蒸鍍

1、cvd用原料化合物及其制造方法及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍法

2、cvd用原料化合物及銥或銥化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法

3、cvd用原料化合物以及釕或釕化合物薄膜的化學(xué)氣相蒸鍍方法

4、彩色陰極射線管及其制造方法和蒸鍍用復(fù)合材料

5、層壓薄膜和使用它的蒸鍍薄膜

6、除塵裝置、蒸鍍機(jī)臺及以其進(jìn)行清潔遮罩的方法

7、帶有磁鐵的等離子體的連續(xù)蒸鍍裝置

8、等離子體蒸鍍設(shè)備防止凝縮裝置

9、電激發(fā)光顯示板的制造方法及蒸鍍遮罩

10、電激發(fā)光元件的制造方法及蒸鍍遮罩

11、改進(jìn)型蒸鍍方法

12、高溫超導(dǎo)薄膜雙面蒸鍍技術(shù)及其裝置

13、金屬蒸鍍薄膜、其制造方法及使用它的電容器

14、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝備的電極固定裝置

15、利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法

16、利用蒸鍍夾具的手機(jī)外殼emi層真空蒸鍍方法及夾具

17、連續(xù)式蒸鍍?yōu)R鍍機(jī)

18、免蒸鍍的硬式帶式自動(dòng)焊接封裝方法

19、鋅蒸鍍薄膜及金屬化薄膜電容器

20、掩模蒸鍍方法及裝置、掩模及其制造方法、顯示板制造裝置

21、氧化鎂蒸鍍材料

22、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法、制造原料和制造裝置

23、一氧化硅蒸鍍材料及其制造方法

24、一種利用強(qiáng)電場的真空熱蒸鍍成膜方法

25、一種用于半導(dǎo)體激光器腔面蒸鍍的非接觸固定方式的夾具

26、陰極電弧蒸鍍方式淀積類金剛石碳膜的制備方法

27、用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜

28、用于鐳射壓印蒸鍍的雙向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法

29、用于生產(chǎn)高折射率光學(xué)涂層的蒸鍍用材料

30、用于制作有機(jī)電致發(fā)光顯示器的蒸鍍裝置

31、有機(jī)el元件制造用蒸鍍裝置的室內(nèi)的清洗方法

32、有機(jī)場致發(fā)光膜蒸鍍用蒸鍍源

33、有機(jī)發(fā)光二極管蒸鍍機(jī)臺

34、有機(jī)膜蒸鍍方法

35、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的方法

36、在光學(xué)基片上蒸鍍鍍膜的真空鍍膜設(shè)備

37、真空電弧蒸鍍方法及裝置

38、真空蒸鍍設(shè)備用的蒸鍍裝置

39、蒸鍍材料及其利用該材料制造光學(xué)薄膜

40、蒸鍍材料其制備方法和用該材料制備光學(xué)涂層方法

41、蒸鍍方法及顯示裝置的制造方法

42、蒸鍍方法及蒸鍍裝置

43、蒸鍍膜

44、蒸鍍掩模及制法、顯示裝置及制法以及具有其的電子機(jī)器

45、蒸鍍用坩鍋

46、蒸鍍用掩模及其制造方法

47、蒸鍍裝置

48、蒸鍍裝置

49、蒸鍍裝置

50、蒸鍍裝置

51、直接蒸鍍用樹脂組合物、使用該組合物的模塑制品以及表面金屬化處理的燈罩

52、制作電致發(fā)光顯示器的、使用電磁鐵的蒸鍍裝置及采用此裝置的蒸鍍方法

1.能在金屬、半導(dǎo)體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有機(jī)聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的

2.可以不同的沉積速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯微結(jié)構(gòu)和3.結(jié)晶形態(tài)(單晶、多晶或非晶等)的薄膜;

4.薄膜的純度很高

5.易于在線檢測和控制薄膜的厚度與成分。厚度控制精度最高可達(dá)單分子層量級

6.排出污染物很少且基本上沒有，無"三廢"公害;

在真空環(huán)境中，將材料加熱并鍍到基片上稱為真空蒸鍍，或叫真空鍍膜。 蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基片表面析出的過程。