在橢偏測量過程中,有兩個橢偏參數(shù)非常關(guān)鍵。(標(biāo)準(zhǔn))橢圓偏振測量四個史托克參數(shù)(Stokes parameters)中的兩個,通常以Δ及Φ來表示。TanΦ為反射后之振幅比,Δ為相位移(相差)。由于橢圓偏振系測量兩項之比值(或差異)而非其絕對數(shù)值,因此這技術(shù)所得的數(shù)據(jù)是相當(dāng)正確且可再現(xiàn)的,其對散射及擾動等因素較不敏感,且不需要標(biāo)準(zhǔn)樣品或參考樣品。
橢圓偏振為間接量測的技術(shù),也就是說,一般測得的Δ及Φ并不能直接轉(zhuǎn)換為樣品的光學(xué)常數(shù),通常需要建構(gòu)模型來進(jìn)行分析。只有對于無限厚(約厘米等級)、各向同性且均勻的膜,才可能直接轉(zhuǎn)換得到其Δ及Φ之?dāng)?shù)值。在所有其他的情形下,則必需建構(gòu)其層狀模型,并考慮所有各層之各別的光學(xué)常數(shù)如(折射率或介電常數(shù))及厚度,且依正確的層畳順序建立。再借由多次最小方差法最適化,變動未知的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度參數(shù),以之代入菲涅耳方程計算求得其對應(yīng)Δ及Φ數(shù)值。最后,所得最接近實驗數(shù)據(jù)之Δ及Φ數(shù)值,其參數(shù)來源的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度可視為此量測之最適化結(jié)果。
橢偏測量可取得薄膜的介電性質(zhì)(復(fù)數(shù)折射率或介電常數(shù))。它已被應(yīng)用在許多不同的領(lǐng)域,從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應(yīng)用,如半導(dǎo)體物理研究、微電子學(xué)和生物學(xué)。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質(zhì)測量技術(shù),且具有非破壞性和非接觸之優(yōu)點。
分析自樣品反射之偏振光的改變,橢圓偏振技術(shù)可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊,小至一個單原子層,甚至更小。橢圓儀可測得復(fù)數(shù)折射率或介電函數(shù)張量,可以此獲得基本的物理參數(shù),并且這與各種樣品的性質(zhì),包括形態(tài)、晶體質(zhì)量、化學(xué)成分或?qū)щ娦?,有所關(guān)聯(lián)。它常被用來鑒定單層或多層堆棧的薄膜厚度,可量測厚度由數(shù)埃(Angstrom)或數(shù)納米到幾微米皆有極佳的準(zhǔn)確性。
半導(dǎo)體物理、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、表界面科學(xué)研究、物理、化學(xué)、生物、醫(yī)藥、介電材料、有機(jī)高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、各種液體薄膜、自組裝單分子層、多層膜物質(zhì)等等
在現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中,薄膜有著廣泛的應(yīng)用。因此測量薄膜的技術(shù)也有了很大的發(fā)展,橢偏法就是70年代以來隨著電子計算機(jī)的廣泛應(yīng)用而發(fā)展起來的已有的測量薄膜的最精確的方法之一。橢偏法測量具有如下特點:
1.能測量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1-2個數(shù)量級。
2.是一種無損測量,不必特別制備樣品,也不損壞樣品,比其它精密方法:如稱重法、定量化學(xué)分析法簡便。
3.可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收系數(shù)。因此可以作為分析工具使用。
4.對一些表面結(jié)構(gòu)、表面過程和表面反應(yīng)相當(dāng)敏感。是研究表面物理的一種方法。
成像橢圓偏振技術(shù)正在引起其他學(xué)科如生物學(xué)和醫(yī)藥的研究人員越來越多的興趣。研究人員發(fā)現(xiàn)利用成像橢偏技術(shù)可以和成像表面等離子共振(SPR)聯(lián)用,可以實現(xiàn)生物芯片和生物傳感器的檢測。這些跨學(xué)科的研究領(lǐng)域給橢偏技術(shù)帶來了新的研究熱點的同時也給該技術(shù)帶來了挑戰(zhàn),例如在非穩(wěn)定液體表面的薄膜的測量和顯微成像等。
我們是按部門針對他們的主要職責(zé)下過程監(jiān)視和測量指標(biāo),未必是部門目標(biāo)。
測量過程分為一下幾個組成內(nèi)容:1.總則應(yīng)對作為測量管理體系組成部分的測量過程進(jìn)行策劃、確認(rèn)、實施、形成文件和加以控制。應(yīng)識別和考慮影響測量過程的影響量。每個測量過程的完整規(guī)范應(yīng)包括所有有關(guān)設(shè)備的標(biāo)識、...
一個完整的測量過程包含四個要素,它們是測量對象、計量單位、測量方法和測量精度。1.測量的客體即測量對象:主要指幾何量,包括長度、面積、形狀、高程、角度、表面粗糙度以及形位誤差等。由于幾何量的特點是種類...
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在進(jìn)行海籍測量中,需要用到多種不同的方法來進(jìn)行核對檢測結(jié)果,但是,不同的測量方法,均有不同的優(yōu)缺點,這一事實無法避免。那么什么樣的測量方法能夠更好的滿足檢測需求,且具有更好的可行性與實用性,本文針對于此進(jìn)行簡要的論述分析。
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測量管理體系 1. 測量管理體系測量過程和測量設(shè)備的要求(GB/T 19022—2003) 前言 本標(biāo)準(zhǔn)等同采用 ISO 10012:2003《測量管理體系 測量過程和測量設(shè)備的要求》。 本標(biāo)準(zhǔn)是 GB/T19000 族標(biāo)準(zhǔn)之一。標(biāo)準(zhǔn)中的“應(yīng)”( shall)表示要求,“應(yīng)當(dāng)”( shall)僅起指導(dǎo)作用。 本標(biāo)準(zhǔn)代替 GB/—1994 和 GB/—2000。 本標(biāo)誰與 GB/—1994 和 GB/—2000 的主要差異如下: ——明確測量管理體系在組織中的作用,與 GB/T19001 標(biāo)準(zhǔn)協(xié)調(diào)一致; ——明確滿足計量要求是測量管理體系的根本目的; ——體現(xiàn) GB/T19000 標(biāo)準(zhǔn)所述的質(zhì)量管理原則。 本標(biāo)準(zhǔn)未使用術(shù)語“檢定” 引言 一個有效的測量管理體系確保測量設(shè)備和測量過程適應(yīng)預(yù)期用途,它對實現(xiàn)產(chǎn)品質(zhì)量目標(biāo)和管理不正確測 量結(jié)果的風(fēng)險是重要的。測量管理體系的目標(biāo)是管理由于測量設(shè)備和
橢偏儀 全自動光譜橢偏儀 成像橢偏儀(成像橢圓偏振技術(shù))激光單波長橢偏儀……
■ 優(yōu)點:相對于光譜型橢偏儀,激光單波長橢偏儀比較簡單,由于不需要單色儀,四分之一玻片也可以根據(jù)波長固定,光學(xué)元件也可以針對特定波長進(jìn)行設(shè)計,所以價格相對便宜,同時測量精度較高。
■缺點:對多層膜分析能力不足,不如光譜型橢偏儀。
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半導(dǎo)體、介電材料、有機(jī)高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、自組裝單分子層、多層膜物質(zhì)和石墨烯等等