本項(xiàng)目研究的極紫外光刻模板的制造工藝是半導(dǎo)體業(yè)界學(xué)術(shù)研究最前沿的新課題。此研究將采用理論建模、計(jì)算仿真、實(shí)驗(yàn)分析相結(jié)合的技術(shù)線路，對(duì)極紫外光刻模板制造工藝中的力學(xué)參數(shù)進(jìn)行選擇和優(yōu)化。建立光刻模板的理論方程；探索并研究出等效模擬技術(shù)和子模型技術(shù)，構(gòu)建光刻模板制造工藝的三維非線性模型；并利用獲得的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)對(duì)模型進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證，修正模型重要參數(shù)。通過(guò)對(duì)其力學(xué)參數(shù)的優(yōu)化，能夠減少甚至完全消除光刻模板的變形，極大提高光刻工藝的最終精確度。為促進(jìn)極紫外光刻的研究和發(fā)展、加速其工業(yè)實(shí)現(xiàn)提供有效的指導(dǎo)和參考價(jià)值。 2100433B

極紫外光刻模板制造工藝中力學(xué)參數(shù)的擇取和優(yōu)化造價(jià)信息

市場(chǎng)價(jià) 信息價(jià) 詢價(jià)
材料名稱 規(guī)格/型號(hào) 市場(chǎng)價(jià)
（除稅）		 工程建議價(jià)
（除稅）		 行情 品牌 單位 稅率 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)日期
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五棵松

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五棵松

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模板 帶膜 楊木 查看價(jià)格 查看價(jià)格

張 13% 河南豐潤(rùn)木業(yè)有限公司
模板 14MM厚,1.22*2.44 楊木 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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模板 15MM厚,1.22*2.44 楊木 查看價(jià)格 查看價(jià)格

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模板 14MM厚,0.915*1.83 楊木 查看價(jià)格 查看價(jià)格

張 13% 鄭州市管城區(qū)愛(ài)紅模板經(jīng)營(yíng)部
模板 品種:松木紅板;規(guī)格 (mm):1830×915×13;實(shí)際厚度(mm):13;備注:出廠價(jià);系列:松木紅板; 查看價(jià)格 查看價(jià)格

美森

 張 13% 哈爾濱美森經(jīng)貿(mào)有限公司
材料名稱 規(guī)格/型號(hào) 除稅
信息價(jià)		 含稅
信息價(jià)		 行情 品牌 單位 稅率 地區(qū)/時(shí)間
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張 佛山市2022年3季度信息價(jià)
材料名稱 規(guī)格/需求量 報(bào)價(jià)數(shù) 最新報(bào)價(jià)
（元）		 供應(yīng)商 報(bào)價(jià)地區(qū) 最新報(bào)價(jià)時(shí)間
防紫外光處理 防紫外光處理一次|800m2 0 查看價(jià)格 佛山市晨新航不銹鋼有限公司 廣東  江門市 2015-10-19
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紫外光燈 30W|100臺(tái) 1 查看價(jià)格 佛山市禪城區(qū)昌勝電子電器廠 廣東  江門市 2009-12-25
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紫外光燈 40W|100個(gè) 1 查看價(jià)格 深圳市寶安區(qū)中圖新冠雅光電經(jīng)營(yíng)部 廣東  江門市 2017-06-08
復(fù)合模板 復(fù)合模板|35.628m2 3 查看價(jià)格 成都同創(chuàng)友德商貿(mào)有限公司 全國(guó)   2020-11-27
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復(fù)合模板 復(fù)合模板|34.177m2 3 查看價(jià)格 成都同創(chuàng)友德商貿(mào)有限公司 全國(guó)   2020-11-27

批準(zhǔn)號(hào)

10702017

項(xiàng)目名稱

極紫外光刻模板制造工藝中力學(xué)參數(shù)的擇取和優(yōu)化

項(xiàng)目類別

青年科學(xué)基金項(xiàng)目

申請(qǐng)代碼

A0805

項(xiàng)目負(fù)責(zé)人

鄭亮

負(fù)責(zé)人職稱

副教授

依托單位

哈爾濱工業(yè)大學(xué)

研究期限

2008-01-01 至 2010-12-31

支持經(jīng)費(fèi)

21（萬(wàn)元）

極紫外光刻模板制造工藝中力學(xué)參數(shù)的擇取和優(yōu)化項(xiàng)目摘要常見(jiàn)問(wèn)題

  • 導(dǎo)光板的制造工藝

    90年代以來(lái)，科學(xué)技術(shù)不斷向上發(fā)展，導(dǎo)光板的制作方法慢慢改進(jìn)，衍生出不同與早期的印刷式制作，與它相對(duì)而言的，我們稱之為“非印刷式”。 1. 使用壽命長(zhǎng)。雕刻是物理性工藝，導(dǎo)光板的使用壽命長(zhǎng)短主要和有機(jī)...

  • 4.0中實(shí)體項(xiàng)目的模板和措施項(xiàng)目的模板用同時(shí)記取嗎

    不能同時(shí)計(jì)取，只能計(jì)取一處。

  • 紫外光二極管的分類是哪些？

    LD半導(dǎo)體激光二極管，和LED類似，也是一個(gè)PN結(jié)，也是利用外電源向PN結(jié)注入電子來(lái)發(fā)光的。半導(dǎo)體激光器的結(jié)構(gòu)通常由P層、N層和形成雙異質(zhì)結(jié)的有源層構(gòu)成。體積小，耦合效率高，響應(yīng)速度快。LD，光線比較...

極紫外光刻模板制造工藝中力學(xué)參數(shù)的擇取和優(yōu)化項(xiàng)目摘要文獻(xiàn)

紫外光固化飾面板制造工藝優(yōu)化 紫外光固化飾面板制造工藝優(yōu)化

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頁(yè)數(shù)： 4頁(yè)

評(píng)分： 4.5

在建筑工業(yè)化進(jìn)程中,建筑內(nèi)裝墻材是十分重要的組成部分,然而,由于其產(chǎn)品種類繁多、施工工藝復(fù)雜,難以標(biāo)準(zhǔn)化集成和應(yīng)用,因此建筑內(nèi)裝構(gòu)件的部品化和一體化是實(shí)現(xiàn)建筑工業(yè)化的一個(gè)重要方面。本文探討采用紫外光(UV)固化技術(shù),通過(guò)多道組合工藝,可將普通的建材轉(zhuǎn)化為高檔裝飾板材,可有效提高裝飾板的工業(yè)化生產(chǎn)程度,并提升我國(guó)建筑內(nèi)裝一體化板的制造水平。

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基于紫外光刻的微納光纖布喇格光柵研究 基于紫外光刻的微納光纖布喇格光柵研究

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頁(yè)數(shù)： 4頁(yè)

評(píng)分： 4.4

介紹紫外光刻法制作微納光纖布喇格光柵(MF-BG)的制作工藝,測(cè)量并分析不同直徑的微納光纖布喇格光柵的反射譜。數(shù)據(jù)表明隨著微納光纖的直徑變小,光纖光柵的中心波長(zhǎng)藍(lán)移且反射強(qiáng)度也隨之減小。仿真計(jì)算微納光纖的有效折射率和光纖纖芯的束縛能力(即基模分布在纖芯的能量與基模全部能量的比值),來(lái)解釋上述變化。

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紫外光刻膠（UV resist）是用紫外光作曝光光源的光刻膠。

一般是指分光感度波長(zhǎng)為sao一450nin的近紫外抗蝕劑紫外光刻膠有負(fù)性、正性和止一負(fù)性兩用三類。負(fù)性的代表品種是聚乙烯醇肉桂酸醋、環(huán)化橡膠系抗蝕劑、止性代表品種是重氦茶釀系抗蝕劑，正負(fù)性抗蝕劑是為丁兼顧其既有.卜性又有負(fù)性的性能，往往會(huì)給全面照顧抗蝕劑應(yīng)用上帶來(lái)一些難題，尚未商品化、

2100433B

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采用掩膜對(duì)準(zhǔn)技術(shù),對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光,使受紫外光輻照的光刻膠發(fā)生改變，從而完成刻蝕。

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曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。

常見(jiàn)光源分為:

可見(jiàn)光:g線:436nm

紫外光(UV)，i線:365nm

深紫外光(DUV),KrF 準(zhǔn)分子激光:248 nm, ArF 準(zhǔn)分子激光:193 nm

極紫外光(EUV)，10 ~ 15 nm

對(duì)光源系統(tǒng)的要求

a.有適當(dāng)?shù)牟ㄩL(zhǎng)。波長(zhǎng)越短，可曝光的特征尺寸就越小;[波長(zhǎng)越短，就表示光刻的刀鋒越鋒利，刻蝕對(duì)于精度控制要求越高，因?yàn)檠苌洮F(xiàn)象會(huì)更嚴(yán)重。]

b.有足夠的能量。能量越大，曝光時(shí)間就越短;

c.曝光能量必須均勻地分布在曝光區(qū)。[一般采用光的均勻度 或者叫 不均勻度 光的平行度等概念來(lái)衡量光是否均勻分布]

常用的紫外光光源是高壓弧光燈(高壓汞燈)，高壓汞燈有許多尖銳的光譜線，經(jīng)過(guò)濾光后使用其中的g 線(436 nm)或i 線(365 nm)。

對(duì)于波長(zhǎng)更短的深紫外光光源，可以使用準(zhǔn)分子激光。例如KrF 準(zhǔn)分子激光(248 nm)、ArF 準(zhǔn)分子激光(193 nm)和F2準(zhǔn)分子激光(157 nm)等。

曝光系統(tǒng)的功能主要有:平滑衍射效應(yīng)、實(shí)現(xiàn)均勻照明、濾光和冷光處理、實(shí)現(xiàn)強(qiáng)光照明和光強(qiáng)調(diào)節(jié)等。

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