本標準規(guī)定了氧化鋅鋁磁控濺射靶材的術語和定義、基本要求、技術要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標志、包裝、運輸和貯存、質(zhì)量承諾等。
本標準適用于粉末冶金生產(chǎn)的用于磁控濺射沉積節(jié)能Low-E玻璃的功能介質(zhì)層以及薄膜太陽能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鋁磁控濺射靶材。
本標準由寧波市標準化研究院牽頭組織制定。 本標準主要起草單位:寧波森利電子材料有限公司。 本標準參與起草單位:寧波市標準化研究院、中國科學院寧波材料技術與工程研究所、國標(北京)認證有限公司、漢能裝備科技集團有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特種材料(太倉)有限公司(排名不分先后)。
本標準主要起草人:楊曄、周山山、何偉、蘭品軍、朱永明、李翔、宋偉杰、李勇、馬通達、楊立紅、宋云娜、張鳳戈、夏黎海。
如果有可能的話,最可能的是靶材利用率,磁控旋轉靶材一般在兩頭的位置,磁場形成回路,磁場最強,這樣,磁控濺射更多的自由電子,形成較強的自維持放電現(xiàn)象。相對應的,最容易濺射,濺射速率增強,所以濺射速度較其...
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異...
完全可以做平板電容的電極和介質(zhì),濺射鍍膜是很可控的薄膜,多以可以做高檔電容
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三、第一次工地會議監(jiān)理工作內(nèi)容概要: 總監(jiān)應充分利用好業(yè)主組織的第一次工地會議, 在參見各方初次碰頭 時,向各方介紹監(jiān)理工作的主要內(nèi)容、工作方法、手段及其監(jiān)理總監(jiān) 發(fā)言稿 一、質(zhì)量控制要求 1、施工技術交底制度 技術交底是承包商極為重要的一次技術管理工作, 其目的是使參 與建筑安裝工程施工技術人員與工人熟悉和了解所承擔工程項目的 特點、設計意圖、技術要求、施工工藝及應該注意的問題。鑒于建筑 安裝工程施工的復雜性、 連續(xù)性和多變性的固有特點, 承包商必須嚴 格貫徹技術交底責任制,加強施工質(zhì)量檢查、監(jiān)督和管理,以達到提 高施工質(zhì)量的目的。 建筑安裝工程從施工藍圖變成一個工程實體, 在 工程施工組織與管理工作中。 首先要使參與施工活動的每一個技術人 員明確在工程的特點、施工條件、施工組織、具體技術要求和有針 對性的關鍵技術措施,系統(tǒng)掌握工程施工過程全貌和施工的關鍵部 位,使工程質(zhì)量達到國家施工驗
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. 精選范本 (一)儲油階段施工情況 該階段從 2007年12月 5日第一支施工隊伍進場開始,至 2008 年5月30日投運儲油結束,共歷時 6個月,主要完成以下工作量: 1、罐體改造 罐體改造可分為兩個階段,第一階段為 2#、3#、5#罐施工階 段,第二階段為 1#、4#罐施工階段。在施工圖設計前期,按照油 田領導暫不改造 1#、4#罐的指示,只對 2#、3#、5#罐進行了施工 圖設計。項目部按照領導要求,抓好 2#、3#、5#儲罐的維修改造 工作,要求 3月底 2#、3#、5#儲罐維修全部完工, 并達到 2#、3#、 5#儲罐進出原油條件。然而,僅依靠 2#、3#、5#罐恢復后的儲油 能力,尚不能滿足集團公司下達的儲油任務, 12×104m3原油需由 柳屯油庫和采油廠共同儲存, 要求采油廠需對現(xiàn)有儲罐進行維修; 針對此情況, 2008年 2月份,經(jīng)油田有關部門現(xiàn)場調(diào)查論證,決 定在洛
磁控手電筒具有體積小,結構簡單、重量輕、耗電少、感應靈敏、抗腐蝕性好、壽命長、防水能力強,使用方便,價格便宜等諸多優(yōu)點。 如MCOBEAM CK11和MCOBEAM CK13,都是性能不錯的磁控手電筒。
基本介紹
項目編號Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文項目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
英文項目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修訂Plan Name in English 制定
被修訂標準號Replaced Standard
采用國際標準Adopted International Standard 無
采用國際標準號Adopted International Standard No
采用程度Application Degree
采標名稱Adopted International Standard Name
標準類別Plan Name in English 產(chǎn)品
國際標準分類號(ICS)
計劃完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成時間Achievement Time
所處階段Plan Phase 起草階段
國家標準號Standard No.
備注Remark 國標委綜合[2011]57號
起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司
主管部門Governor 中國有色金屬工業(yè)協(xié)會
歸口單位Technical Committees 243 全國有色金屬標準化技術委員會
鉬是一種金屬元素,主要用于鋼鐵工業(yè),其中的大部分是以工業(yè)氧化鉬壓塊后直接用于煉鋼或鑄鐵,少部分熔煉成鉬鐵,鉬箔片后再用于煉鋼。
它可增強合金的強度、硬度、可焊性及韌性,還可增強其耐高溫強度及耐腐蝕性能。
四豐靶材專家指出,鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜這種射膜廣泛用作電子部件和電子產(chǎn)品如目前廣泛應用的TFT-LCD(Thin Filmtransitor- Liquidcrystaldis- plays薄膜半導體管-液品顯示器)、等離子顯示屏、無機光發(fā)射二極管顯示器、場發(fā)射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導體裝置以及具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS[互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等。
鉬濺射靶材的應用
在電子行業(yè)中鉬濺射靶材主要用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導體的阻擋層材料。這些是基于鉬的高熔點、高電導率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能。
鉬具有比阻抗和膜應力僅為鉻的1/2的優(yōu)勢而且不存在環(huán)境污染問題因此成為了平面顯示器濺射靶材的首選材料之一。此外鋁使用在LCD的元器件中可使液晶顯示器在亮度、對比度、色彩以及壽命方面的性能大大提升。
平面顯示器行業(yè)中濺射靶材的主要市場應用之一是TLCD領域。市場研究表明未來幾年是LCD發(fā)展的高峰期年增長率達30%左右。隨著CD的發(fā)展LCD濺射靶材的消費量也快速增長年增長率約為20%。2006年全球鉬濺射靶材的需求量約700t,2007年則為900左右。
除平面顯示器行業(yè)外隨著新能源行業(yè)的發(fā)展鉬濺射靶在薄膜太陽能光伏電池上的應用也日益增加。鉬濺射靶材主要通過濺鍍形成CIGS(銅錮鎵西薄膜電池電極層。圖2是CGS太陽能電池的結構示意圖,其中Mo處于太陽能電池的最底層作為太陽能電池的背接觸其對CGS薄膜皛體的成核、生長、形貌有著非常重要的作用。
【總結】關于“鉬濺射靶材的應用”就為您講解到這里,對國內(nèi)的銀生產(chǎn)加工企業(yè)來說當務之急是抓住市場機遇提升工裝水平和科研技術水平制備出高質(zhì)量的鉬濺射靶材產(chǎn)品。若您對上述內(nèi)容還有疑問,或是相關了解產(chǎn)品相關及價格,歡迎點擊【在線詢價】服務,客服會在第一時間回復您。
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