階梯狀斷層簡介

階梯狀斷層是指一組產(chǎn)狀大致相同的正斷層，各自的上盤依次下降，形成如階梯狀的斷層組合。它的總體位移為各斷層位移之和。階梯狀斷層在區(qū)域性抬斜過程中常發(fā)生一定旋轉(zhuǎn)形成階梯狀抬斜斷塊。這種階梯狀抬斜斷塊在地形上表現(xiàn)為單面山與山谷間列景觀。一些在地質(zhì)歷史中發(fā)育的階梯式抬斜斷塊在地形上已不明顯，但是可以反映在斷陷沉積上，為一系列平行的箕狀構(gòu)造或稱半地塹盆地。這類箕狀構(gòu)造在我國東部中、新生代盆地中十分發(fā)育，如中生代華北盆地、松遼盆地等。2100433B

能產(chǎn)生大震和具有以下至少一點(diǎn)特征的活斷層是能動(dòng)斷層：

在3.5萬年以來至少產(chǎn)生過一次近地表或在地表發(fā)生的運(yùn)動(dòng)。

發(fā)生過地震運(yùn)動(dòng)（3.5級或者更高），并且有儀器測定的記錄其精確度能夠證明地震運(yùn)動(dòng)與斷層有直接關(guān)系。

對于能動(dòng)斷層來說，斷層一邊發(fā)生地震運(yùn)動(dòng)，另一邊也會(huì)受到影響。

儀器記錄到歷史上有小震活動(dòng)產(chǎn)生，且跟斷層有關(guān)。

能動(dòng)斷層（capable fault）

可能引起地表或近地表明顯錯(cuò)動(dòng)的斷層。2100433B

巖層或巖體在構(gòu)造應(yīng)力作用下，發(fā)生破裂，并沿破裂面兩側(cè)巖塊發(fā)生明顯位移的構(gòu)造。斷層在地殼中廣泛發(fā)育，常常構(gòu)成一定地區(qū)的構(gòu)造格架，區(qū)域性的大斷層不僅控制或影響區(qū)域地質(zhì)的結(jié)構(gòu)和發(fā)展，而且以其為背景形成區(qū)域成礦帶;礦區(qū)內(nèi)的斷層，有的控制著礦床分布、礦體的形態(tài)產(chǎn)狀和礦石品位的貧富，有的則對礦體起破壞作用，使礦床開采復(fù)雜化。對斷層的調(diào)查、觀察、測定其產(chǎn)狀要素、確定其類型、分析它與成礦的關(guān)系，對指導(dǎo)開采十分重要。

斷層要素：指斷層的幾何要素，包括斷層面、斷層線、斷盤、滑距、斷距等。(1)斷層面：即巖層或巖體的破裂和錯(cuò)位面，其產(chǎn)出狀態(tài)由該面的走向、傾向、傾角確定。(2)斷層線：指斷層面與地面的交線，即斷層在地表的出露線。(3)斷盤：指斷層面兩側(cè)的巖塊。斷層面傾斜時(shí)，面的上側(cè)巖塊叫上盤；下側(cè)巖塊稱下盤；斷層面垂直時(shí)，則兩盤以方位命名，如東盤、西盤、南盤、北盤等。(4)滑距：指斷層面上同一地質(zhì)現(xiàn)象點(diǎn)錯(cuò)斷后的實(shí)際距離稱總滑距；總滑距在斷層面走向線上的分量叫走向滑距；總滑距在斷層面傾斜線上的分量為傾斜滑距；總滑距在水平面上的投影長度稱水平滑距。(5)斷距：斷層面上對應(yīng)層之間的垂直斷距；對應(yīng)層間的水平距離稱水平斷距。

斷層的工程地質(zhì)性質(zhì)：①逆斷層面呈舒緩波狀，有時(shí)有鏡面，擠壓面常集中出現(xiàn)構(gòu)成擠壓帶，斷層面礦物定向排列，抗剪強(qiáng)度低，常具有隔水性能。②正斷層面粗糙，有時(shí)呈鋸齒狀，抗剪強(qiáng)度較逆斷層高，透水排水性能好，常為地下水的通道，在石灰?guī)r地區(qū)容易沿其形成喀斯特洞穴。③平移斷層面平直光滑，有鏡面，產(chǎn)狀穩(wěn)定，傾角一般較陡，延伸長，在平面上常成X形分布，抗剪強(qiáng)度亦較低。

斷層發(fā)育的 3 個(gè)階段:

階段1：初始發(fā)育階段。斷距較小，沉積和成巖作用控制的垂直各向異性產(chǎn)生順層間斷面， 斷層垂向具分段特點(diǎn)，泥巖層中發(fā)育大量的向下變形的張性緩沖區(qū)(Releasing dip relay)，泥巖層厚度越大，緩沖區(qū)越寬。

階段2：過渡形變階段。斷層沿間斷面剪切，產(chǎn)生次生裂縫或與順斷層滑動(dòng)的斜裂紋。斷層形成時(shí)伴生的微小裂縫具有定向性， 其方位與 Riedel 剪切一致，在富泥地層中，斷距增大形成泥巖涂抹的概率很高 。

階段3：斷層形成階段。隨著斷距的進(jìn)一步增大，斷層下降盤的泥巖源層變形，可能使涂抹的泥巖層厚度變薄，從而失去連續(xù)性。巖石塊狀發(fā)生破裂、旋轉(zhuǎn)，破碎的塊體沿?cái)鄬酉蛳禄祀s。斷裂帶由構(gòu)造變形拉長的斷層核和兩側(cè)的破壞區(qū)域復(fù)合組成。斷層發(fā)育階段的識(shí)別是研究斷層封閉性評價(jià)的基礎(chǔ)，通常用泥質(zhì)源巖層厚度和斷距的比值來區(qū)分不同階段：斷層在初始—過渡階段，斷距為60～80 m時(shí)， 泥巖層厚度與斷距比值0.007；在斷層形成階段，斷距為 600 m 時(shí) 這一比值約為0.0009。泥巖涂抹層在斷層發(fā)育時(shí)已形成，后期厚度不再增加。在斷層位移較小時(shí)，涂抹的泥巖能保持連續(xù)，隨著斷距的增大，泥質(zhì)沿?cái)鄬臃植甲兎稚?、涂抹厚度逐漸減少，至這一距離約為泥質(zhì)源巖層厚度的6～8 倍時(shí)，單個(gè)或互層的涂抹層將存在缺口，出現(xiàn)封閉上的泄漏點(diǎn)，可以推測，泄漏點(diǎn)與SGR、SSF等比值上的臨界值具有對應(yīng)關(guān)系。2100433B