中文名 | 氧化鋅鋁磁控濺射靶材 | 外文名 | Alumium doped zinc oxide magnetron sputtering targets |
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標(biāo)準(zhǔn)編號(hào) | T/ZZB 0639—2018 | 實(shí)施日期 | 2018年11月01日 |
發(fā)布日期 | 2018年10月19日 |
本標(biāo)準(zhǔn)由寧波市標(biāo)準(zhǔn)化研究院牽頭組織制定。 本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位:寧波森利電子材料有限公司。 本標(biāo)準(zhǔn)參與起草單位:寧波市標(biāo)準(zhǔn)化研究院、中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所、國標(biāo)(北京)認(rèn)證有限公司、漢能裝備科技集團(tuán)有限公司、北京安泰六九新材料科技有限公司、世泰科特種材料(太倉)有限公司(排名不分先后)。
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了氧化鋅鋁磁控濺射靶材的術(shù)語和定義、基本要求、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存、質(zhì)量承諾等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于粉末冶金生產(chǎn)的用于磁控濺射沉積節(jié)能Low-E玻璃的功能介質(zhì)層以及薄膜太陽能電池透明電極層等膜層的氧化鋅鋁磁控濺射靶材。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:楊曄、周山山、何偉、蘭品軍、朱永明、李翔、宋偉杰、李勇、馬通達(dá)、楊立紅、宋云娜、張鳳戈、夏黎海。
如果有可能的話,最可能的是靶材利用率,磁控旋轉(zhuǎn)靶材一般在兩頭的位置,磁場(chǎng)形成回路,磁場(chǎng)最強(qiáng),這樣,磁控濺射更多的自由電子,形成較強(qiáng)的自維持放電現(xiàn)象。相對(duì)應(yīng)的,最容易濺射,濺射速率增強(qiáng),所以濺射速度較其...
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異...
完全可以做平板電容的電極和介質(zhì),濺射鍍膜是很可控的薄膜,多以可以做高檔電容
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大?。?span id="mcsyp3a" class="single-tag-height">121KB
頁數(shù): 4頁
評(píng)分: 4.6
文章就我公司精餾工序全面投產(chǎn)后,因物料運(yùn)輸?shù)挠绊懚鴮?dǎo)致的生產(chǎn)不正常,無法達(dá)產(chǎn)達(dá)標(biāo)標(biāo)現(xiàn)象進(jìn)行了科述,提出了一種新的工藝流程改造方案并付諸實(shí)踐,將改造前后手生產(chǎn)實(shí)踐情況進(jìn)行了對(duì)比,改造后生產(chǎn)轉(zhuǎn)下正常、取得了顯著的效益。2
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文章就我公司精餾工序全面投產(chǎn)后,因物料運(yùn)輸?shù)挠绊懚鴮?dǎo)致的生產(chǎn)不正常,無法達(dá)產(chǎn)達(dá)標(biāo)現(xiàn)象進(jìn)行了簡(jiǎn)述,提出了一種新的工藝流程改造方案并付諸實(shí)踐。將改造前后的生產(chǎn)實(shí)踐情況進(jìn)行了對(duì)比,改造后生產(chǎn)轉(zhuǎn)入正常.取得了顯著的效益。
磁控手電筒具有體積小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、重量輕、耗電少、感應(yīng)靈敏、抗腐蝕性好、壽命長(zhǎng)、防水能力強(qiáng),使用方便,價(jià)格便宜等諸多優(yōu)點(diǎn)。 如MCOBEAM CK11和MCOBEAM CK13,都是性能不錯(cuò)的磁控手電筒。
基本介紹
項(xiàng)目編號(hào)Plan Name in Chinese 20110426-T-610
中文項(xiàng)目名稱Plan Name in Chinese 電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材
英文項(xiàng)目名稱Plan Name in English High Purity Aluminum and Aluminum Alloy Sputtering Targets for Electronic Thin Film Application
制\修訂Plan Name in English 制定
被修訂標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Replaced Standard
采用國際標(biāo)準(zhǔn)Adopted International Standard 無
采用國際標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Adopted International Standard No
采用程度Application Degree
采標(biāo)名稱Adopted International Standard Name
標(biāo)準(zhǔn)類別Plan Name in English 產(chǎn)品
國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(hào)(ICS)
計(jì)劃完成年限Suppose to Be Finished Year 2012年
完成時(shí)間Achievement Time
所處階段Plan Phase 起草階段
國家標(biāo)準(zhǔn)號(hào)Standard No.
備注Remark 國標(biāo)委綜合[2011]57號(hào)
起草單位Drafting Committee 有研億金新材料股份有限公司
主管部門Governor 中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)
歸口單位Technical Committees 243 全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)
鉬是一種金屬元素,主要用于鋼鐵工業(yè),其中的大部分是以工業(yè)氧化鉬壓塊后直接用于煉鋼或鑄鐵,少部分熔煉成鉬鐵,鉬箔片后再用于煉鋼。
它可增強(qiáng)合金的強(qiáng)度、硬度、可焊性及韌性,還可增強(qiáng)其耐高溫強(qiáng)度及耐腐蝕性能。
四豐靶材專家指出,鉬濺射靶材可在各類基材上形成薄膜這種射膜廣泛用作電子部件和電子產(chǎn)品如目前廣泛應(yīng)用的TFT-LCD(Thin Filmtransitor- Liquidcrystaldis- plays薄膜半導(dǎo)體管-液品顯示器)、等離子顯示屏、無機(jī)光發(fā)射二極管顯示器、場(chǎng)發(fā)射顯示器、薄膜太陽能電池、傳感器、半導(dǎo)體裝置以及具有可調(diào)諧功函數(shù)CMOS[互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體)的場(chǎng)效應(yīng)晶體管柵極等。
鉬濺射靶材的應(yīng)用
在電子行業(yè)中鉬濺射靶材主要用于平面顯示器、薄膜太陽能電池的電極和配線材料以及半導(dǎo)體的阻擋層材料。這些是基于鉬的高熔點(diǎn)、高電導(dǎo)率、較低的比阻抗、較好的耐腐蝕性以及良好的環(huán)保性能。
鉬具有比阻抗和膜應(yīng)力僅為鉻的1/2的優(yōu)勢(shì)而且不存在環(huán)境污染問題因此成為了平面顯示器濺射靶材的首選材料之一。此外鋁使用在LCD的元器件中可使液晶顯示器在亮度、對(duì)比度、色彩以及壽命方面的性能大大提升。
平面顯示器行業(yè)中濺射靶材的主要市場(chǎng)應(yīng)用之一是TLCD領(lǐng)域。市場(chǎng)研究表明未來幾年是LCD發(fā)展的高峰期年增長(zhǎng)率達(dá)30%左右。隨著CD的發(fā)展LCD濺射靶材的消費(fèi)量也快速增長(zhǎng)年增長(zhǎng)率約為20%。2006年全球鉬濺射靶材的需求量約700t,2007年則為900左右。
除平面顯示器行業(yè)外隨著新能源行業(yè)的發(fā)展鉬濺射靶在薄膜太陽能光伏電池上的應(yīng)用也日益增加。鉬濺射靶材主要通過濺鍍形成CIGS(銅錮鎵西薄膜電池電極層。圖2是CGS太陽能電池的結(jié)構(gòu)示意圖,其中Mo處于太陽能電池的最底層作為太陽能電池的背接觸其對(duì)CGS薄膜皛體的成核、生長(zhǎng)、形貌有著非常重要的作用。
【總結(jié)】關(guān)于“鉬濺射靶材的應(yīng)用”就為您講解到這里,對(duì)國內(nèi)的銀生產(chǎn)加工企業(yè)來說當(dāng)務(wù)之急是抓住市場(chǎng)機(jī)遇提升工裝水平和科研技術(shù)水平制備出高質(zhì)量的鉬濺射靶材產(chǎn)品。若您對(duì)上述內(nèi)容還有疑問,或是相關(guān)了解產(chǎn)品相關(guān)及價(jià)格,歡迎點(diǎn)擊【在線詢價(jià)】服務(wù),客服會(huì)在第一時(shí)間回復(fù)您。
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