電子設(shè)備屏蔽屏蔽完整性

理論上要得到對電場、磁場和電磁波衰減至100dB以上的屏蔽效能是很容易的。但實(shí)際中，完全連續(xù)且均勻的屏蔽體是不存在的，因?yàn)殡娮釉O(shè)備通?？偸怯须娫淳€、控制線、信號線等穿入和引出；電子設(shè)備的通風(fēng)、調(diào)節(jié)、操作等也需在屏蔽體上開孔；屏蔽體是多面體和架子的組合，需要搭接、有縫有門，如圖所示。所有這些因素均降低了屏蔽體的屏蔽效能。

用導(dǎo)電或?qū)Т挪牧弦种仆ㄟ^空間傳播的電磁騷擾對電子設(shè)備影響的電氣技術(shù)措施。金屬外殼是電子設(shè)備的主要屏蔽。屏蔽是用來封閉耦合路徑的一種電磁阻擋層，它是電子設(shè)備抗輻射干擾的最有效的措施。屏蔽體的性能是以屏蔽效能來衡量的， 屏蔽效能越大效果越好。一個好的屏蔽體取決于屏蔽完整性，而完整的屏蔽體又取決于結(jié)構(gòu)和材料。

場強(qiáng)衰減在0～10dB時屏蔽效能很小，可以認(rèn)為沒有屏蔽；在10～30 dB時有簡單的最低程度的屏蔽； 在30～60 dB時為一般屏蔽，可以抑制中等程度的電磁干擾；在60～90 dB時可以抑制較嚴(yán)重的電磁騷擾；在90～120 dB時將達(dá)到非常好的屏蔽效果，但對屏蔽體設(shè)計和制作均有極高的要求。

為了提高電子設(shè)備的總屏蔽效能，需要采取許多技術(shù)措施。如連接縫上的螺釘改為焊接或使用電磁干擾襯墊， 使許多間隙點(diǎn)達(dá)到緊密的接觸而保持屏蔽的連續(xù)，襯墊材料有導(dǎo)電塑料、金屬填充的合成橡膠、多層金屬線網(wǎng)的彈性墊片；通風(fēng)口加金屬屏蔽網(wǎng)；表頭、開關(guān)和指示燈背面加屏蔽層；導(dǎo)線經(jīng)穿心電容（具有濾波功能的空心管）、信號線經(jīng)插針式濾波器引入設(shè)備內(nèi)部； 電子設(shè)備門的交聯(lián)用軟金屬導(dǎo)體互聯(lián)，門的邊框用導(dǎo)電合成橡膠彈性密封，面板可用透明的玻璃經(jīng)導(dǎo)電薄膜粘貼在表面并與機(jī)箱相連， 用導(dǎo)電膠（含銀的環(huán)氧樹脂）作為不同金屬體的連接。對于非永久接縫，可以采用導(dǎo)電潤滑脂（銀與硅的粘糊狀體）涂在非永久性連接的地方以提高導(dǎo)電效果?？傊休斎胼敵鲆€和開孔安裝部件的地方都需加屏蔽層或?yàn)V波，不連續(xù)的地方都要加電磁干擾襯墊和導(dǎo)電材料，且固定在原屏蔽金屬面上保證屏蔽層的連續(xù)性以提高電子設(shè)備的總屏蔽效能。對屏蔽要求更高的電子設(shè)備可以采取雙層屏蔽的方法。

具有較強(qiáng)干擾源的器件如隔離變壓器、電源濾波器等在安裝時也需安裝在屏蔽金屬面上或安裝在屏蔽小室中，且輸入輸出線必須分開走線，防止干擾信號跨過隔離變壓器、電源濾波器，通過輸入、輸出線間的耦合而引入設(shè)備內(nèi)部， 如圖所示。

對于電子設(shè)備內(nèi)部某些敏感的電路和器件， 為減少電磁干擾的影響， 也常常利用屏蔽殼或屏蔽罩的方法將敏感電路和器件或干擾源電路獨(dú)立屏蔽起來。電子設(shè)備之間的連線或電子設(shè)備內(nèi)電路之間的連線也常常利用屏蔽電纜連接以減小電磁干擾的耦合。電子設(shè)備的屏蔽體內(nèi)有磁敏感元件時，則應(yīng)使磁敏感元件與屏蔽體內(nèi)壁留有一定的間隙。 2100433B

為了減少剩余電容，對屏蔽體的形狀應(yīng)有要求，屏蔽體做成殼體比平板要好，密封殼體比開窗孔的殼體好，例如，變壓器初次級間電屏蔽效果，封閉優(yōu)于外折屏蔽、外折屏蔽優(yōu)于帶狀屏蔽。

屏蔽體的材料應(yīng)選擇導(dǎo)電性能良好的銅鋁和鎂等導(dǎo)體。在高頻時，屏蔽體表面還應(yīng)鍍銀層。

變壓器電屏蔽是利用渦流的反磁作用原理來實(shí)現(xiàn)屏蔽的。電磁作用相當(dāng)于“堵”磁。典型的設(shè)計采用 4~6 mm 厚銅板或 7~8mm 鋁板制作，加工成與所屏蔽位置一致的形狀。

屏蔽服是電場屏蔽的具體應(yīng)用。等電位帶電作業(yè)時，一般用很細(xì)的導(dǎo)電銅絲或?qū)щ娎w維與其他纖維混紡做成衣服、鞋帽、手套、襪子，并使之成為一體構(gòu)成屏蔽服。

與輻射源屏蔽相關(guān)的輻射包括：（a）輻射源有用線束。（b）穿過輻射源組裝殼體的泄漏輻射，它是非有用線束。(c)散射輻射，即受到有用線束和泄漏輻射直接照射的對象、患者、裝置部件以及建筑物壁的散射輻射。（d）天空散射輻射，即穿過屏蔽室頂?shù)妮椛洌ㄖ饕怯杏镁€束和泄漏輻射）與屏蔽室頂上方空氣作用，散射至屏蔽室外圍環(huán)境區(qū)的輻射。(e)側(cè)散射輻射，即輻射源射入屏蔽室頂?shù)妮椛渑c屋頂屏蔽室外一定距離處人員駐留建筑物重高于屋頂?shù)臉菍印?f)在輻射能量較高時（如質(zhì)子治療），有用線束和泄漏輻射直接照射到物質(zhì)上發(fā)生核反應(yīng)所產(chǎn)生的中子及相關(guān)的 致輻射，它是伴生的次級輻射。2100433B