格式:pdf
大?。?span id="bbjgium" class="single-tag-height">135KB
頁數(shù): 未知
評分: 4.7
S波段500WRF器件2729GN~500越于碳化硅襯底氮化鎵(GaN on SiC)技術,新器件瞄準大功率空中交通管制機場監(jiān)視雷達(ASR)應用,ASR用于監(jiān)視和控制在機場大約100英里范圍的飛機。
薄膜晶體管是一種絕緣柵場效應晶體管.它的工作狀態(tài)可以利用 Weimer 表征的單晶硅 MOSFET 工作原理來描 述.以 n 溝 MOSFET 為例,物理結構如圖 2. 當柵極施以正電壓時,柵壓在柵絕緣層中產(chǎn)生電場,電力線由柵電極指向半導體表面,并在表面處產(chǎn)生感應電 荷.隨著柵電壓增加,半導體表面將由耗盡層轉(zhuǎn)變?yōu)殡娮臃e累層,形成反型層.當達到強反型時(即達到開啟電壓 時) ,源,漏間加上電壓就會有載流子通過溝道.當源漏電壓很小時,導電溝道近似為一恒定電阻,漏電流隨源漏電 壓增加而線性增大. 當源漏電壓很大時,它會對柵電壓產(chǎn)生影響,使得柵絕緣層中電場由源端到漏端逐漸減弱,半導體表面反型層 中電子由源端到漏端逐漸減小,溝道電阻隨著源漏電壓增大而增加.漏電流增加變得緩慢,對應線性區(qū)向飽和區(qū)過 渡.當源漏電壓增到一定程度,漏端反型層厚度減為零,電壓在增加,器件進入飽和區(qū).在實際 LCD 生產(chǎn)中,主 要利用 a-Si:H TFT 的開態(tài)(大于開啟電壓)對像素電容快速充電,利用關態(tài)來保持像素電容的電壓,從而實現(xiàn)快 速響應和良好存儲的統(tǒng)一.
計算機包含有無數(shù)個晶體管,僅僅CPU內(nèi)就有不下10億個晶體管,這些小的晶體管通過打開和關閉來提供用0和1表示的二進制指令,從而讓我們能夠發(fā)送郵件、觀看視頻、移動鼠標等。晶體管使用的技術名叫“場效應”——通過該效應,電壓誘導一個電子隧道來激活晶體管,但是,場效應技術正在慢慢達到其極限,尤其在降低能耗方面已經(jīng)沒有什么施展的空間了。
不過,隧道場效應晶體管技術則基于迥然不同的原理。在隧道場效應晶體管中,兩個小槽被一個能量勢壘分開。在第一個小槽中,一大群電子在靜靜等待著,晶體管沒有被激活,當施加電壓時,電子就會通過能量勢壘并且移入第二個小槽內(nèi),同時激活晶體管。
根據(jù)量子理論,有些電子縱使明顯缺乏足夠的能量來穿過能量勢壘,它們也能做到這一點,這就是量子隧道效應。通過減少能量勢壘的幅度,增強并利用量子效應將成為可能,因此,電子穿過勢壘所需要的能量會大大減少,晶體管的能耗也會因此而顯著下降。
通常簡稱功率晶體管。 其中大容量型又稱巨型晶體管,簡稱GTR。功率晶體管一般為功率集成器件,內(nèi)含數(shù)十至數(shù)百個晶體管單元。圖1是功率晶體管的符號,其上e、b、c分別代表發(fā)射極、基極和集電極。按半導體的類型,器件被分成NPN型和PNP型兩種,硅功率晶體管多為前者。