①硬度-拋光墊的硬度決定保持面形精度的能力;
②壓縮比-壓縮比反應(yīng)拋光墊的抗變形能力;
③涵養(yǎng)量-拋光墊的涵養(yǎng)量是單位體積的拋光墊存儲拋光液的質(zhì)量;
④粗糙度-表面粗糙度是拋光墊表面的凸凹不平程度,;
⑤密度-密度是拋光墊材料的致密程度;
①把拋光液有效均勻地輸送到拋光墊的不同區(qū)域;
②將拋光后便化學(xué)反應(yīng)充分進行;的反應(yīng)物、碎屑等順利排出,達到去除效果;
③維持拋光墊表面的拋光液薄膜, 以便化學(xué)反應(yīng)充分進行;
④保持拋光過程的平穩(wěn)、表面不變形, 以便獲得較好的晶片表面形貌;
按是否含有磨料可以分為有磨料拋光墊和無磨料拋光墊; 按材質(zhì)的不同可以分為聚氨酯拋光墊、無紡布拋光墊和復(fù)合型拋光墊; 按表面結(jié)構(gòu)的不同大致可分為平面型、網(wǎng)格型和螺旋線型。
工序比較多,而且就是生產(chǎn)同一拋光磚,所生產(chǎn)出來的產(chǎn)品性能差距也是很大的,比如易碎,吸水,易開裂等情況出現(xiàn),當然了也是影響價格的一部分。
徑流系數(shù)主要受集水區(qū)的地形、流域特性因子、平均坡度、地表植被情況及土壤特性等的影響。徑流系數(shù)越大則代表降雨較不易被土壤吸收,亦即會增加排水溝渠的負荷。
搖床運動的不對稱性它對礦粒沿縱向的選擇性搬運及床層的松散影響很大。適宜的不對稱性,要求既能保證較好的選擇性搬運性能,又保證床層的充分松散。對較難松散和較易搬運的粗粒物料,不對稱性可小些,對較易松散,但...
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評分: 4.6
采用失重法與鉛筆硬度計分析了拋光墊的組分對其溶脹率及干濕態(tài)硬度的影響,比較了固結(jié)磨料方法與游離磨料方法拋光后硅片的表面粗糙度。結(jié)果表明:拋光墊基體的溶脹率隨基體中聚乙二醇雙丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羥基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基體的干態(tài)硬度隨PEGDA含量的增加先有所增大,而后減小,隨EO15-TMAPTA含量的增加而增大;濕態(tài)下鉛筆硬度隨PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而減小;光引發(fā)劑量的增加,有利于增大基體的干濕態(tài)硬度;固結(jié)磨料拋光硅片的去除速率是游離磨料加工的2~3倍,而前者拋光硅片后的表面粗糙度Ra為12.2nm,大于后者的4.32nm。
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評分: 4.6
為了解決在化學(xué)機械拋光過程中拋光接觸區(qū)域內(nèi)拋光液的分布均勻性問題,基于生物學(xué)的葉序理論,設(shè)計葵花籽粒結(jié)構(gòu)的仿生拋光墊,建立化學(xué)機械拋光拋光液流場的運動方程和邊界條件,利用流體力學(xué)軟件(Fluent)對拋光液的流動狀態(tài)進行仿真,并獲得葉序參數(shù)對拋光液流動狀態(tài)的影響規(guī)律。結(jié)果表明:拋光液在基于葵花籽粒的仿生拋光墊的流動是均勻的,拋光液沿著逆時針和順時針葉列斜線溝槽流動,有利于流體向四周發(fā)散。
一種用于調(diào)節(jié)制作半導(dǎo)體晶片的CMP裝置的拋光墊的裝置,該裝置包括構(gòu)造成至少部分地在一拋光墊之上延伸的一控制臂。該裝置還包括連接至控制臂的至少一個圓柱形調(diào)節(jié)件,該控制臂構(gòu)造成將所述至少一個圓柱形調(diào)節(jié)件施加至拋光墊。
《林學(xué)名詞》第二版。
表面經(jīng)拋光、光潔度較高的不銹鋼板。