適用于配熱電偶或熱電阻以測量溫度,以及以直流電壓、電流和電阻作為模擬點信號輸入,反映其他物理?;瘜W(xué)量的工業(yè)過程測量記錄儀的首次檢定、后續(xù)鑒定和使用中檢定。工業(yè)過程測量記錄儀(以下簡稱儀表)包或自動電位差計、自動平衡電橋、函數(shù)記錄以及數(shù)值模擬指示相結(jié)合的混合式記錄儀、無紙記錄儀。
書名 | JJG74-2005工業(yè)過程測量記錄儀 | 出版社 | 中國計量出版社 |
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語種 | 簡體中文 | 品牌 | 中國計量出版社 |
作者 | 中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會 | 出版日期 | 2005年2月17日 |
開本 | 16 |
適用于配熱電偶或熱電阻以測量溫度,以及以直流電壓、電流和電阻作為模擬點信號輸入,反映其他物理?;瘜W(xué)量的工業(yè)過程測量記錄儀的首次檢定、后續(xù)鑒定和使用中檢定。工業(yè)過程測量記錄儀(以下簡稱儀表)包或自動電位差計、自動平衡電橋、函數(shù)記錄以及數(shù)值模擬指示相結(jié)合的混合式記錄儀、無紙記錄儀。
測點就是設(shè)置的觀測點,可能是某一個樁號,但絕不是所有的樁號。 怎樣填寫,記錄表很詳細(xì),仔細(xì)看看就行。
四等水準(zhǔn)測量記錄 日 期: 年 月 日 午; 班 組; 觀測者:...
如已知A點高程是1.243m,求B 點高程,架設(shè)水準(zhǔn)儀在AB兩點之間,立尺在A點叫后視,假設(shè)讀數(shù)是0.832,再立尺在B點讀數(shù)為1.202,這個叫前視讀數(shù),那么B=A+后視-前視=1.243+0.83...
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評分: 4.4
點號 距離 后視 視線高 間視 前視 高程 備注 觀測: 記錄: 校核: 普通水準(zhǔn)測量記錄表 測區(qū): 儀器: 天氣: 日期: 年 月 日
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評分: 4.5
測量記錄表 工程名稱: 備注 序號 日期 測站點坐標(biāo) 后視點坐標(biāo) 放樣點( )坐標(biāo) 放樣點( )坐標(biāo) 放樣點( )坐標(biāo) 放樣點( )坐標(biāo) 1 X Y 2 X Y 3 X Y 4 X Y 5 X Y 示 意 圖 測量記錄人員
過程測量與“成品測量”相對。一種偏重于操作過程的技能測定。在學(xué)生的職業(yè)技能訓(xùn)練中常采用。注重學(xué)生操作的質(zhì)量及效率,如操作程序、工作態(tài)度及速度等,以提供豐富的診斷性資料,有助于改善教學(xué)。方法主要是觀察,即由教師觀察學(xué)生的操作過程。
全國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會SAC/TC124(以下簡稱標(biāo)委會)直屬中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會,由全國工業(yè)自動化領(lǐng)域中的各單位選舉產(chǎn)生,是國際電工委員會IEC/TC65和ISO/TC30的國內(nèi)對口單位。標(biāo)委會的運作受中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會領(lǐng)導(dǎo),并接受中國機械工業(yè)聯(lián)合會及國家各有關(guān)部門的業(yè)務(wù)指導(dǎo),在工業(yè)過程測量和控制領(lǐng)域內(nèi)開展全國性標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)工作。
標(biāo)委會的工作范圍是工業(yè)過程測量和控制領(lǐng)域,在國際上直接對口IEC/TC65“工業(yè)過程測量和控制”和ISO/TC30“封閉管道中流體流量的測量”。其主要工作包括:制定工業(yè)過程測量和控制用通信網(wǎng)絡(luò)協(xié)議標(biāo)準(zhǔn),各類儀器儀表、執(zhí)行機構(gòu)、控制設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)和安全標(biāo)準(zhǔn)。
標(biāo)委會目前下設(shè)6個分委會,分別是SC1“溫度、物位、機械量儀表及結(jié)構(gòu)裝置分委會”,SC2“控制儀表及裝置、工業(yè)控制計算機系統(tǒng)分委會”,SC3“壓力儀表分委會”,SC4“工業(yè)通信(現(xiàn)場總線)及系統(tǒng)分委會”,SC5“可編程序控制器及系統(tǒng)分委會”和SC6“分析儀器及分析技術(shù)分委會”。標(biāo)委會現(xiàn)有委員近300人,分布在全國各有關(guān)行業(yè)。
在橢偏測量過程中,有兩個橢偏參數(shù)非常關(guān)鍵。(標(biāo)準(zhǔn))橢圓偏振測量四個史托克參數(shù)(Stokes parameters)中的兩個,通常以Δ及Φ來表示。TanΦ為反射后之振幅比,Δ為相位移(相差)。由于橢圓偏振系測量兩項之比值(或差異)而非其絕對數(shù)值,因此這技術(shù)所得的數(shù)據(jù)是相當(dāng)正確且可再現(xiàn)的,其對散射及擾動等因素較不敏感,且不需要標(biāo)準(zhǔn)樣品或參考樣品。
橢圓偏振為間接量測的技術(shù),也就是說,一般測得的Δ及Φ并不能直接轉(zhuǎn)換為樣品的光學(xué)常數(shù),通常需要建構(gòu)模型來進(jìn)行分析。只有對于無限厚(約厘米等級)、各向同性且均勻的膜,才可能直接轉(zhuǎn)換得到其Δ及Φ之?dāng)?shù)值。在所有其他的情形下,則必需建構(gòu)其層狀模型,并考慮所有各層之各別的光學(xué)常數(shù)如(折射率或介電常數(shù))及厚度,且依正確的層畳順序建立。再借由多次最小方差法最適化,變動未知的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度參數(shù),以之代入菲涅耳方程計算求得其對應(yīng)Δ及Φ數(shù)值。最后,所得最接近實驗數(shù)據(jù)之Δ及Φ數(shù)值,其參數(shù)來源的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度可視為此量測之最適化結(jié)果。
橢偏測量可取得薄膜的介電性質(zhì)(復(fù)數(shù)折射率或介電常數(shù))。它已被應(yīng)用在許多不同的領(lǐng)域,從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應(yīng)用,如半導(dǎo)體物理研究、微電子學(xué)和生物學(xué)。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質(zhì)測量技術(shù),且具有非破壞性和非接觸之優(yōu)點。
分析自樣品反射之偏振光的改變,橢圓偏振技術(shù)可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊,小至一個單原子層,甚至更小。橢圓儀可測得復(fù)數(shù)折射率或介電函數(shù)張量,可以此獲得基本的物理參數(shù),并且這與各種樣品的性質(zhì),包括形態(tài)、晶體質(zhì)量、化學(xué)成分或?qū)щ娦裕兴P(guān)聯(lián)。它常被用來鑒定單層或多層堆棧的薄膜厚度,可量測厚度由數(shù)埃(Angstrom)或數(shù)納米到幾微米皆有極佳的準(zhǔn)確性。
半導(dǎo)體物理、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、表界面科學(xué)研究、物理、化學(xué)、生物、醫(yī)藥、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、各種液體薄膜、自組裝單分子層、多層膜物質(zhì)等等