熔體快淬爐主要功能

制備非晶/納米晶帶材。 2100433B

1 ※裝爐量 500—5000g／爐 2 關(guān)鍵 尺寸 爐體直徑 1000mm 3 輥輪直徑 280mm 4 坩堝直徑 50mm，160毫升(鑄片80mm，600毫升) 5 電源 高頻功率 35KW 頻率 10-20KHz 6 ※熔煉溫度 1700℃ 7 ※極限真空度 5×10-3Pa 8 ※最大充氣壓力 0.02MPa 9 ※漏氣率 ＜4×10-1Pa.L/S。

快淬粉末經(jīng)過熱壓，固結(jié)成各向同性磁體，熱壓磁體再經(jīng)過模鐓鍛制成各向異性磁體?？齑惴勰┻€用來制作粘結(jié)磁體。

真空淬火爐是真空熱處理爐的主要類型，品種多、數(shù)量大、結(jié)構(gòu)復(fù)雜、發(fā)展迅速。

各種類型的氣淬真空爐的結(jié)構(gòu)。立式和臥式單室氣淬真空爐，單室爐加熱和冷卻在同一爐室中進(jìn)行，結(jié)構(gòu)簡單，操作維修方便，占地面積小，應(yīng)用一較多，立式和臥式雙室氣淬真空爐。這種爐子加熱室與冷卻室由真空閘閥隔開，工件在冷卻室進(jìn)行冷卻時，加熱室不受影響，因此，工件冷卻速度較單室真空氣淬爐快，由于雙室爐冷卻氣體只充入冷卻室，加熱室保持真空，因而縮短工件時間（抽真空，加熱等），生產(chǎn)效率較單室真空爐提高25%～30%左右，三室半連續(xù)式氣淬真空爐，由進(jìn)料室、加熱室和冷卻室組成，相鄰兩室間由真空閘閥隔開，連續(xù)式真空熱處理爐生產(chǎn)效率高，節(jié)約能源，降低成本，適于連線生產(chǎn)和大生產(chǎn)運(yùn)行，是今后真空熱處理爐的發(fā)展方向。

隨著工業(yè)技術(shù)的進(jìn)步和產(chǎn)品加工質(zhì)量與技術(shù)要求的提高，真空熱處理加工鋼種、合金范圍的擴(kuò)大，近十余年來，高壓氣淬真空爐，高流率真空爐和高（負(fù)）壓高流率真空爐得到迅速發(fā)展，其特點(diǎn)是通常冷卻氣體壓強(qiáng)為0.1～0.5MPa，有的高達(dá)2MPa甚至4MPa的高壓氣淬真空爐已投入運(yùn)行，工件在高速氣流下進(jìn)行冷卻。

執(zhí)處理是齒輪制造的關(guān)鍵工序，滲碳淬火爐的選擇至關(guān)重要。目前有井式滲碳淬火爐(下稱井式爐)、密封箱式多用滲碳淬火爐，(下稱箱式爐)和推桿式連續(xù)滲碳淬火爐(下稱連續(xù)爐)三種。

1、井式爐：投資少，執(zhí)處理質(zhì)量不穩(wěn)定，全部人工作業(yè)勞動條件差，生產(chǎn)能力小，適合小批量生產(chǎn)。

2、多用爐：投資中等，熱處理質(zhì)量穩(wěn)定，全電腦控制，自動化作業(yè)，操作人員少，工作環(huán)境好。多用爐是間隙式生產(chǎn)，與井式爐相同，熱處理技術(shù)要求不同的產(chǎn)品可以分開生產(chǎn)，可以滲碳、軟氮化、調(diào)質(zhì)等多用途作業(yè)，既可以大批量生產(chǎn)，又可中批量生產(chǎn)，生產(chǎn)能力比井式爐高，比連續(xù)爐低。

3、連續(xù)爐：投資大，裝機(jī)容量大，熱處理質(zhì)量穩(wěn)定，全電腦控制，自動化作業(yè)，不間斷連續(xù)生產(chǎn)。熱處理技術(shù)要求相同的產(chǎn)品操作簡單，熱處理技術(shù)要求不同的產(chǎn)品要進(jìn)行復(fù)雜的區(qū)分和調(diào)整。適用于大批量生產(chǎn)，生產(chǎn)能力是三種滲碳爐中最大的。同時利于解決薄壁零件采用壓淬工藝防止熱處理變形大的問題。 作為主機(jī)配套產(chǎn)品，應(yīng)選用多用爐或連續(xù)爐，井式爐基本不選用。