氧化鋅鋁磁控濺射靶材起草人

本標準主要起草人：楊曄、周山山、何偉、蘭品軍、朱永明、李翔、宋偉杰、李勇、馬通達、楊立紅、宋云娜、張鳳戈、夏黎海。

本標準由寧波市標準化研究院牽頭組織制定。 本標準主要起草單位：寧波森利電子材料有限公司。 本標準參與起草單位：寧波市標準化研究院、中國科學院寧波材料技術(shù)與工程研究所、國標（北京）認證有限公司、漢能裝備科技集團有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特種材料（太倉）有限公司（排名不分先后）。

本標準規(guī)定了氧化鋅鋁磁控濺射靶材的術(shù)語和定義、基本要求、技術(shù)要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存、質(zhì)量承諾等。

本標準適用于粉末冶金生產(chǎn)的用于磁控濺射沉積節(jié)能Low-E玻璃的功能介質(zhì)層以及薄膜太陽能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鋁磁控濺射靶材。

磁控手電筒具有體積小，結(jié)構(gòu)簡單、重量輕、耗電少、感應靈敏、抗腐蝕性好、壽命長、防水能力強，使用方便，價格便宜等諸多優(yōu)點。 如MCOBEAM CK11和MCOBEAM CK13，都是性能不錯的磁控手電筒。

基本介紹

項目編號Plan Name in Chinese 20110426-T-610

中文項目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application

制\修訂Plan Name in English 制定

被修訂標準號Replaced Standard

采用國際標準Adopted International Standard 無

采用國際標準號Adopted International Standard No

采用程度Application Degree

采標名稱Adopted International Standard Name

標準類別Plan Name in English 產(chǎn)品

國際標準分類號(ICS)

計劃完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年

完成時間Achievement Time

所處階段Plan Phase 起草階段

國家標準號Standard No.

備注Remark 國標委綜合[2011]57號

起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司

主管部門Governor 中國有色金屬工業(yè)協(xié)會

歸口單位Technical Committees 243 全國有色金屬標準化技術(shù)委員會