一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法實施方式

一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法生產(chǎn)方法

參考圖1所示，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》提供一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，該生產(chǎn)方法包括：

a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)1的池爐中進行高溫熔融，得到熔融玻璃液；

b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)2的鉑金通道中進行凈化，得到凈化玻璃液；

c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)3的退火爐中進行固化，得到玻璃板；

d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)4的定型爐中進行切割，然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)5的運輸送入半包區(qū)6進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品；

其中，控制所述池爐區(qū)1操作環(huán)境壓力高于大氣壓4-6帕，控制所述鉑金區(qū)2操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述成型區(qū)3操作環(huán)境壓力高于大氣壓10.5-12.5帕，控制所述熱切區(qū)4操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述熱切外圍區(qū)5操作環(huán)境壓力高于大氣壓11-13帕，控制所述半包區(qū)6操作環(huán)境壓力高于大氣壓6-8帕。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，以所述玻璃基板原料總質(zhì)量為基準，所述玻璃基板原料可以包括56-64重量％的SiO₂、7-11重量％的B₂O₃、14-18重量％的Al₂O₃、0.01-10重量％的BaO、3-8重量％的CaO、0.5-8重量％的SrO、0-0.5重量％的ZnO、0-4重量％的MgO，0-0.5重量％的ZrO2和0.1-1重量％的澄清劑。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，所述池爐區(qū)1、鉑金區(qū)2、成型區(qū)3、熱切區(qū)4、熱切外圍區(qū)5和半包區(qū)6中可以各自獨立地設(shè)置有壓力傳感器、靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥；該生產(chǎn)方法還可以包括：通過壓力傳感器探測壓力并通過控制器控制靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，從而控制所述池爐區(qū)1、鉑金區(qū)2、成型區(qū)3、熱切區(qū)4、熱切外圍區(qū)5和半包區(qū)6的操作環(huán)境壓力。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，以ISO14644-1為標準，控制所述熱切區(qū)4操作環(huán)境和熱切外圍區(qū)5操作環(huán)境的潔凈等級可以為950-1050，控制所述半包區(qū)6操作環(huán)境的潔凈等級可以為4850-5150。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，控制所述池爐區(qū)1操作環(huán)境的溫度可以為29-31℃，控制所述鉑金區(qū)2操作環(huán)境的溫度可以為41-43℃，控制所述成型區(qū)3操作環(huán)境的溫度可以為25-27℃，控制所述熱切區(qū)4操作環(huán)境的溫度可以為24-26℃，控制所述熱切外圍區(qū)5操作環(huán)境的溫度可以為24-26℃，控制所述半包區(qū)6操作環(huán)境的溫度可以為24-26℃。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，控制所述鉑金區(qū)2操作環(huán)境的相對濕度可以為55-65％，控制所述熱切區(qū)4操作環(huán)境的相對濕度可以為45-55％，控制所述熱切外圍區(qū)5操作環(huán)境的相對濕度可以為45-55％，控制所述半包區(qū)6操作環(huán)境的相對濕度可以為45-55％。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，控制所述鉑金區(qū)2操作環(huán)境的露點溫度可以為31-33℃。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，可以通過調(diào)節(jié)各區(qū)域總的送風量和總的排風量來控制所述池爐區(qū)1、鉑金區(qū)2、成型區(qū)3、熱切區(qū)4、熱切外圍區(qū)5和半包區(qū)6的操作環(huán)境壓力。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，所述池爐中高溫熔融的溫度可以為1500-1600℃，所述退火爐中進行固化的溫度可以為100-200℃，所述定型爐出口進行切割的溫度可以為100-160℃。

根據(jù)《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，所述鉑金通道中的溫度可以為1200-1600℃。

以上結(jié)合附圖詳細描述了《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的優(yōu)選實施方式，但是，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的技術(shù)方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》對各種可能的組合方式不再另行說明。

此外，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的各種不同的實施方式之間也可以進行任意組合，只要其不違背《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的思想，其同樣應(yīng)當視為《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》所公開的內(nèi)容。

下面將通過實施例來進一步說明《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》，但是，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》并不因此而受到任何限制 。

一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法案例

• 實施例1

（1）按照以下重量百分比準備玻璃基板原料：56重量％的SiO2、7重量％的B₂O₃、14重量％的Al₂O₃、0.01重量％的BaO、3重量％的CaO、0.5重量％的SrO和0.1重量％的澄清劑SnO₂；

（2）在池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）中各自獨立地設(shè)置壓力傳感器、靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，通過壓力傳感器探測壓力并通過控制器控制靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，或者通過調(diào)節(jié)各區(qū)域總的送風量和總的排風量來控制所述池爐區(qū)（1）操作環(huán)境壓力高于大氣壓4帕、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境壓力高于大氣壓14帕、成型區(qū)（3）操作環(huán)境壓力高于大氣壓10.5帕、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境壓力高于大氣壓14帕、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境壓力高于大氣壓11帕、半包區(qū)（6）操作環(huán)境壓力高于大氣壓6帕；以ISO14644-1為標準，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境和熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的潔凈等級為950、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的潔凈等級為4850；控制池爐區(qū)（1）操作環(huán)境的溫度為29℃、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的溫度為41℃、成型區(qū)（3）操作環(huán)境的溫度為25℃、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的溫度為24℃、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的溫度為24℃、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的溫度為24℃，控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的露點溫度為31℃；控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的相對濕度為55％、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的相對濕度為45％、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的相對濕度為45％、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的相對濕度為45％；

（3）保持各工作區(qū)生產(chǎn)環(huán)境條件如（2）中控制下，a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)（1）的池爐中進行1500℃的高溫熔融，得到熔融玻璃液；b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)（2）的鉑金通道中進行1200℃的凈化，得到凈化玻璃液；c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)（3）的退火爐后溫度逐漸降低至100-150℃進而固化，得到玻璃板；d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)（4）的定型爐中進行切割，控制定型爐出口的切割溫度為100℃；然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)（5）的運輸送入半包區(qū)（6）進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品1 。

• 實施例2

（1）按照以下重量百分比準備玻璃基板原料：64重量％的SiO₂、11重量％的B₂O₃、18重量％的Al₂O₃、10重量％的BaO、8重量％的CaO、8重量％的SrO、0.5重量％的ZnO、4重量％的MgO，0.5重量％的ZrO₂和1重量％的澄清劑SnO₂；

（2）在池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）中各自獨立地設(shè)置壓力傳感器、靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，通過壓力傳感器探測壓力并通過控制器控制靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，同時結(jié)合調(diào)節(jié)區(qū)域總的送風量和排風量控制所述池爐區(qū)（1）操作環(huán)境壓力高于大氣壓6帕、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境壓力高于大氣壓16帕、成型區(qū)（3）操作環(huán)境壓力高于大氣壓12.5帕、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境壓力高于大氣壓16帕、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境壓力高于大氣壓13帕、半包區(qū)（6）操作環(huán)境壓力高于大氣壓8帕；以ISO14644-1為標準，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境和熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的潔凈等級為1050、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的潔凈等級為5150；控制池爐區(qū)（1）操作環(huán)境的溫度為31℃、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的溫度為43℃、成型區(qū)（3）操作環(huán)境的溫度為27℃、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的溫度為26℃、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的溫度為26℃、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的溫度為26℃，控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的露點溫度為33℃；控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的相對濕度為65％、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的相對濕度為55％、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的相對濕度為55％、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的相對濕度為55％；

（3）保持（2）中各工作區(qū)生產(chǎn)環(huán)境條件控制下，a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)（1）的池爐中進行1600℃的高溫熔融，得到熔融玻璃液；b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)（2）的鉑金通道中進行1600℃的凈化，得到凈化玻璃液；c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)（3）的退火爐后溫度逐漸降低至150-200℃進而固化，得到玻璃板；d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)（4）的定型爐中進行切割，控制定型爐出口的切割溫度為160℃；然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)（5）的運輸送入半包區(qū)（6）進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品2 。

• 實施例3

（1）按照以下重量百分比準備玻璃基板原料：60重量％的SiO2、9重量％的B2O3、16重量％的Al₂O₃、5重量％的BaO、5重量％的CaO、4重量％的SrO、0.25重量％的ZnO、2重量％的MgO，0.25重量％的ZrO₂和0.5重量％的澄清劑SnO₂；

（2）在池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）中各自獨立地設(shè)置壓力傳感器、靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，通過壓力傳感器探測壓力并通過控制器控制靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，或者通過調(diào)節(jié)總的送風量和總的排風量控控制所述池爐區(qū)（1）操作環(huán)境壓力高于大氣壓5帕、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境壓力高于大氣壓15帕、成型區(qū)（3）操作環(huán)境壓力高于大氣壓11.5帕、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境壓力高于大氣壓15帕、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境壓力高于大氣壓12帕、半包區(qū)（6）操作環(huán)境壓力高于大氣壓7帕；以ISO14644-1為標準，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境和熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的潔凈等級為1000、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的潔凈等級為5000；控制池爐區(qū)（1）操作環(huán)境的溫度為30℃、鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的溫度為42℃、成型區(qū)（3）操作環(huán)境的溫度為26℃、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的溫度為25℃、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的溫度為25℃、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的溫度為25℃，控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的露點溫度為32℃；控制鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的相對濕度為60％、熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的相對濕度為50％、熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的相對濕度為50％、半包區(qū)（6）操作環(huán)境的相對濕度為50％；

（3）保持（2）中各工作區(qū)生產(chǎn)環(huán)境條件控制下，a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)（1）的池爐中進行1550℃的高溫熔融，得到熔融玻璃液；b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)（2）的鉑金通道中進行1400℃的凈化，得到凈化玻璃液；c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)（3）的退火爐后溫度逐漸降低至100-200℃進而固化，得到玻璃板；d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)（4）的定型爐中進行切割，控制定型爐出口的切割溫度為130℃；然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)（5）的運輸送入半包區(qū)（6）進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品3 。

• 對比例1

按照實施例1的方法生產(chǎn)液晶玻璃基板，改變?nèi)缦碌目刂茥l件：池爐區(qū)操作環(huán)境的溫度24.17℃，熱切區(qū)操作環(huán)境的溫度為33.9℃，熱切區(qū)操作環(huán)境的相對濕度為37.8％，熱切區(qū)操作環(huán)境壓力高于成型區(qū)操作環(huán)境壓力0.2帕 。

• 對比例2

按照實施例2的方法生產(chǎn)液晶玻璃基板，改變?nèi)缦碌目刂茥l件：鉑金區(qū)操作環(huán)境溫度42℃，熱切區(qū)操作環(huán)境壓力高于成型區(qū)操作環(huán)境壓力0.9帕，熱切區(qū)操作環(huán)境溫度為34.2℃，熱切區(qū)操作環(huán)境的相對濕度為28.2％。

對實施例1-3及對比例1-2生產(chǎn)液晶玻璃基板的條紋級別、流量、玻璃應(yīng)力、玻璃粉塵級別、玻璃厚度波動、翹曲波動（上端；下端）、垂度的檢測值見表1。

表1：實施例1-3及對比例1-2的玻璃基板數(shù)值檢測表

由表1可以看出，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的液晶玻璃基板生產(chǎn)方法能夠保證液晶玻璃的正常、連續(xù)生產(chǎn)，生產(chǎn)出的液晶玻璃基板具有非常好的品質(zhì)。

以上描述了《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的優(yōu)選實施方式，但是，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》并不限于上述實施方式中的具體細節(jié)，在《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的技術(shù)方案進行多種簡單變型，這些簡單變型均屬于《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的保護范圍。

另外需要說明的是，在上述具體實施方式中所描述的各個具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過任何合適的方式進行組合，為了避免不必要的重復，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》對各種可能的組合方式不再另行說明 。

1.一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，該生產(chǎn)方法包括：a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)（1）的池爐中進行高溫熔融，得到熔融玻璃液；b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)（2）的鉑金通道中進行凈化，得到凈化玻璃液；c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)（3）的退火爐中進行固化，得到玻璃板；d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)（4）的定型爐中進行切割，然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)（5）的運輸送入半包區(qū)（6）進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品；其特征在于，控制所述池爐區(qū)（1）操作環(huán)境壓力高于大氣壓4-6帕，控制所述鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述成型區(qū)（3）操作環(huán)境壓力高于大氣壓10.5-12.5帕，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境壓力高于大氣壓11-13帕，控制所述半包區(qū)（6）操作環(huán)境壓力高于大氣壓6-8帕；以ISO14644-1為標準，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境和熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的潔凈等級為950-1050，控制所述半包區(qū)（6）操作環(huán)境的潔凈等級為4850-5150；控制所述池爐區(qū)（1）操作環(huán)境的溫度為29-31℃，控制所述鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的溫度為41-43℃，控制所述成型區(qū)（3）操作環(huán)境的溫度為25-27℃，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的溫度為24-26℃，控制所述熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的溫度為24-26℃，控制所述半包區(qū)（6）操作環(huán)境的溫度為24-26℃；控制所述鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的相對濕度為55-65％，控制所述熱切區(qū)（4）操作環(huán)境的相對濕度為45-55％，控制所述熱切外圍區(qū)（5）操作環(huán)境的相對濕度為45-55％，控制所述半包區(qū)（6）操作環(huán)境的相對濕度為45-55％；控制所述鉑金區(qū)（2）操作環(huán)境的露點溫度為31-33℃。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，其特征在于，以所述玻璃基板原料總質(zhì)量為基準，所述玻璃基板原料包括56-64重量％的SiO₂、7-11重量％的B₂O₃、14-18重量％的Al₂O₃、0.01-10重量％的BaO、3-8重量％的CaO、0.5-8重量％的SrO、0-0.5重量％的ZnO、0-4重量％的MgO、0-0.5重量％的ZrO₂和0.1-1重量％的澄清劑。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，其特征在于，所述池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）中各自獨立地設(shè)置有壓力傳感器、靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥；該生產(chǎn)方法還包括：通過壓力傳感器探測壓力并通過控制器控制靜壓箱、排風機或調(diào)節(jié)式風閥，從而控制所述池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）的操作環(huán)境壓力。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，其特征在于，通過調(diào)節(jié)各區(qū)域的總的送風量和總的排風量控制所述池爐區(qū)（1）、鉑金區(qū)（2）、成型區(qū)（3）、熱切區(qū)（4）、熱切外圍區(qū)（5）和半包區(qū)（6）的操作環(huán)境壓力。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，其特征在于，所述池爐中高溫熔融的溫度為1500-1600℃，所述退火爐中進行固化的溫度為100-200℃，所述定型爐出口進行切割的溫度為100-160℃。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，其特征在于，所述鉑金通道中的溫度為1200-1600℃ 。

《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》涉及液晶玻璃生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法 。

圖1是應(yīng)用《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的制備方法的液晶玻璃基板生產(chǎn)中各工作區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記說明：1池爐區(qū)，2鉑金區(qū)，3成型區(qū)，4熱切區(qū)，5熱切外圍區(qū)，6半包區(qū) 。

一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法專利目的

《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的發(fā)明目的是降低液晶玻璃基板生產(chǎn)殘次品率，提高玻璃基板品質(zhì)和生產(chǎn)效率 。

一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法技術(shù)方案

《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》提供了一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法，該生產(chǎn)方法包括：

a、將玻璃基板原料混合后送入池爐區(qū)的池爐中進行高溫熔融，得到熔融玻璃液；

b、將步驟a所得熔融玻璃液送入鉑金區(qū)的鉑金通道中進行凈化，得到凈化玻璃液；

c、將步驟b所得凈化玻璃液送入成型區(qū)的退火爐中進行固化，得到玻璃板；

d、將步驟c所得玻璃板送入熱切區(qū)的定型爐中進行切割，然后經(jīng)過熱切外圍區(qū)的運輸送入半包區(qū)進行檢查后完成液晶玻璃基板的包裝，得到液晶玻璃基板半成品；

其中，控制所述池爐區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓4-6帕，控制所述鉑金區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述成型區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓10.5-12.5帕，控制所述熱切區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓14-16帕，控制所述熱切外圍區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓11-13帕，控制所述半包區(qū)操作環(huán)境壓力高于大氣壓6-8帕 。

一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法改善效果

《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》中液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法能夠很好地控制各個工作區(qū)域的相對壓差、濕度、潔凈度、風量和流速等；為池爐、通道、成型、熱切和檢驗工序等同時提供穩(wěn)定的工作環(huán)境，進而保證液晶玻璃的正常、連續(xù)生產(chǎn)；《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》的生產(chǎn)方法得到的液晶玻璃基板成品率高、品質(zhì)高且生產(chǎn)效率高 。

截至2016年6月2日，液晶玻璃基板是液晶玻璃的重要組件，在商業(yè)上應(yīng)用的玻璃基板，其主要厚度為0.7毫米及0.5毫米，且即將發(fā)展為更?。ㄈ?.4毫米）的厚度?；旧希黄琓FT-LCD面板需使用到二片玻璃基板，分別供作底層玻璃基板及彩色濾光片的底板使用。LCD所用玻璃基板概可分為堿玻璃及無堿玻璃兩大類；堿玻璃包括鈉玻璃及中性硅酸硼玻璃兩種，多應(yīng)用于TN及STNLCD上，主要生產(chǎn)廠商有日本板硝子（NHT）、旭硝子（Asahi）及中央硝子（CentralGlass）等，以浮式法制程生產(chǎn)為主；無堿玻璃則以無堿硅酸鋁玻璃（AluminoSilicateGlass，主成分為SiO₂、Al₂O₃、B₂O₃及BaO等）為主，其堿金屬總含量在1％以下，主要用于TFT-LCD上，領(lǐng)導廠商為美國康寧（Corning）公司，以溢流熔融法制程生產(chǎn)為主。能夠提供大尺寸上影液晶屏幕玻璃基板的廠商只有美國康寧、日本旭硝子等四家，其中美國康寧占據(jù)51％的市場，日本旭硝子占據(jù)28％的份額，而能夠為5代以上生產(chǎn)線提供配套的也只有這兩家，雖然玻璃基板只占據(jù)TFT-LCD產(chǎn)品成本的6％-7％，但技術(shù)上的寡頭壟斷讓玻璃基板產(chǎn)品成為TFT-LCD上游材料占據(jù)主導的零配產(chǎn)品。中國國內(nèi)的彩虹、東旭等也能生產(chǎn)TFT-LCD玻璃。

超薄平板玻璃基材的特性主要取決于玻璃的組成，而玻璃的組成則影響玻璃的熱膨脹、黏度（應(yīng)變、退火、轉(zhuǎn)化、軟化和工作點）、耐化學性、光學穿透吸收及在各種頻率與溫度下的電氣特性，產(chǎn)品質(zhì)量除深受材料組成影響外，也取決于生產(chǎn)方法。

玻璃基板在TN/STN、TFT-LCD應(yīng)用上，要求的特性有表面特性﹑耐熱性﹑耐藥品性及堿金屬含量等；影響TFT-LCD用玻璃基板之主要物理特性包括：張力點、比重、熱膨脹系數(shù)、熔點、軟化點、耐化學性、機械強度、光學性質(zhì)及電氣特性等。

但是，在2016年的液晶玻璃基板生產(chǎn)中，還存在著殘次品率較高，玻璃基板的品質(zhì)較差和生產(chǎn)效率較低的缺陷 。

2020年7月14日，《一種液晶玻璃基板的生產(chǎn)方法》獲得第二十一屆中國專利金獎 。2100433B

一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法專利目的

《一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法》提供一種啞光效果拋釉磚的生產(chǎn)方法，通過此方法，制備出來的拋釉磚產(chǎn)品具有啞光效果，而且沒有劃痕，耐污效果好。

一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法技術(shù)方案

《一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法》包括如下工序：原料球磨除鐵；噴霧造粒；布料成型；干燥；施底釉；印花裝飾；施面釉；燒成；拋光；磨邊；其特征在于，在上述拋光工序包括如下步驟：

步驟1）使用彈性磨塊作為拋光磨具拋光；其中所述彈性磨塊的拋光介質(zhì)為使用樹脂粘結(jié)的磨料，所述磨料的細度為100-320目；

步驟2）使用研磨擦作為拋光磨具拋光；其中所述研磨擦上設(shè)有用于拋磨的刷毛，所述刷毛是由硬質(zhì)塑料和磨料構(gòu)成，所述磨料的細度為150-400目；

步驟3）使用拋光片作為拋光磨具拋光，其中所述拋光片的拋光介質(zhì)為與纖維結(jié)合的磨料，所述磨料的細度為200-600目。

優(yōu)選地，在以上方法中，所述磨料為碳化硅、金剛砂和氧化鎂中的一種或多種組合。以上三種磨料具有很高的硬度，具有良好的拋磨效果。

優(yōu)選地，在以上方法中，所述刷毛的截面直徑為0.5-2毫米。進一步優(yōu)選為0.75-1.2毫米，這樣細度可以較好的修復磚面的劃痕。

優(yōu)選地，在以上方法中，所述樹脂優(yōu)選為高溫樹脂，例如高溫環(huán)氧樹脂或其類似物。高溫樹脂能夠保證在拋磨時的對磨料的粘結(jié)強度。

優(yōu)選地，在以上方法中，步驟1）中磨料細度為100-240目；步驟2）中磨料細度為150-240目；步驟3）中磨料細度為240-320目。通過以上組合，可以使拋光后磚面的光澤度為15-35°，實現(xiàn)直入光的漫反射，對空間光環(huán)境進行調(diào)節(jié)，有助于營造自然、舒適的空間感覺。

進一步優(yōu)選地，在以上方法中，步驟1）中磨料細度為180-320目；步驟2）中磨料細度為320-400目；步驟3）中磨料細度為320-600目。通過以上組合，可以使拋光后磚面的光澤度為40-50°；在此效果下，除了裝飾效果達到最佳外，磚面的耐污性能也最好。

優(yōu)選地，在以上方法中，在磨邊工序后，還包括防污處理工序。

進一步優(yōu)選，在上述方法中，所述防污處理工序包括如下步驟：

步驟1）使用打蠟機涂上防污蠟；

步驟2）經(jīng)過100-200℃干燥。

其中防污蠟的主要成分包括聚乙烯、珠光粉、石蠟。防污蠟屬于陶瓷產(chǎn)品常用防護劑，可以在市面購買獲得。

一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法改善效果

《一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法》提供的方法，通過使用研磨擦和拋光片處理，能夠?qū)⒋u面在前段拋光工序中產(chǎn)生劃痕很好的去除，從而獲得具有良好耐污效果的啞光拋釉磚產(chǎn)品。

2018年12月20日，《一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法》獲得第二十屆中國專利優(yōu)秀獎。

《一種啞光效果的拋釉磚的生產(chǎn)方法》屬于一種陶瓷建材技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種啞光效果的拋釉磚制備方法。