過程測量簡介

過程測量與“成品測量”相對。一種偏重于操作過程的技能測定。在學(xué)生的職業(yè)技能訓(xùn)練中常采用。注重學(xué)生操作的質(zhì)量及效率，如操作程序、工作態(tài)度及速度等，以提供豐富的診斷性資料，有助于改善教學(xué)。方法主要是觀察，即由教師觀察學(xué)生的操作過程。

中文名稱

過程測量

英文名稱

process measurement

定　　義

獲取信息，以確定過程各變量的值的測量。

應(yīng)用學(xué)科

機(jī)械工程（一級學(xué)科），工業(yè)自動化儀表與系統(tǒng)（二級學(xué)科），工業(yè)自動化儀表與系統(tǒng)一般名詞（三級學(xué)科）

橢偏儀測量橢偏參數(shù)

在橢偏測量過程中，有兩個橢偏參數(shù)非常關(guān)鍵。（標(biāo)準(zhǔn)）橢圓偏振測量四個史托克參數(shù)(Stokes parameters)中的兩個，通常以Δ及Φ來表示。TanΦ為反射后之振幅比，Δ為相位移（相差）。由于橢圓偏振系測量兩項之比值（或差異）而非其絕對數(shù)值，因此這技術(shù)所得的數(shù)據(jù)是相當(dāng)正確且可再現(xiàn)的，其對散射及擾動等因素較不敏感，且不需要標(biāo)準(zhǔn)樣品或參考樣品。

橢偏儀測量數(shù)據(jù)分析和擬合

橢圓偏振為間接量測的技術(shù)，也就是說，一般測得的Δ及Φ并不能直接轉(zhuǎn)換為樣品的光學(xué)常數(shù)，通常需要建構(gòu)模型來進(jìn)行分析。只有對于無限厚（約厘米等級）、各向同性且均勻的膜，才可能直接轉(zhuǎn)換得到其Δ及Φ之?dāng)?shù)值。在所有其他的情形下，則必需建構(gòu)其層狀模型，并考慮所有各層之各別的光學(xué)常數(shù)如(折射率或介電常數(shù))及厚度，且依正確的層畳順序建立。再借由多次最小方差法最適化，變動未知的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度參數(shù)，以之代入菲涅耳方程計算求得其對應(yīng)Δ及Φ數(shù)值。最后，所得最接近實驗數(shù)據(jù)之Δ及Φ數(shù)值，其參數(shù)來源的光學(xué)常數(shù)及(或)厚度可視為此量測之最適化結(jié)果。

橢偏儀測量橢偏測量結(jié)果

橢偏測量可取得薄膜的介電性質(zhì)（復(fù)數(shù)折射率或介電常數(shù)）。它已被應(yīng)用在許多不同的領(lǐng)域，從基礎(chǔ)研究到工業(yè)應(yīng)用，如半導(dǎo)體物理研究、微電子學(xué)和生物學(xué)。橢圓偏振是一個很敏感的薄膜性質(zhì)測量技術(shù)，且具有非破壞性和非接觸之優(yōu)點。

分析自樣品反射之偏振光的改變，橢圓偏振技術(shù)可得到膜厚比探測光本身波長更短的薄膜資訊，小至一個單原子層，甚至更小。橢圓儀可測得復(fù)數(shù)折射率或介電函數(shù)張量，可以此獲得基本的物理參數(shù)，并且這與各種樣品的性質(zhì)，包括形態(tài)、晶體質(zhì)量、化學(xué)成分或?qū)щ娦?，有所關(guān)聯(lián)。它常被用來鑒定單層或多層堆棧的薄膜厚度，可量測厚度由數(shù)埃（Angstrom）或數(shù)納米到幾微米皆有極佳的準(zhǔn)確性。

橢偏儀測量被測材料

半導(dǎo)體物理、通訊、數(shù)據(jù)存儲、光學(xué)鍍膜、平板顯示器、表界面科學(xué)研究、物理、化學(xué)、生物、醫(yī)藥、介電材料、有機(jī)高分子聚合物、金屬氧化物、金屬鈍化膜、各種液體薄膜、自組裝單分子層、多層膜物質(zhì)等等

第 1版由德國測量學(xué)家約旦(W.Jordan)編寫,于1872年以《實用測量手冊》為書名出版。第2版擴(kuò)充為2卷，改名為《約旦測量手冊》,于1877～1878年出版第3版補充修訂為3卷,于1888年出版。1904～1941年期間，德國埃格特(O.Eggert)重新修訂此書，先后修訂6次，全書擴(kuò)大至5卷,又名《約旦-埃格特測量手冊》。

1944年后，由德國克奈斯?fàn)?M.Kneissl)主編,約請世界名國測量學(xué)家分工撰寫，對這部著作進(jìn)行全面修訂，于1956～1972年間陸續(xù)出版，為第10版，書名為《約旦-埃格特-克奈斯?fàn)枩y量手冊》。在此版中增添了大量的新內(nèi)容，全書共11卷15冊。其中主卷6卷7冊，第Ⅰ卷為數(shù)學(xué)基礎(chǔ)、平差計算和計算輔助用表；第Ⅱ卷為外業(yè)測量、土地測量和放樣工作；第Ⅲ卷為高程測量和視距測量；第Ⅳ卷（2冊）為數(shù)學(xué)大地測量學(xué)（陸地測量）;第Ⅴ卷為天文大地測量學(xué)和物理大地測量學(xué)(大地測量學(xué))；第Ⅵ卷為電磁波測距及其大地測量應(yīng)用補編5卷8冊,第Ⅰa卷為地貌、地圖印制、地形圖和地圖投影；第Ⅱa卷為大地天文學(xué)；第Ⅲa卷（3冊）為攝影測量學(xué);第Ⅳa卷為地籍測量；Ⅳb卷為土地重新規(guī)劃(土地整理)；第Ⅴa卷為重力測量儀器和方法。2100433B

工程測量修訂過程

該教材按照國家的《工程測量規(guī)范》（GB 50026-2007），根據(jù)土建類專業(yè)測量學(xué)課程教學(xué)的基本要求編寫而成。

該教材在編寫過程中，得到了蘭州城市建設(shè)學(xué)校（蘭州技師學(xué)院）的支持；蘭州城市建設(shè)學(xué)校校長、高級講師趙虎林同志提出了修改意見；同時，編者參閱和借鑒了相關(guān)教材、專著及有關(guān)文獻(xiàn)資料。

工程測量出版工作

2011年3月1日，該教材由清華大學(xué)出版社出版。