1、微波工作頻率:2450±50MHZ,微波輸出功率:0.5-5KW連續(xù)可調;功率穩(wěn)定度:優(yōu)于±1%;2、輸出波導接口:BJ-26帶FD-26標準法蘭;3、微波反應腔尺寸和工作模式:ф124×200(H),下注TM013模式;4、微波放電腔:多端口,帶雙層水冷;5、真空系統(tǒng):600L/min分子泵和旁路機組中氣壓真空測控;6、樣品支架系統(tǒng):基板直徑ф100mm;7、軸向調節(jié)距離:0-150mm。
1、金剛石等多種薄膜的化學汽相沉積的研究;2、基片的刻蝕和灰化;3、作為高密度、寬束離子源;4、低溫氧化物的生長;5、等離子體表面處理和其它實驗加工。
國內外企業(yè)利用低溫等離子體技術在環(huán)保方面開發(fā)出了“低溫等離子體有機廢氣凈化設備”、“低溫等離子體廢水凈化設備”及“低溫等離子體汽車尾氣凈化技術”。1、低溫等離子體在保鮮、殺菌、除臭等方面產品開發(fā),目前...
低溫等離子體物理與技術經歷了一個由60年代初的空間等離子體研究向80年代和90年代以材料為導向研究領域的大轉變,高速發(fā)展的微電子科學、環(huán)境科學、能源與材料科學等,為低溫等離子體科學發(fā)展帶來了新的機遇和...
等離子體聚合物在結構上與普通的聚合物顯著不同,它能形成含有活性基團的高度交聯的網絡結構,從而具有良好的均勻性及對基質的附著性[1,2].有關采用等離子體聚合膜的TSM傳感器的報道不多[3,4],本室已...
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等離子體電子工程(22)-電暈放電與高壓低溫等離子體
電容耦合微波等離子體(焰炬)capaciti}cly coupled trii- }rnwa}e plasma 波為輻射頻率, ( torch ) E-大于〕1f1MI-}z(一般為24}n:'v1H} )微 功率在數百瓦到數千瓦的一種電容藕合等離 子體光源。由磁控管產生微波,通過同軸波導管傳輸到一根 同軸電極上,在電極尖端生成等離子體(焰炬)。它可在大氣 壓下放電點燃二試樣霧化后隨載氣進人等離子體激發(fā)發(fā)光。
采用HT-CVD 技術生產的硬質涂層材料主要有:TiC、TiN、TiCN、Cr7C3、TiBN、Al2O3 等單涂層和它們的復合涂層材料。高溫化學氣相沉積工藝過程包括工件沉積前處理(工件清洗、強化處理等)、裝爐、檢漏、加熱升溫、沉積、冷卻、檢查和包裝等。
在整個沉積工藝過程中,要嚴格控制各加熱溫度和各種氣體流量。特別對CH4,TiCl4等反應氣體通人時間和流量,更需按工藝要求控制到位,否則對涂層質量會有很大影響。
沉積工藝舉例如下
TiC 涂層
沉積溫度:1000~1050℃
沉積室壓力: (1~2)×104Pa
沉積時間:60~ 180min
各反應氣體流量: 主H2 7000~ 12000SCCM;CH4 4000-~8000SCCM (SCCM 即cm3/min);TiCl: 加熱溫度45~65℃;載氣H2 4000~6000SCCM
TiN 涂層
沉積溫度: 950~1000℃
沉積室壓力: (1~2)X104Pa
沉積時間:60~ 180min
各反應氣體流量:主H2 8000~13000SCCM;N2 6000~ 10000SCCM;TiCl ;加熱溫度45~65℃;載氣H2 5000 9000SCCM2100433B
地面微波通信系統(tǒng)由視野范圍內的兩個互相對準方向的拋物面天線組成,能夠實現視野范圍內的微波通信。
地面微波通信系統(tǒng)主要作為計算機網絡的中繼鏈路,實現兩個或多個局域網的互連,擴大網絡的覆蓋范圍。例如,兩個相距較遠大樓中的局域網可以采用地面微波通信系統(tǒng)互相連通,實現數據通信。在某些情況下,這種遠程連接方式可能比有線遠程連接的費用要低廉一些。