磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。
中文名稱 | 磁控濺射 | 外文名稱 | Magnetron Sputtering |
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技術(shù)類別 | 物理氣相沉積 (PVD) |
如果有可能的話,最可能的是靶材利用率,磁控旋轉(zhuǎn)靶材一般在兩頭的位置,磁場(chǎng)形成回路,磁場(chǎng)最強(qiáng),這樣,磁控濺射更多的自由電子,形成較強(qiáng)的自維持放電現(xiàn)象。相對(duì)應(yīng)的,最容易濺射,濺射速率增強(qiáng),所以濺射速度較其...
1.2米乘1.5米。6支濺射,70-100萬(wàn)不等,每家不一樣,可以看我資料
關(guān)于磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍ITO?請(qǐng)高手指點(diǎn)
差點(diǎn)看錯(cuò),ITO搞不定,TIOx還可以說(shuō)說(shuō)。嘿嘿
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以鈦金屬為靶材、以錦綸織物為基體,通過(guò)改變?yōu)R射時(shí)間,濺射功率和濺射氣壓,制備出鈦金屬鍍膜錦綸織物試樣,然后進(jìn)行摩擦試驗(yàn).采用掃描設(shè)備獲得了織物摩擦前后的圖像,利用軟件neoimaging測(cè)試織物組織點(diǎn)處的亮度,以相對(duì)亮度的變化反映鍍膜的磨損.研究表明:隨著濺射時(shí)間和濺射功率的增加,鍍膜的耐磨性提高;較為合適的濺射氣壓是0.5~3 Pa,濺射氣壓過(guò)高,耐磨性反而降低.
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在光學(xué)塑料表面上運(yùn)用磁控濺射鍍制的單質(zhì)金屬鋁膜,常出現(xiàn)膜層與基片的附著力差的問(wèn)題。本文結(jié)合光學(xué)塑料的性質(zhì),通過(guò)薄膜附著力理論分析,提出在工藝上改進(jìn)鋁膜附著力的方法。通過(guò)實(shí)驗(yàn)證明其方法的可行性。
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了磁控濺射硅靶材的分類及牌號(hào)、原料、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存、供貨狀態(tài)及訂貨單(或合同)內(nèi)容。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體等電子器件用的各種磁控濺射硅靶材。
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了磁控濺射硅靶材的分類及牌號(hào)、原料、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存、供貨狀態(tài)及訂貨單(或合同)內(nèi)容。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體等電子器件用的各種磁控濺射硅靶材。2100433B
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了氧化鋅鋁磁控濺射靶材的術(shù)語(yǔ)和定義、基本要求、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存、質(zhì)量承諾等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于粉末冶金生產(chǎn)的用于磁控濺射沉積節(jié)能Low-E玻璃的功能介質(zhì)層以及薄膜太陽(yáng)能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鋁磁控濺射靶材。