外文名 | Monolithic Microwave Integrated Circuit | 簡(jiǎn)????稱 | MMIC |
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構(gòu)????成 | 低噪聲放大器、功率放大器 | 特????點(diǎn) | 電路損耗小、噪聲低、頻帶寬 |
1. GaAs、InP大直徑單晶和高性能HEMT、PHEMT、InP HEMT中材料制備。
2. 深亞微米精細(xì)結(jié)構(gòu)制備
3. CAD和CAT技術(shù)
4. 封裝技術(shù)
自1974年,美國(guó)的Plessey公司用GaAs FET作為有源器件,GaAs半絕緣襯底作為載體,研制成功世界上第一塊MMIC放大器以來(lái),在軍事應(yīng)用(包括智能武器、雷達(dá)、通信和電子戰(zhàn)等方面)的推動(dòng)下,MMIC的發(fā)展十分迅速。80年代,隨著分子束外延、金屬有機(jī)物化學(xué)汽相淀積技術(shù)(MOCVD)和深亞微米加工技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步,MMIC發(fā)展迅速。1980年由Thomson-CSF和Fujitsu兩公司實(shí)驗(yàn)室研制出高電子遷移率晶體管(HEMT),在材料結(jié)構(gòu)上得到了不斷的突破和創(chuàng)新。1985年Maselink用性能更好的InGaAs溝道制成的贗配HEMT(PHEMT),使HEMT向更調(diào)頻率更低噪聲方向發(fā)展。繼HEMT之后,1984年用GaAlAs/GaAs異質(zhì)結(jié)取代硅雙極晶體管中的P-N結(jié),研制成功了頻率特性和速度特性更優(yōu)異的異質(zhì)結(jié)雙極晶體管(HBT)和HBT MMIC。由于InP材料具有高飽和電子遷移率、高擊穿電場(chǎng)、良好的熱導(dǎo)率、InP基的晶格匹配HEMT,其性能比GaAs基更為優(yōu)越,隨著InP單晶的制備取得進(jìn)展,InP基的HEMT、PHEMT、MMIC性能也得到很大的提高?!?微波單片集成電路具有電路損耗小、噪聲低、頻帶寬、動(dòng)態(tài)范圍大、功率大、附加效率高等一系列優(yōu)點(diǎn),并可縮小的電子設(shè)備體積、重量減輕、價(jià)格也降低不少,這對(duì)軍用電子裝備和民用電子產(chǎn)品都十分重要。美國(guó)、日本、西歐都把MMIC作為國(guó)家發(fā)展戰(zhàn)略的核心,競(jìng)相投入大量的人力、物力,展開(kāi)激烈的競(jìng)爭(zhēng)?!?80年代中期以前的MMIC,頻率一般在40GHz以下,器件是采用柵長(zhǎng)為0.5mm左右的GaAs 金屬半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MESFET)。在低噪聲MMIC領(lǐng)域的先進(jìn)水平都被HEMT、PHEMT和飛速發(fā)展的InP HEMT所取代,InP基HEMT的最佳性能是fT為340GHz,fmax為600GHz。低噪聲MMIC放大器的典型水平為29~34GHz下,2級(jí)LNA噪聲為1.7dB,增益為17dB;92~96GHz,3級(jí)LNA噪聲為3.3dB,增益為20dB;153~155GHz,3級(jí)低LNA增益為12dB。 美國(guó)TRW公司已研制成功MMIC功率放大器芯片,Ka波段輸出功率為3.5W,相關(guān)功率增益11.5dB,功率附加效率為20%,60GHz的MMIC輸出功率為300mW,效率22%,94GHz采用0.1mm AlGaAs/InGaAs/GaAs T型柵功率二級(jí)MMIC,最大輸出功率300mW,最高功率附加效率為10.5%?!?HP公司研制了6~20GHz單片行波功率放大器,帶內(nèi)最小增益為11dB,帶內(nèi)不平坦度為±0.5dB,20GHz處1dB壓縮點(diǎn)輸出功率達(dá)24dB。Raythem. Samvng及Motorola聯(lián)合開(kāi)發(fā)的X-Ku波段,MMIC單片輸出功率達(dá)3.5W,最大功率附加效率為49.5%?!?西屋公司研制成功直流-16GHz,6位數(shù)字衰減器MMIC,16GHz插損小于5dB?!?日本三菱電器公司研制的大功率多柵條AlGaAs/GaAs HBT,在12GHz下功率附加效率為72%;NEC公司開(kāi)發(fā)的26GHz AlGaAs/GaAs大功率HBT器件達(dá)到了目前最高輸出功率(740mW)和功率附加效率(42%)。
MMIC發(fā)展中的里程碑
日期 |
器件 |
頻帶 |
襯底 |
器件基礎(chǔ) |
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Si |
GaAs |
InP |
FET |
HEMT |
HBT |
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1965 |
PIN switch |
X |
· |
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1968 |
Mixer/Oscillator |
V |
· |
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1974 |
Low-power amplifier |
X |
· |
· |
||||
1978-79 |
Power amplifier |
X |
· |
· |
||||
Low-power amplifier |
K |
· |
· |
|||||
1980 |
Switches |
X |
· |
· |
||||
1981 |
Traveling-wave amplifier |
X |
· |
· |
||||
T/R module(multi-chip) |
X |
· |
· |
|||||
1982 |
Phase shifter |
X |
· |
· |
||||
1984 |
T/R module(single chip) |
X |
· |
· |
||||
DBS receiver |
X |
· |
· |
|||||
1986 |
Power amplifier |
Q |
· |
· |
||||
1987 |
Multi-octave switch |
DC-Q |
· |
· |
||||
1988 |
Low-noise amplifier |
V |
· |
· |
||||
1989 |
Power amplifier |
X |
· |
· |
||||
Power amplifiers |
X, I-J |
· |
· |
|||||
1990 |
Multi-octave TWA |
5-100GHz |
· |
· |
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1992 |
LNA/power amplifier |
W |
· |
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1994 |
Power amplifiers |
I-J |
· |
· |
||||
2000 |
Low-noise receiver |
183GHz |
· |
· |
單片微波集成電路(與混合微波集成電路相比),有如下優(yōu)點(diǎn)與不足
MMIC |
HMIC |
數(shù)量大而便宜,對(duì)復(fù)雜電路尤為經(jīng)濟(jì) 在生產(chǎn)性強(qiáng) 芯片小而輕巧 可靠性高 較小的寄生參數(shù)影響、大帶寬和高工作頻率 電路面積是成本,電路必須做到盡可能地小型化 可選元器件非常有限 生產(chǎn)制造時(shí)間較長(zhǎng),一般為三個(gè)月 初始投資成本費(fèi)用非常昂貴 |
簡(jiǎn)單電路較為便宜;可進(jìn)行自動(dòng)化封裝 由于元器件位置及封裝連接線導(dǎo)致重復(fù)生產(chǎn)性能差 在多層基片中嵌入無(wú)源器件的電路不但可行,而且可以做到小而輕 大多數(shù)混合集成電路的元器件是黏合在一起的,所以可靠性較差 目前有適用于LNA和PA的最好晶體管 基片便宜,可以大量使用微帶傳輸線 有大量的可供選擇的元器件 生產(chǎn)速度快,使得多次重復(fù)試制可行 初始投資成本費(fèi)用非常便宜 |
單片微波集成電路建模技術(shù)
對(duì)于MMIC設(shè)計(jì)而言,重復(fù)性設(shè)計(jì)的成本是非常昂貴的,因此器件建模和仿真過(guò)程是非常重要的,應(yīng)用CAD技術(shù)建立的器件模型是影響電路設(shè)計(jì)精度的關(guān)鍵因素。電路規(guī)模越大、指標(biāo)和工作頻段越高,對(duì)器件模型精度要求也越高。準(zhǔn)確的半導(dǎo)體器件模型對(duì)提高微波毫米波單片微波集成電路的成品率、縮短研發(fā)周期起著非常重要的作用。由于MMIC制造技術(shù)仍在不斷發(fā)展中,不同工藝線的工藝各不相同,因此不同的工藝上的模型庫(kù)也不盡相同,因此必須針對(duì)特定的工藝建立特定的MMIC模型庫(kù)。
對(duì)于無(wú)源器件模型,由于電磁場(chǎng)理論分析比較成熟,模型建立比較簡(jiǎn)單,但是電感模型的建立是個(gè)難點(diǎn),因?yàn)殡姼幸紤]自感、互感及寄生效應(yīng)的存在及影響,并且電路版圖、原理圖及實(shí)測(cè)值之間的契合也是難點(diǎn)。對(duì)于有源器件,需要建立精確的小信號(hào)和大信號(hào)模型,對(duì)于低噪聲電路(如低噪聲放大器和振蕩器)還要建立噪聲模型。線性的小信號(hào)等效電路模型可以準(zhǔn)確預(yù)測(cè)小信號(hào)S參數(shù),但是卻不能反應(yīng)大信號(hào)的功率諧波特性,因此對(duì)于功率放大器、混頻器和振蕩器等非線性器件,需要建立微波非線性器件模型。
單片微波集成電路,即MMIC是Monolithic Microwave Integrated Circuit的縮寫(xiě),它包括多種功能電路,如低噪聲放大器(LNA)、功率放大器、混頻器、上變頻器、檢波器、調(diào)制器、壓控振蕩器(VCO)、移相器、開(kāi)關(guān)、MMIC收發(fā)前端,甚至整個(gè)發(fā)射/接收(T/R)組件(收發(fā)系統(tǒng))。由于MMIC的襯底材料(如GaAs、InP)的電子遷移率較高、禁帶寬度寬、工作溫度范圍大、微波傳輸性能好,所以MMIC具有電路損耗小、噪聲低、頻帶寬、動(dòng)態(tài)范圍大、功率大、附加效率高、抗電磁輻射能力強(qiáng)等特點(diǎn)。
微電子技術(shù);微波毫米波技術(shù);半導(dǎo)體單片集成電路技術(shù);電子技術(shù);先進(jìn)材料技術(shù);制造與加工技術(shù)
微波單片集成電路已成為當(dāng)前發(fā)展各種高科技武器的重要支柱,已廣泛用于各種先進(jìn)的戰(zhàn)術(shù)導(dǎo)彈、電子戰(zhàn)、通信系統(tǒng)、陸??栈母鞣N先進(jìn)的相控陣?yán)走_(dá)(特別是機(jī)載和星載雷達(dá)),在民用商業(yè)的移動(dòng)電話、無(wú)線通信、個(gè)人衛(wèi)星通信網(wǎng)、全球定位系統(tǒng)、直播衛(wèi)星接收和毫米波自動(dòng)防撞系統(tǒng)等方面已形成正在飛速發(fā)展的巨大市場(chǎng)。
美國(guó)國(guó)防部在1986到1994年實(shí)施了發(fā)展軍事微電子總計(jì)劃之一的《MIMIC》計(jì)劃,該計(jì)劃在美國(guó)國(guó)防部高級(jí)研究計(jì)劃局(DARDA)的領(lǐng)導(dǎo)下,采用以聯(lián)邦政府巨額支助的方針,動(dòng)員全國(guó)高校和工業(yè)部門各大公司的力量,分工合作,對(duì)MMIC領(lǐng)域開(kāi)展廣泛而深入的研究。美聯(lián)邦政府投入資金共計(jì)5.3億元,加上美工業(yè)部門投入,實(shí)際已超過(guò)10億美元。在此計(jì)劃的激勵(lì)下,MMIC芯片制造和應(yīng)用技術(shù)發(fā)展十分迅速。據(jù)1994年七月出版的《Aviation Week Space Technology》報(bào)導(dǎo)雷聲公司和TI公司為美國(guó)沙姆導(dǎo)彈實(shí)驗(yàn)場(chǎng)研制GBR陸基雷達(dá),該雷達(dá)使用25000個(gè)T/R組件,每個(gè)組件使用9塊GaAs MMIC。由于這種相控陣?yán)走_(dá)工作在X波段,它比"愛(ài)國(guó)者"導(dǎo)彈系統(tǒng)使用的C波段雷達(dá)有更好的分辨力。美F-15,F(xiàn)-16戰(zhàn)斗機(jī)都使用MMIC相控陣?yán)走_(dá)。每部雷達(dá)使用9000個(gè)T/R組件,而每個(gè)組件使用10塊MMIC。F-15,F(xiàn)-16等戰(zhàn)斗機(jī)還使用寬帶、超寬帶MMIC組成二維電子戰(zhàn)陣列和信道化干擾設(shè)備。MMIC還在精確制導(dǎo)等靈巧武器和軍事通信得到廣泛應(yīng)用,其優(yōu)越性在海灣戰(zhàn)爭(zhēng)中得以體現(xiàn)。
進(jìn)入90年代,隨著冷戰(zhàn)的結(jié)束,MMIC在民用方面應(yīng)用發(fā)展勢(shì)頭強(qiáng)勁,每年正以15~20%的速度增長(zhǎng),預(yù)計(jì)電信、電視、廣播業(yè)到21世紀(jì)初將發(fā)生劃時(shí)代的變革,衛(wèi)星電信、衛(wèi)星電視、衛(wèi)星廣播、衛(wèi)星電纜接收網(wǎng)絡(luò)成為多種傳播的主體,預(yù)計(jì)在2000年前后,MMIC電路將達(dá)到數(shù)千個(gè)品種,批生產(chǎn)形成的軍用和民用市場(chǎng)在100億美元左右。因此MMIC的發(fā)展前景極為廣闊。
MMIC網(wǎng)(簡(jiǎn)稱買賣IC網(wǎng))是集成電路的專業(yè)交易平臺(tái),06年初成立,現(xiàn)在線交易人數(shù)已達(dá)到1500人,也是國(guó)內(nèi)集成電路相關(guān)人士認(rèn)可的免費(fèi)交易網(wǎng)。 由北京輝創(chuàng)互動(dòng)信息技術(shù)有限公司創(chuàng)立,現(xiàn)有從業(yè)人員達(dá)30多人,也是國(guó)內(nèi)首家sns商務(wù)服務(wù)平臺(tái)。2100433B
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評(píng)分: 4.4
基于0.25μm Ga N HEMT工藝,研制了一款兩級(jí)拓?fù)浞糯蠼Y(jié)構(gòu)的2~8 GHz寬帶功率放大器MMIC(單片微波集成電路)。MMIC所用Ga N HEMT器件結(jié)構(gòu)經(jīng)過(guò)優(yōu)化,提高了放大器的可靠性和性能;電路采用多極點(diǎn)電抗匹配網(wǎng)絡(luò),擴(kuò)展了放大器的帶寬,減小了電路的損耗。測(cè)試結(jié)果表明,在2~8 GHz測(cè)試頻帶內(nèi),在脈沖偏壓28 V(脈寬1 ms,占空比30%)時(shí),峰值輸出功率大于30 W,功率附加效率大于25%,小信號(hào)增益大于24 d B,輸入電壓駐波比在2.8以下,在6 GHz處的峰值輸出功率達(dá)到50 W,功率附加效率達(dá)到40%;在穩(wěn)態(tài)偏壓28 V時(shí),連續(xù)波飽和輸出功率大于20 W,功率附加效率大于20%。尺寸為4.0 mm×5.0 mm。
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頁(yè)數(shù): 5頁(yè)
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單片微波集成電路 (MMIC),有時(shí)也稱射頻集成電路 ( RFIC),它是隨著半導(dǎo)體制 造技術(shù)的發(fā)展,特別是離子注入控制水平的提高和晶體管自我排列工藝的成熟而 出現(xiàn)的一類高頻放大器件。 微波集成電路 Microwave Integrated Circuit 工作在 300M赫~300G赫頻率范圍內(nèi)的集成電路。 簡(jiǎn)稱 MIC。 分為混合微波 集成電路和單片微波集成電路 。前者是用厚膜技術(shù)或 薄膜技術(shù)將各種微波功能 電路制作在 適合傳輸微波信號(hào)的介質(zhì) (如高氧化鋁瓷、 藍(lán)寶石、石英等)上,再將 分立有源元件安裝在相應(yīng)位置上組成微波集成電路。 這種電路的特點(diǎn)是根據(jù) 微波 整機(jī)的要求 和微波波段的劃分進(jìn)行設(shè)計(jì)和制造, 所用集成電路多是 專用的。單片 微波集成電路則是將微波功能電路用半導(dǎo)體工藝制作在砷化鎵或其他半導(dǎo)體芯 片上的集成電路。 這種電路的設(shè)計(jì)主要圍繞 微波信號(hào)的 產(chǎn)生、放大、控制和信息
腳間距 Pitch 2.54mm,頂撥直插式(SMD)內(nèi)部彈簧片全面鍍金,確保了高可靠性。執(zhí)行機(jī)構(gòu)材質(zhì) UL94V-0,為凸型。外罩材質(zhì)PPS, UL94V-0。它的殼體厚度分別為3.0mm、執(zhí)行機(jī)構(gòu)厚度也僅為0.8mm。適于精密儀器中使用。具體參數(shù)及尺寸如下:
Electrical Ratings |
Switch: 25mA @ 24VDC Carry: 100mA @ 24VDC |
Electrical Life |
2,000 cycles typical |
Contact Resistance |
小于25 mΩ initial |
Actuation Force |
400 gF max |
Actuator Travel |
2.0 mm |
Dielectric Strength |
500Vrms min |
Insulation Resistance |
大于100MΩ min |
Operating Temperature Storage Temperature |
-40°C to 85°C -40°C to 85°C |
腳間距 Pitch 2.54mm,頂撥直插式(DIP)兩態(tài),滑動(dòng)型。內(nèi)部彈簧片全面鍍金,可靠性強(qiáng)。執(zhí)行機(jī)構(gòu)及外罩材質(zhì)均為 UL94V-0。殼體厚度超薄僅3.0mm,執(zhí)行機(jī)構(gòu)厚度也僅為0.8mm,適于精密儀器中使用。具體參數(shù)及尺寸如下:
Electrical Ratings |
Switch: 25mA @ 24VDC Carry: 100mA @ 24VDC |
Electrical Life |
2,000 cycles typical |
Contact Resistance |
小于25 mΩ initial |
Actuation Force |
500 gF max |
Actuator Travel |
0.80 mm |
Dielectric Strength |
500Vrms min |
Insulation Resistance |
大于100MΩ min |
Operating Temperature Storage Temperature |
-40°C to 85°C -40°C to 85°C |