中文名 | 無掩模直寫光刻系統(tǒng) | 產(chǎn)????地 | 英國(guó) |
---|---|---|---|
學(xué)科領(lǐng)域 | 機(jī)械工程 | 啟用日期 | 2015年12月22日 |
微納無掩膜加工。
1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直寫面積 3. 1微米對(duì)準(zhǔn)精度 4. 200nm自動(dòng)對(duì)焦精度。
使用中可能產(chǎn)生的問題及售后服務(wù)保證 (一).使用環(huán)境 雕刻機(jī)為高科技機(jī)電一體化設(shè)備,對(duì)工作環(huán)境有一定的要求。 1.避開強(qiáng)電、強(qiáng)磁等嚴(yán)重影響雕刻機(jī)信號(hào)傳輸?shù)脑O(shè)備。如:電焊機(jī)、發(fā)射塔等。 2.使用三芯電源...
蝕刻機(jī)可以分為化學(xué)蝕刻機(jī)及電解蝕刻機(jī)兩類。在化學(xué)蝕刻中是使用化學(xué)溶液,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)以達(dá)到蝕刻的目的,化學(xué)蝕刻機(jī)是將材料用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。光刻機(jī)(Mask Aligner)...
安裝Nero刻錄軟件,然后通過軟件查看刻錄機(jī)最大支持的容量就知道了
格式:pdf
大小:479KB
頁數(shù): 6頁
評(píng)分: 4.6
摻Tm3+光纖激光器在工業(yè)、醫(yī)療、科技及軍事領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。光纖布拉格光柵(FBG)是構(gòu)成光纖激光器的重要元件。但摻Tm3+光纖不具備光敏性,利用紫外脈沖激光很難在其中刻寫FBG,即使采用增敏技術(shù)提高其光敏性,獲得的FBG的折射率調(diào)制量也很小,尚不能滿足應(yīng)用要求,阻礙了摻Tm3+光纖激光器全光纖化的發(fā)展。以相位掩模法的基本原理為基礎(chǔ),從理論上分析了以飛秒激光為刻寫光源的技術(shù)要點(diǎn),總結(jié)出與傳統(tǒng)紫外激光刻寫技術(shù)之間的差異及需要注意的問題。建立了飛秒激光相位掩模法刻寫光纖光柵的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),利用飛秒激光相位掩模法在非光敏光纖上刻寫B(tài)ragg光柵,在非光敏摻Tm3+硅基光纖上獲得了衍射階次為二的光纖Bragg光柵,并給出了顯微鏡下觀察到的光柵結(jié)構(gòu)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明:飛秒激光可以將FBG刻寫入非光敏性硅基光纖,并且具有成柵時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)。
格式:pdf
大?。?span id="wrx6mqh" class="single-tag-height">479KB
頁數(shù): 2頁
評(píng)分: 4.6
玻璃銀光刻作為在玻璃上進(jìn)行的美術(shù)創(chuàng)作,呈現(xiàn)給世人的是一個(gè)銀光異彩的鏡畫世界。玻璃銀光刻最早出現(xiàn)于民國(guó)初期的上海。當(dāng)時(shí)上海市場(chǎng)的衣柜門上出現(xiàn)了一種既具觀賞性又有實(shí)用性的裝飾鏡,之后這種裝飾方法在全國(guó)各地流行開來。上世紀(jì)50年代,溫州玻璃銀光刻的第一代傳人邵思榮在上海學(xué)習(xí)并將該種制鏡的工藝技法帶回溫州,后傳授于其弟邵松。上世紀(jì)70年代,邵松又將該門制鏡技藝傳授給了溫州龍灣民間藝人項(xiàng)有禮。
在平面晶體管和集成電路的制造過程中,要進(jìn)行多次光刻。為此,必須制備一組具有特定幾何圖形的光刻掩模。制版的任務(wù)就是根據(jù)晶體管和集成電路參數(shù)所要求的幾何圖形,按照選定的方法,制備出生產(chǎn)上所要求的尺寸和精度的掩模圖案,并以一定的間距和布局,將圖案重復(fù)排列于掩?;?,進(jìn)而復(fù)制批量生產(chǎn)用版,供光刻工藝曝光之用。
小型臺(tái)式無掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3,通過激光直寫在光刻膠上直接曝光制作所需要的圖案,而無需掩膜版,專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦
Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。
直寫前預(yù)檢查
軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。
標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別
點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。
光學(xué)輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
簡(jiǎn)單的直寫軟件
MicroWriter ML3由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。
Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件
可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
書寫范圍只由基片尺寸決定